JP5716696B2 - 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記基板に、酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第1ノズルブロックと、この第1ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第1移動機構とを備えた第1処理液供給部と、
前記基板に、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第2ノズルブロックと、この第2ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第2移動機構とを備えた第2処理液供給部と、
前記第1ノズルブロック及び第2ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックから基板へ薬液を供給するときは他方側のノズルブロックを退避位置へ退避させておくことと、一方側のノズルブロックから基板へリンス液を供給しているときに他方側のノズルブロックを処理位置へ移動させることと、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することと、前記他方側のノズルブロックから薬液を供給するときは前記一方側のノズルブロックを退避位置に退避させておくことと、を実行する制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記制御部は、前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ退避を開始すること、を実行する制御信号を出力すること。
(b)前記制御部が、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することを実行する制御信号を出力することには、当該制御部が、前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板へのリンス液の供給を開始するように制御信号を出力する場合を含むこと。
(c)前記制御部は、前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる制御信号を出力すること。
(d)前記第1ノズルブロックと第2ノズルブロックから供給されたリンス液が前記基板の表面に到達する位置が同じ位置になるように、前記第1ノズルブロックと第2ノズルブロックとの吐出方向が設定されていること。
(e)前記第1ノズルブロックまたは第2ノズルブロックは、薬液及びリンス液を供給するノズルが共通であること。また、前記第1ノズルブロックは、リンス液を乾燥させる際に基板に供給される乾燥液を供給するためのノズルを備えていること。
また、支持プレート21の外方には、支持ピン23によって支持されたウエハWをその周縁及び斜め上方側から覆うためのカップ11が設けられている。
また背景技術にて説明したように、酸性の薬液及びアルカリ性の薬液を各々専用のノズル41、51を用いてウエハWの表面(上面)に供給する構成となっている。以下、これらのノズル41、51を含む処理液供給部の構成について説明する。
以下、図4〜図11を参照しながら、当該液処理装置の作用について説明する。ここで図4は、ウエハWに供給される処理液(薬液及びDIW)の切り替え順序と、各処理液の供給時に使用されるノズル41、51との対応関係を模式的に示している。また、図5〜図10の各図においては、DHF供給部62を酸性薬液供給部601として表示し、SC−1供給部64をアルカリ性薬液供給部602として表示することにより総括的な表記を行っている。
また、この場合には第1ノズル41は、第2ノズル51が処理位置に到達するのを待つ必要はなく、第2ノズル51がウエハWの上方に進入できるよう、DIWを供給した後、直ちに退避動作を開始してもよい。
ウエハWに供給する処理液を(1)DHF→(2)DIW→(3)SC−1→(4)DIWと切り替えて液処理を行い、(2)と(3)の間の切替時間(空白時間)を、0.3秒、0.7秒、1.2秒、1.5秒、3秒、5秒と変化させて、ウエハW表面に残存する直径40nm以上のパーティクルの個数を測定した。
A.実験条件
(参考例1)ウエハWの回転数を300rpmとした。
(参考例2)ウエハWの回転数を500rpmとした。
(参考例3)ウエハWの回転数を1000rpmとした。
(参考例1)〜(参考例3)の実験結果をプロットしたグラフを図13に示す。図13の横軸は上述の切替時間、縦軸は直径40nm以上のパーティクルの個数を対数表示してある。(参考例1)を黒丸のプロット、(参考例2)を白丸のプロット、(参考例3)を黒塗りの三角のプロットで示す。
A.実験条件
図14に示すように、第1ノズル41b、第2ノズル51bからDIWを吐出する向きを鉛直方向下向きに変え、これらのノズル41b、51bからDIWを同時に供給してリンス処理を行った後、ウエハW表面のパーティクルを観察した。両ノズル41b、51bの中心間の間隔は10mmである。
リンス処理を行っている期間中にウエハWの表面を観察した様子を図15に示す。各ノズル41a、51bから、異なる位置にDIWを供給した場合には、各々のノズル41a、51bから供給されたDIWが回転するウエハW表面に拡がり、双方のDIWが合流する合流領域が形成された。
但し、図14に示すように、DIWがウエハWの表面で交差しない方向に第1ノズル41b、第2ノズル51bが設けられている場合であっても、酸性の薬液とアルカリ性の薬液を供給するノズル41b、51bを分け、図5〜図10に例示した手法によりノズル41b、51bの交換、処理液の切り替えを行うことにより、共通のノズルから酸性、アルカリ性の薬液を供給する場合に比べて、クロスコンタミネーションを低減する効果が得られることは勿論である。
V1〜V5 開閉バルブ
W ウエハ
41、41b
第1ノズル
42 ノズルブロック
43 ノズルアーム
44 回転軸
45 駆動部
51、51b
第2ノズル
52 ノズルブロック
53 ノズルアーム
54 回転軸
55 駆動部
601 酸性薬液供給部
602 アルカリ性薬液供給部
61 IPA供給部
62 DHF供給部
63 DIW供給部
64 SC−1供給部
7 制御部
Claims (13)
- 水平に保持され、回転する基板に、酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置において、
前記基板に、酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第1ノズルブロックと、この第1ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第1移動機構とを備えた第1処理液供給部と、
前記基板に、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第2ノズルブロックと、この第2ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第2移動機構とを備えた第2処理液供給部と、
前記第1ノズルブロック及び第2ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックから基板へ薬液を供給するときは他方側のノズルブロックを退避位置へ退避させておくことと、一方側のノズルブロックから基板へリンス液を供給しているときに他方側のノズルブロックを処理位置へ移動させることと、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することと、前記他方側のノズルブロックから薬液を供給するときは前記一方側のノズルブロックを退避位置に退避させておくことと、を実行する制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記制御部は、前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ退避を開始すること、を実行する制御信号を出力することを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記制御部が、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することを実行する制御信号を出力することには、当該制御部が、前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板へのリンス液の供給を開始するように制御信号を出力する場合を含むことを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記制御部は、前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる制御信号を出力することを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第1ノズルブロックと第2ノズルブロックから供給されたリンス液が前記基板の表面に到達する位置が同じ位置になるように、前記第1ノズルブロックと第2ノズルブロックとの吐出方向が設定されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記第1ノズルブロックまたは第2ノズルブロックは、薬液及びリンス液を供給するノズルが共通であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記第1ノズルブロックは、リンス液を乾燥させる際に基板に供給される乾燥液を供給するためのノズルを備えていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第1ノズルブロックと、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第2ノズルブロックと、を用い、水平に保持され、回転する基板に酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより前記基板の液処理を行う液処理方法において、
前記第1ノズルブロック及び第2ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックを基板上方の処理位置へ移動させ薬液を供給する工程と、
次いで前記一方側のノズルブロックから供給する薬液をリンス液の供給に切り替える工程と、
その後他方側のノズルブロックを基板側方の退避位置より基板上方の処理位置に移動させる工程と、
しかる後、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液を供給する工程と、
次に、前記一方側のノズルブロックを基板上方の処理位置から退避位置へ移動開始させる工程と、
この一方側のノズルブロックが基板上方から退避した後、前記他方側のノズルから薬液を供給する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ移動開始する工程を含むことを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液を供給する工程が、前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板へのリンス液の供給を開始する工程である場合を含むことを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる工程を含むことを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 前記第1ノズルブロック及び第2ノズルブロックの両方のノズルブロックから供給するリンス液を前記基板表面の同じ位置に供給する工程を含むことを特徴とする請求項8ないし11のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 水平に保持され、回転する基板の表面に、酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納したコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項8ないし12のいずれか一つに記載された液処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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