JP2013183140A5 - 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents

Description

本発明に係る液処理装置は、水平に保持され、回転する基板に、酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置において、
前記基板に、酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第１ノズルブロックと、この第１ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第１移動機構とを備えた第１処理液供給部と、
前記基板に、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第２ノズルブロックと、この第２ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第２移動機構とを備えた第２処理液供給部と、
前記第１ノズルブロック及び第２ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックから基板へ薬液を供給するときは他方側のノズルブロックを退避位置へ退避させておくことと、一方側のノズルブロックから基板へリンス液を供給しているときに他方側のノズルブロックを処理位置へ移動させることと、前記他方側のノズルブロックから薬液を供給するときは前記一方側のノズルブロックを退避位置に退避させておくことと、を実行する制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。

上述の液処理装置は以下の特徴を備えていてもよい。
（ａ）前記制御部は、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することを実行する制御信号を出力すること。
（ｂ）前記制御部は、前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ退避を開始すること、を実行する制御信号を出力すること。
（ｃ）前記制御部は、前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板への処理液の供給を開始するように制御信号を出力すること。
（ｄ）前記制御部は、前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる制御信号を出力すること。
（ｅ）前記第１ノズルブロックと第２ノズルブロックから供給されたリンス液が前記基板の表面に到達する位置が同じ位置になるように、前記第１ノズルブロックと第２ノズルブロックとの吐出方向が設定されていること。
（ｆ）前記第１ノズルブロックまたは第２ノズルブロックは、薬液及びリンス液を供給するノズルが共通であること。また、前記第１ノズルブロックは、リンス液を乾燥させる際に基板に供給される乾燥液を供給するためのノズルを備えていること。

回転軸２２の下端側にはプーリ３３が設けられており、このプーリ３３の側方には回転モータ３１が配置されている。これらプーリ３３と回転モータ３１の回転軸とに駆動ベルト３２を捲回することにより、支持プレート２１上のウエハＷを鉛直軸周りに回転させる回転駆動機構３０を構成している。また、回転軸２２は、ベアリング３４を介して当該液処理装置が配置された筐体の床板１２に固定されている。

このように、まだ第１ノズル４１が処理位置にいる時点で第２ノズル５１の移動を開始することにより、クロスコンタミネーションの回避を目的として、第１ノズル４１がウエハＷ上から退避するまで第２ノズル５１の移動を開始しない場合、またはリンス停止後に移動する場合に比べて、ノズル４１、５１の交換に要する時間を短縮できる。

本実施の形態に係わる液処理装置によれば以下の効果がある。酸性の薬液を供給する第１ノズル４１と、アルカリ性の薬液を供給する第２ノズル５１とを用いて、回転するウエハＷの表面にこれらの薬液を切り替えて供給するにあたり、第１ノズル４１（または第２ノズル５１）が処理位置にて薬液を供給しているとき、第２ノズル５１（または第１ノズル４１）はウエハＷの上方から退避している。また、薬液の切り替えを行うときには、両ノズル４１、５１のうち、第１ノズル４１からウエハＷの中央部へ供給される処理液がＤＨＦからＤＩＷに切り替わったら、第２ノズル５１をウエハＷ上に位置させるので、それぞれのノズル４１、５１やその移動機構（ノズルブロック４２、５２、ノズルアーム４３、５３等）に、酸性、アルカリ性の両薬液の蒸気やミストが付着しにくく、クロスコンタミネーションの発生を抑えることができる。

また処理位置のノズル交換時において、第１ノズル４１及び第２ノズル５１からのＤＩＷの同時供給が行われず、ウエハＷの中央部にＤＩＷが供給されない空白時間が発生したとしてもよい。例えば、第１ノズル４１からのＤＩＷの供給を停止した後、ＤＩＷで覆われていない状態のウエハＷの表面が露出する前、例えば前記空白時間が０．３秒以内となる程度のタイミングで第２ノズル５１からのＤＩＷの供給を開始してもよい。この結果、実質的にＤＩＷが連続供給されたものとみなしてよい程度に、パーティクルの発生を抑えることができる。

