JP2010192470A5 - - Google Patents
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Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、被計測面の形状を計測する計測装置であって、光源からの光を計測光と参照光とに分離して、前記計測光を前記被計測面に入射させ、前記参照光を参照面に入射させる光学系と、前記被計測面で反射した前記計測光と、前記参照面で反射した前記参照光と、前記被計測面で反射した前記計測光と前記参照面で反射した前記参照光との干渉光とを検出する検出部と、前記検出部によって検出された干渉光の干渉信号に基づいて、前記被計測面の形状を算出する処理部と、を有し、前記処理部は、前記検出部によって検出された前記計測光の光強度、及び、前記参照光の光強度に基づいて、前記検出部によって検出された前記干渉光の干渉信号に含まれる前記光源からの光の光量ばらつきによる影響を低減して、前記被計測面の形状を算出することを特徴とする。
Claims (8)
- 被計測面の形状を計測する計測装置であって、
光源からの光を計測光と参照光とに分離して、前記計測光を前記被計測面に入射させ、前記参照光を参照面に入射させる光学系と、
前記被計測面で反射した前記計測光と、前記参照面で反射した前記参照光と、前記被計測面で反射した前記計測光と前記参照面で反射した前記参照光との干渉光とを検出する検出部と、
前記検出部によって検出された干渉光の干渉信号に基づいて、前記被計測面の形状を算出する処理部と、
を有し、
前記処理部は、前記検出部によって検出された前記計測光の光強度、及び、前記参照光の光強度に基づいて、前記検出部によって検出された前記干渉光の干渉信号に含まれる前記光源からの光の光量ばらつきによる影響を低減して、前記被計測面の形状を算出することを特徴とする計測装置。 - 前記処理部は、前記検出部の検出面において、前記計測光のみが入射する領域と、前記参照光のみが入射する領域と、前記計測光及び前記参照光が入射する領域とが存在するように前記被計測面又は前記参照面の位置を制御し、
前記検出部は、前記計測光のみが入射する領域で前記計測光を、前記参照光のみが入射する領域で前記参照光を、前記計測光及び前記参照光が入射する領域で前記干渉光を検出することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。 - 前記被計測面及び前記参照面と前記検出部との間に配置され、前記被計測面で反射した前記計測光と前記参照面で反射した前記参照光との合成光を分離する光学素子を更に有することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
- 前記干渉信号をＩｒ（Ｚ）、前記計測光の光強度をＭ（Ｚ）、前記参照光の光強度Ｒ（Ｚ）とすると、
前記処理部は、前記干渉信号に含まれる前記光源からの光の光量ばらつきによる影響を低減した信号Ｉｒ’’（Ｚ）を
の式に従って算出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記干渉信号をフーリエ変換して位相成分、及び、振幅成分を算出し、前記位相成分、前記振幅成分、前記計測光の光強度、及び、前記参照光の光強度に基づいて、前記干渉信号に含まれる前記光源からの光の光量ばらつきによる影響を低減した信号を算出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
- 被計測面の形状を計測する計測装置であって、
光源からの光を計測光と参照光とに分離して、前記被計測面で反射した前記計測光と参照面で反射した前記参照光とを合成する光学系と、
前記被計測面で反射した前記計測光と、前記参照面で反射した前記参照光と、前記被計測面で反射した前記計測光と前記参照面で反射した前記参照光との干渉光とを検出する検出部と、
前記検出部によって検出された干渉光の信号に基づいて前記被計測面の形状を求める処理部と、
を有し、
前記光学系は、前記被計測面で反射した前記計測光のみが入射する領域、前記参照面で反射した前記参照光のみが入射する領域、及び、前記被計測面で反射した前記計測光と前記参照面で反射した前記参照光とが重なって入射する領域を前記検出部の検出面に形成するように構成されていることを特徴とする計測装置。 - レチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、
前記基板の表面形状を計測する計測装置と、
前記計測装置によって計測された前記基板の表面形状に基づいて前記基板の位置を調整するステージとを有し、
前記計測装置は、請求項１乃至６のうちいずれか一項に記載の計測装置であることを特徴とする露光装置。 - 請求項７に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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