JP2012004461A5 - - Google Patents
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Description
上記の目的を達成するために、本発明は、基板を保持するステージと、複数の荷電粒子線を前記基板の表面に投影する投影系と、前記ステージの上に形成された基準マークと、前記基板上のマークに光を照射し前記マークからの反射光を検出して前記マークの位置を計測する第１計測器と、前記投影系を介して前記基準マークに荷電粒子線を照射し前記基準マークからの荷電粒子を検出して前記基準マークの位置を計測する第２計測器と、前記投影系の軸に沿う第１方向及び前記軸に直交する第２方向における前記ステージの位置を検出する検出器と、を備え、前記複数の荷電粒子線を用いて前記基板に描画を行う描画装置であって、前記複数の荷電粒子線のうち少なくとも一つの荷電粒子線のそれぞれについて、前記基準マークに入射する荷電粒子線の前記第１方向に対する角度を取得し、前記取得された角度が許容範囲内である一つの荷電粒子線を決定し、前記決定された荷電粒子線を用いて前記第２計測器により計測された前記基準マークの位置と前記第１計測器により計測された前記基準マークの位置とから第１計測器に関するベースラインを求める制御部を備える、ことを特徴とする。
Claims (5)
- 基板を保持するステージと、複数の荷電粒子線を前記基板の表面に投影する投影系と、前記ステージの上に形成された基準マークと、前記基板上のマークに光を照射し前記マークからの反射光を検出して前記マークの位置を計測する第１計測器と、前記投影系を介して前記基準マークに荷電粒子線を照射し前記基準マークからの荷電粒子を検出して前記基準マークの位置を計測する第２計測器と、前記投影系の軸に沿う第１方向及び前記軸に直交する第２方向における前記ステージの位置を検出する検出器と、を備え、前記複数の荷電粒子線を用いて前記基板に描画を行う描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線のうち少なくとも一つの荷電粒子線のそれぞれについて、前記基準マークに入射する荷電粒子線の前記第１方向に対する角度を取得し、前記取得された角度が許容範囲内である一つの荷電粒子線を決定し、前記決定された荷電粒子線を用いて前記第２計測器により計測された前記基準マークの位置と前記第１計測器により計測された前記基準マークの位置とから第１計測器に関するベースラインを求める制御部を備える、
ことを特徴とする描画装置。 - 前記制御部は、前記少なくとも一つの荷電粒子線のそれぞれについて、前記ステージを駆動することによって前記基準マークを前記第１方向に沿って移動させ、当該移動前後の前記ステージの前記第１方向における位置それぞれにおいて前記第２計測器により計測された前記基準マークの位置に基づいて前記角度を得る、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
- 前記制御部は、前記少なくとも一つの荷電粒子線の一部の荷電粒子線のそれぞれについて、前記ステージを駆動することによって前記基準マークを前記第１方向に沿って移動させ、当該移動前後の前記ステージの前記第１方向における位置それぞれにおいて前記第２計測器により計測された前記基準マークの位置に基づいて前記角度を得、前記少なくとも一つの荷電粒子線の残りの荷電粒子線のそれぞれについて、前記得られた角度に基づいて前記第１方向に対する角度を推定する、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
- 前記ステージの前記第１方向の駆動に対する位置決め精度をＥ、前記ベースラインの目標精度をＡとしたとき、前記許容範囲を定める前記角度の絶対値の上限値は、（Ａ／Ｅ）である、ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の描画装置。
- 請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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