JP2010185762A

JP2010185762A - 光線路監視システム

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Publication number: JP2010185762A
Application number: JP2009029794A
Authority: JP
Inventors: Yoshifumi Hishikawa; 善文菱川; Kazumasa Ozawa; 一雅小澤
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 2009-02-12
Filing date: 2009-02-12
Publication date: 2010-08-26

Abstract

【課題】複数本の光ファイバ線路を短時間に監視することができる光線路監視システムを提供する。
【解決手段】光線路監視システム１は、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを監視するものであって、光パルス試験器１２、光スイッチ１３、スプリッタ１４、光カプラ１５_１〜１５_Ｎ、光カプラ１６_１〜１６_Ｎ、制御部１７および反射部２２_１〜２２_Ｎを備える。光線路監視システム１は、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_０から選択的にスプリッタ１４へ出力することで、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを一括して簡易に監視し、故障が生じた光ファイバ線路３０_ｎを特定する。光線路監視システム１は、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_ｎから選択的に光カプラ１５_ｎへ出力することで、特定の光ファイバ線路３０_ｎにおける故障位置を判定する。
【選択図】図１

Description

本発明は、光線路監視システムに関するものである。

ＯＴＤＲ（Optical Time Domain Reflectometry）技術を用いた光線路監視システムは、光パルス試験器から出力されるパルス試験光を光ファイバ線路の一端側に導入して該光ファイバ線路にパルス試験光を伝搬させ、そのパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光を上記一端側から取り出して光パルス試験器により受光し、その受光した後方散乱光の強度の時間変化に基づいて光ファイバ線路を監視する。

もし、監視対象の光ファイバ線路が断線していると、その断線位置でパルス試験光が反射されて後方散乱光となるので、その断線位置に対応する時刻における後方散乱光が強くなる。すなわち、光パルス試験器により受光した後方散乱光の強度の時間変化に基づいて、光ファイバ線路における故障の有無を検出することができ、また、光ファイバ線路における故障位置を検出することができる。

ＮＴＴ技術ジャーナル、２００６年１２月号、５８頁から６１頁

従来の光線路監視システムは、複数本の光ファイバ線路を監視する場合に、一本ずつ順次に各光ファイバ線路にパルス試験光を伝搬させる必要があることから、監視に要する時間が長かった。

本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、複数本の光ファイバ線路を短時間に監視することができる光線路監視システムを提供することを目的とする。

本発明に係る光線路監視システムは、Ｎ本の光ファイバ線路それぞれにパルス試験光を伝搬させて、そのパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光の強度の時間変化に基づいてＮ本の光ファイバ線路を監視するシステムであって、(1) パルス試験光を出力するとともに、後方散乱光を入力して、後方散乱光の強度の時間変化を検出する光パルス試験器と、(2) ポートＰおよびポートＰ_０〜Ｐ_Ｎを有し、光パルス試験器から出力されたパルス試験光をポートＰに入力して、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちの選択された一つからパルス試験光を出力する光スイッチと、(3) 光スイッチのポートＰ_０から出力されたパルス試験光を入力して、このパルス試験光をＮ分岐して出力するスプリッタと、(4) スプリッタによりパルス試験光がＮ分岐されて出力された光のうちの第ｎ分岐パルス試験光、および、光スイッチのポートＰ_ｎから出力されたパルス試験光の何れかを、Ｎ本の光ファイバ線路のうちの第ｎ光ファイバ線路に伝搬させる光結合部と、(5) Ｎ本の光ファイバ線路それぞれに設けられ、その設置位置と光パルス試験器との間の光路長が互いに異なり、パルス試験光を反射させる反射部と、を備えることを特徴とする。ただし、Ｎは２以上の整数であり、ｎは１以上Ｎ以下の各整数である。

