JP2005064375A - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハに対して、アルカリ性処理液の液滴の噴射(ステップS2)、酸性処理液の供給(ステップS3)、アルカリ性処理液の液滴の噴射(ステップS4)を順に実行する。ウエハ表面に付着したパーティクルは、酸性処理液による基板表面のエッチングと、液滴の噴射または超音波振動の物理的作用とを組み合わせることによって、効果的にかつ短時間で除去される。ウエハ表面に付着した金属汚染物質は、アルカリ性処理液により水酸化物に変化させた後、酸性処理液により溶解させることができるため、効果的にかつ短時間で除去される。また、主に基板表面のエッチングによってパーティクルや金属汚染物質を除去する場合と異なり、基板表面のエッチング量を抑えることができる。
【選択図】図5
Description
48 二流体ノズル
69 超音波ノズル
78 酸性処理液の供給機構
80 ノズル
81 内部混合型の二流体ノズル
91 制御部
W ウエハ
Claims (11)
- 基板処理方法であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の工程の後に、基板に対して酸性の処理液を供給する第2の工程と、
前記第2の工程の後に、基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第3の工程と、
を含み、
少なくとも前記第2の工程における処理液の供給と前記第3の工程における処理液の供給のいずれか一方は、当該処理液と気体とを混合して生成される液滴の噴射、または超音波振動を付与した当該処理液の供給であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記3つの工程のうち前記第1の工程および前記第3の工程におけるアルカリ性の処理液の供給のみが、当該処理液と気体とを混合して生成される液滴の噴射、または超音波振動を付与した当該処理液の供給であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の基板処理方法であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理方法であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の工程の後に、基板に対する酸性の処理液の供給とその後のアルカリ性の処理液の供給とを繰り返し行う第2の工程と、
を含み、
少なくとも前記第2工程における1回の処理液の供給は、当該処理液と気体とを混合して生成される液滴の噴射、または超音波振動を付与した当該処理液の供給であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項5に記載の基板処理方法であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項5または請求項6に記載の基板処理方法であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に対してアルカリ性の処理液を供給する第1供給手段と、
基板に対して酸性の処理液を供給する第2供給手段と、
前記第1供給手段によるアルカリ性の処理液の供給と、前記第2供給手段による酸性の処理液の供給と、前記第1供給手段によるアルカリ性の処理液の供給とを順に行うように、前記第1供給手段と前記第2供給手段とを制御する制御手段と、
を備え、
前記第1供給手段と前記第2供給手段のうちの少なくとも一方は、アルカリ性の処理液の液滴を噴射する二流体ノズル、または超音波振動を付与したアルカリ性の処理液を供給する超音波ノズルを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記第1供給手段と前記第2供給手段のうち前記第1供給手段のみが、アルカリ性の処理液の液滴を噴射する二流体ノズル、または超音波振動を付与したアルカリ性の処理液を供給する超音波ノズルを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8または請求項9に記載の基板処理装置であって、
前記アルカリ性の処理液は、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8から請求項10までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記酸性の処理液は、塩酸とフッ酸とを含む混合溶液であることを特徴とする基板処理装置。
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