JP4286615B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
48 二流体ノズル
69 超音波ノズル
78 酸性処理液の供給機構
80 ノズル
81 内部混合型の二流体ノズル
91 制御部
W ウエハ
Claims (9)
- 基板処理方法であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の工程の後に、基板に対して酸性の処理液を供給する第2の工程と、
前記第2の工程の後に、基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第3の工程と、
を含み、
前記3つの工程のうち、前記第1の工程および前記第3の工程におけるアルカリ性の処理液の供給のみが、当該処理液と気体とを混合して生成される二流体ノズルを用いた液滴の噴射であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理方法であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の工程の後に、基板に対する酸性の処理液の供給とその後のアルカリ性の処理液の供給とを繰り返し行う第2の工程と、
を含み、
前記第1の工程における前記アルカリ性の処理液の供給は、当該処理液と気体とを混合して生成される二流体ノズルを用いた液滴の噴射であり、
前記第2の工程における酸性の処理液の供給とアルカリ性の処理液の供給のうち、アルカリ性の処理液の供給のみが、当該処理液と気体とを混合して生成される二流体ノズルを用いた液滴の噴射であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4に記載の基板処理方法であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項4または請求項5に記載の基板処理方法であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1供給手段と、
基板に対して酸性の処理液を供給する第2供給手段と、
前記第1供給手段によるアルカリ性の処理液の供給と、前記第2供給手段による酸性の処理液の供給と、前記第1供給手段によるアルカリ性の処理液の供給とを順に行うように、前記第1供給手段と前記第2供給手段とを制御する制御手段と、
を備え、
前記第1供給手段と前記第2供給手段のうちの前記第1供給手段のみが、アルカリ性の処理液の液滴を噴射する二流体ノズルを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7または請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理装置。
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