さらに、本発明に係る光線路監視システムは、(a) 光スイッチがポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_０から選択的に出力するときに、光スイッチのポートＰ_０からスプリッタおよび光結合部を経てＮ本の光ファイバ線路にパルス試験光を伝搬させ、Ｎ本の光ファイバ線路で生じた後方散乱光が光結合部，スプリッタおよび光スイッチを経て光パルス試験器に入力されて、この後方散乱光の強度の時間変化に基づいてＮ本の光ファイバ線路を監視し、(b) 光スイッチがポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_ｎから選択的に出力するときに、光スイッチのポートＰ_ｎから光結合部を経て第ｎ光ファイバ線路にパルス試験光を伝搬させ、第ｎ光ファイバ線路で生じた後方散乱光が光結合部および光スイッチを経て光パルス試験器に入力されて、この後方散乱光の強度の時間変化に基づいて第ｎ光ファイバ線路を監視することを特徴とする

本発明に係る光線路監視システムでは、反射部は、Ｎ本の光ファイバ線路のうち何れかの光ファイバ線路の遠端に設けられ、第１ポート，第２ポートおよび第３ポートを有し、第１ポートが光ファイバ線路の遠端に接続され、第１ポートに入力された光を第２ポートから出力し、第３ポートに入力された光を第１ポートから出力する光カプラと、光カプラの第２ポートと第３ポートとの間を光学的に接続する光導波路と、を含むことが好ましい。

本発明によれば、複数本の光ファイバ線路を短時間に監視することができる。

本実施形態に係る光線路監視システム１の構成図である。本実施形態に係る光線路監視システム１Ａの構成図である。本実施形態に係る光線路監視システム１Ａにおける各反射部２３_ｎの構成図である。

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

図１は、本実施形態に係る光線路監視システム１の構成図である。この図に示される光線路監視システム１は、センタ１０と施設２０_１〜２０_Ｎとの間に敷設された光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを監視するものである。各光ファイバ線路３０_ｎは、センタ１０内の伝送装置１１_ｎと施設２０_ｎ内の伝送装置２１_ｎとの間で信号光を伝送する。なお、Ｎは２以上の整数であり、ｎは１以上Ｎ以下の各整数である。

光線路監視システム１は、光パルス試験器１２、光スイッチ１３、スプリッタ１４、光カプラ１５_１〜１５_Ｎ、光カプラ１６_１〜１６_Ｎ、制御部１７および反射部２２_１〜２２_Ｎを備える。これらのうち、光パルス試験器１２、光スイッチ１３、スプリッタ１４、光カプラ１５_１〜１５_Ｎ、光カプラ１６_１〜１６_Ｎおよび制御部１７は、センタ１０内に設けられる。また、各反射部２２_ｎは施設２０_ｎ内に設けられる。また、スプリッタ１４および光カプラ１５_１〜１５_Ｎはモジュール１００として一体化されているのが好適である。

光パルス試験器１２は、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎに伝搬させるべきパルス試験光を光スイッチ１３へ出力する。また、光パルス試験器１２は、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎにおいてパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光を光スイッチ１３から入力して、この後方散乱光の強度の時間変化に基づいて光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを監視する。

光スイッチ１３は、ポートＰおよびポートＰ_０〜Ｐ_Ｎを有する。ポートＰは、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちから選択される一つと光学的に接続される。光スイッチ１３は、光パルス試験器１２から出力されたパルス試験光をポートＰに入力して、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちの選択された一つからパルス試験光を出力する。また、光スイッチ１３は、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちの選択された一つに入力された後方散乱光を、ポートＰから光パルス試験器１２へ出力する。

光スイッチ１３は、例えば、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎに相当し並列配置された(Ｎ＋１)本の光ファイバの端面がＶ溝に位置固定されていて、ポートＰに相当する光ファイバの端面が移動可能な構成とされている。そして、光スイッチ１３は、ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎに相当する(Ｎ＋１)本の光ファイバのうちから選択された何れかの光ファイバの端面に、ポートＰに相当する光ファイバの端面が対向することで、光路の切替が可能である。

スプリッタ１４は、光スイッチ１３のポートＰ_０から出力されたパルス試験光を入力し、このパルス試験光をＮ分岐して光カプラ１５_１〜１５_Ｎへ出力する。また、スプリッタ１４は、光カプラ１５_１〜１５_Ｎから出力された後方散乱光を入力して、この後方散乱光を光スイッチ１３のポートＰ_０へ出力する。

