JP5131916B2 - ペリクル接着剤残渣の除去方法 - Google Patents
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Description
露光装置内で発生したパーティクル等の異物がマスクのパターン上に到達すると、ウェーハ上の投影パターンに異常を引き起こし、異物がマスク上に留まっている限り、不良パターンが作製され続けるという重大な問題を引き起こすため、現在フォトマスクの保護には、ペリクルと呼ばれる薄い有機膜がマスク上のパターンから数mm離れた位置で周辺のフレームを介して貼られている(図1(a)参照)。
また、ペリクルの接着剤としてはアクリル系の樹脂が一般に用いられるが、このアクリル系の樹脂からはアウトガスが発生する懸念があり、先端デバイス作製において問題を引き起こす可能性がある。化学的に安定な接着剤としてはシリコーン系の樹脂があるが、シリコーン樹脂は、一般に各種の薬品や過酷な環境下においても安定な材料として知られており、本目的にも最適な接着剤といえる。
またシリコーン樹脂は、紫外線を浴びるに従い、ガラス化することも知られており、ガラス化により更に除去が難しくなるという一面もある。
このように化学的に安定な材料のため、残存すると除去がしにくく、また微細なパターンを有するマスクには、残存する残渣を除去するためとはいえ、パターンの形状を変えてしまうような方法(フッ化水素処理等:石英を溶解)を採用することができない。
従来、ペリクル枠脱着時にペリクル枠とフォトマスクとの間に温度差を設け、フォトマスクを高温に、ペリクル枠を低温とすることで、糊の残渣をフォトマスク側に残存させない剥離方法も提案されている(特許文献1参照)が、接着剤がシリコーン樹脂の場合は、高温・低温に対して安定な性質を有するため、剥離方法としては有効ではない。
ammonium hydroxide)でアルカリ高温処理を行う。これのみでは残渣はほとんど除去することができず外見上も大きな変化はないが、この後に硫酸等の酸で高温処理することで残渣を完全に取り除くという方法である。
以下に、添付図面をも参照しながら、本発明を具体的に説明する。
ペリクル膜2がペリクルフレーム3に固定されたものであるペリクル1は、マスク基板(石英基板)4上に形成されているマスクパターン(金属パターン)5を覆うように、ペリクル接着剤6によってマスク基板4に接着されている(図1(a))。マスク基板4からペリクル1を剥離すると、ペリクル接着剤6の一部は、接着剤残渣7として残存ずる(図1(c))。
マスク基板4上に残存ずる接着剤残渣7の有無・量は、例えば、図2に示す測定法によって確認され得る。図2に示す測定法によれば、離接間隔を測定する近接距離センサーを備えた離接距離測端子8をペリクル接着跡9を横切ってスキャンすることによって確認される。
石英製のマスク基板表側にシリコーン樹脂を介してペリクルのフレームを貼り付け、石英基板の裏面より接着面に紫外線を照射した。この後にフレームを石英基板より剥がし、残渣除去のために以下の処理を施した。
参考:処理なし
処理1:80℃ 30%硫酸処理30分のみ
処理2:5質量%NH4OH処理10分(80℃)+30% 硫酸処理30分(80℃)
処理3:5質量%NH4OH処理30分(80℃)+30%硫酸処理30分(80℃)
処理4:5質量%NH4OH処理120分(80℃)+30%硫酸処理30分(80℃)
実験例1と同様の実験を、アンモニアの替わりにTMAHを用いて、行った。その結果、TMAHの濃度が3質量%、温度が80℃、処理時間4時間の際に残渣が観察されなくなった。
基本的に本発明においては、アルカリ処理、硫酸処理において、希釈溶液、低温処理でも効果はあるが、この場合、非常な長時間処理が必要となり現実的ではない。現実的な範囲として、アンモニアの濃度・温度は1質量%以上、50℃以上とし、TMAHは0.5質量%以上、50℃以上とした。また硫酸の濃度・温度は1質量%以上、50℃以上が経験的に妥当と考えられる。
2:ペリクル膜
3:ペリクルフレーム
4:マスク基板
5:マスクパターン(金属パターン)
6:ペリクル接着剤
7:接着剤残渣
8:離接距離測端子
9:フレーム跡
Claims (4)
- シリコーン樹脂を用いて接着したペリクルフレームの剥離後の残渣を、濃度が0.5質量%以上3質量%以下、温度が50℃以上80℃以下であるTMAH溶液で処理を行った後に、硫酸を含む酸溶液で処理することにより除去することを特徴とするペリクル接着剤残渣の除去方法。
- 硫酸溶液の濃度が、5質量%以上30質量%以下である請求項1に記載のペリクル接着剤残渣の除去方法。
- 硫酸溶液による温度が50℃以上80℃以下である請求項2に記載のペリクル接着剤残渣の除去方法。
- 硫酸溶液に30質量%の過酸化水素水を体積比で1〜50%添加する請求項2または請求項3に記載のペリクル接着剤残渣の除去方法。
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