Claims (15)

1. 水平に保持され、回転する基板に、酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置において、
   前記基板に、酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第１ノズルブロックと、この第１ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第１移動機構とを備えた第１処理液供給部と、
   前記基板に、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第２ノズルブロックと、この第２ノズルブロックを基板上方の処理位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第２移動機構とを備えた第２処理液供給部と、
   前記第１ノズルブロック及び第２ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックから基板へ薬液を供給するときは他方側のノズルブロックを退避位置へ退避させておくことと、一方側のノズルブロックから基板へリンス液を供給しているときに他方側のノズルブロックを処理位置へ移動させることと、前記他方側のノズルブロックから薬液を供給するときは前記一方側のノズルブロックを退避位置に退避させておくことと、を実行する制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする液処理装置。
2. 前記制御部は、前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液の供給を開始することを実行する制御信号を出力することを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
3. 前記制御部は、前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ退避を開始すること、を実行する制御信号を出力することを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
4. 前記制御部は、前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板への処理液の供給を開始するように制御信号を出力することを特徴とする請求項１または２に記載の液処理装置。
5. 前記制御部は、前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる制御信号を出力することを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
6. 前記第１ノズルブロックと第２ノズルブロックから供給されたリンス液が前記基板の表面に到達する位置が同じ位置になるように、前記第１ノズルブロックと第２ノズルブロックとの吐出方向が設定されていることを特徴とする請求項２ないし５のいずれか一つに記載の液処理装置。
7. 前記第１ノズルブロックまたは第２ノズルブロックは、薬液及びリンス液を供給するノズルが共通であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の液処理装置。
8. 前記第１ノズルブロックは、リンス液を乾燥させる際に基板に供給される乾燥液を供給するためのノズルを備えていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の液処理装置。
9. 酸性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第１ノズルブロックと、アルカリ性の薬液及びリンス液を供給するためのノズルを備えた第２ノズルブロックと、を用い、水平に保持され、回転する基板に酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより前記基板の液処理を行う液処理方法において、
   前記第１ノズルブロック及び第２ノズルブロックのうち、一方側のノズルブロックを基板上方の処理位置へ移動させ薬液を供給する工程と、
   次いで前記一方側のノズルブロックから供給する薬液をリンス液の供給に切り替える工程と、
   その後他方側のノズルブロックを基板側方の退避位置より基板上方の処理位置に移動させる工程と、
   前記他方側のノズルブロックを基板上方の処理位置に位置させた後、前記一方側のノズルブロックを基板上方の処理位置から退避位置へ移動開始させる工程と、
   この一方側のノズルブロックが基板上方から退避した後、前記他方側のノズルから薬液を供給する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。
10. 前記一方側のノズルブロックからリンス液を供給しているときに処理位置にて前記他方側のノズルブロックからリンス液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
11. 前記他方側のノズルブロックからリンス液を基板へ供給しているときに前記一方側のノズルブロックが退避位置へ移動開始する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の液処理方法。
12. 前記一方側のノズルブロックからリンス液の供給を停止するにあたり、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止した後、リンス液で覆われていない状態の基板の表面が露出する前に、処理位置にて前記他方側のノズルブロックから基板への処理液の供給を開始する工程を含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の液処理方法。
13. 前記一方側のノズルブロックと前記他方側のノズルブロックとが両方同時にリンス液の供給をした後、前記一方側のノズルブロックからのリンス液の供給を停止させる工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の液処理方法。
14. 前記第１ノズルブロック及び第２ノズルブロックの両方のノズルブロックから供給するリンス液を前記基板表面の同じ位置に供給する工程を含むことを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか一つに記載の液処理方法。
15. 水平に保持され、回転する基板の表面に、酸性の薬液、アルカリ性の薬液及びリンス液を切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納したコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
    前記プログラムは請求項９ないし１４のいずれか一つに記載された液処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。