各光カプラ１５_ｎは、スプリッタ１４によりパルス試験光がＮ分岐されて出力された光のうちの第ｎ分岐パルス試験光、および、光スイッチ１３のポートＰ_ｎから出力されたパルス試験光の何れかを、光カプラ１６_ｎへ出力する。また、各光カプラ１５_ｎは、光カプラ１６_ｎから出力された後方散乱光を入力して、この後方散乱光をスプリッタ１４および光スイッチ１３のポートＰ_ｎへ出力する。

各光カプラ１６_ｎは、光カプラ１５_ｎから出力されたパルス試験光を入力して、このパルス試験光を光ファイバ線路３０_ｎに伝搬させる。また、各光カプラ１６_ｎは、光ファイバ線路３０_ｎで生じた後方散乱光を入力して、この後方散乱光を光カプラ１５_ｎへ出力する。

光カプラ１５_ｎおよび光カプラ１６_ｎは、スプリッタ１４によりパルス試験光がＮ分岐されて出力された光のうちの第ｎ分岐パルス試験光、および、光スイッチ１３のポートＰ_ｎから出力されたパルス試験光の何れかを、光ファイバ線路３０_ｎに伝搬させる光結合部を構成している。

制御部１７は、光パルス試験機１２および光スイッチ１３それぞれの動作の制御等を行う。すなわち、制御部１７は、光パルス試験機１２からのパルス試験光の出力を制御し、光パルス試験機１２による後方散乱光の監視結果を取得する。また、制御部１７は、光スイッチ１３におけるポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちの何れかを選択して、その選択したポートとポートＰとを光学的に接続する。

各反射部２２_ｎは、光ファイバ線路３０_ｎの遠端、すなわち、伝送装置２１_ｎの直前に設けられる。反射部２２_１〜２２_Ｎは、各々の設置位置と光パルス試験器１２との間の光路長が互いに異なるように配置される。各反射部２２_ｎは、パルス試験光を反射させ、信号光を透過させる。各反射部２２_ｎは好適には、試験光を光ファイバ線路の破断（断線）で生じるフレネル反射（反射減衰量１４.７ｄＢ程度）よりも有意に高反射させることが容易な光ファイバブラッググレーティング（ＦＢＧ）、誘電体多層膜フィルタ等である。

本実施形態に係る光線路監視システム１は、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_０から選択的にスプリッタ１４へ出力するときに、以下のような動作をする。光パルス試験器１２から出力されたパルス試験光は、光スイッチ１３のポートＰおよびポートＰ_０を経てスプリッタ１４に入力され、このスプリッタ１４によりＮ分岐される。スプリッタ１４によりＮ分岐されて出力された第ｎ分岐パルス試験光は、光カプラ１５_ｎおよび光カプラ１６_ｎを経て光ファイバ線路３０_ｎへ導入され、この光ファイバ線路３０_ｎを施設２０_ｎへ向って伝搬する。

光ファイバ線路３０_ｎにおけるパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光は、光ファイバ線路３０_ｎを光カプラ１６_ｎへ向って伝搬し、光カプラ１６_ｎ，光カプラ１５_ｎ，スプリッタ１４および光スイッチ１３を経て光パルス試験器１２に入力される。光パルス試験器１２には、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎそれぞれで生じた後方散乱光が入力される。そして、光パルス試験器１２において、入力された後方散乱光の強度の時間変化に基づいて光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎが監視される。

この監視に際しては、各光ファイバ線路３０_ｎの遠端に設けられた反射部２２_ｎでパルス試験光が反射されることで生じた後方散乱光の強度が用いられる。ここで、反射部２２_１〜２２_Ｎは各々の設置位置と光パルス試験器１２との間の光路長が互いに異なるように配置されているので、光パルス試験器１２において、入力された後方散乱光のうち反射部２２_ｎで生じた後方散乱光を識別することができる。

もし、反射部２２_ｎで生じた後方散乱光の強度が所定範囲内であれば、その反射部２２_ｎが設けられている光ファイバ線路３０_ｎは良好であると判断される。逆に、もし、反射部２２_ｎで生じた後方散乱光の強度が所定値より小さければ、その反射部２２_ｎが設けられている光ファイバ線路３０_ｎは断線や損失増などの故障箇所が存在すると判断される。なお、反射部２２_ｎの反射率が光ファイバ端面でのフレネル反射率より大きければ、反射部近傍からの試験光の反射率がフレネル反射率以下になったか否かを監視することにより、光ファイバ線路３０_ｎの遠端付近で生じた断線についても判定が可能となる。

このような判断を可能とするには、イベントデッドソーンが少なくなるように（すなわち、Ｎ個の反射部２２_１〜２２_Ｎそれぞれでの反射を光パルス試験器１２において相互に分解できるように）、パルス試験光のパルス幅を極力小さくして測定することが必要である。ただし、この場合は、パルス試験光の光量が定性的に減るので、各光ファイバ線路３０_ｎ上の後方散乱光は、レベルが落ちてノイズに埋もれた波形となる（すなわち、ノイズの中に高反射のピークがそれぞれ立つ波形となる）。仮に光ファイバ線路３０_ｎに異常が生じても、光パルス試験器１２で観測される後方散乱光の波形は、ノイズに埋もれているので、異常個所が分からない。

すなわち、ＯＴＤＲには測定条件に従った分解能（サンプリング分解能、イベントデッドゾーン）がある。複数の遠端が分解能未満の距離の位置する場合、ＯＴＤＲでは各反射を分解できず一つのまとまった反射として計測されてしまう。この場合は、仮に、或る光ファイバ線路３０_ｎに異常が発生し遠端が消失したとしても、分解能内の他の光ファイバ線路の遠端での反射が発生してしまうので、光ファイバ線路３０_ｎの異常を検出することが困難になる。この為、反射部２２_１〜２２_Ｎそれぞれは分解能以上の距離に位置することが必要になる。例えば、一括簡易測定を２５ｋｍレンジ、２５０００ポイントサンプリング、パルス幅１０nsec の条件で測定する場合は、反射部２２_１〜２２_Ｎそれぞれは３〜４ｍ程度の距離差が必要になる。

本実施形態に係る光線路監視システム１は、以上のように動作することにより、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを一括して監視することができる。しかし、光線路監視システム１は、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎのうちの何れかの光ファイバ線路３０_ｎが故障であることを判定することができても、その光ファイバ線路３０_ｎにおける故障位置を判定することができない。

そこで、光線路監視システム１は、何れかの光ファイバ線路３０_ｎが故障であると判定した場合に、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_ｎから選択的に光カプラ１５_ｎへ出力するようにして、以下のような動作をする。

光パルス試験器１２から出力されたパルス試験光は、光スイッチ１３のポートＰおよびポートＰ_ｎを経て、更に光カプラ１５_ｎおよび光カプラ１６_ｎを経て光ファイバ線路３０_ｎのみへ導入され、この光ファイバ線路３０_ｎを施設２０_ｎへ向って伝搬する。

第ｎ光ファイバ線路３０_ｎにおけるパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光は、光ファイバ線路３０_ｎを光カプラ１６_ｎへ向って伝搬し、光カプラ１６_ｎ，光カプラ１５_ｎ，スプリッタ１４および光スイッチ１３を経て光パルス試験器１２に入力される。光パルス試験器１２には、光ファイバ線路３０_ｎのみで生じた後方散乱光が入力される。そして、光パルス試験器１２において、入力された後方散乱光の強度の時間変化に基づいて光ファイバ線路３０_ｎのみが監視される。

この監視に際しては、光線路監視システム１は、特定の光ファイバ線路３０_ｎのみを監視し、この光ファイバ線路３０_ｎの各位置で生じた後方散乱光を光パルス試験器１２によりモニタすることができるので、この光ファイバ線路３０_ｎにおける故障位置を判定することができる。

以上のように、本実施形態に係る光線路監視システム１は、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_０から選択的にスプリッタ１４へ出力することで、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを一括して簡易に監視することができ、故障が生じた光ファイバ線路３０_ｎを特定することができる。また、本実施形態に係る光線路監視システム１は、何れかの光ファイバ線路３０_ｎが故障であると判定した場合に、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_ｎから選択的に光カプラ１５_ｎへ出力することで、その特定した光ファイバ線路３０_ｎにおける故障位置を判定することができる。したがって、本実施形態に係る光線路監視システム１は、複数本の光ファイバ線路を短時間に監視することができる。

次に、本実施形態に係る光線路監視システム１の変形例の構成について説明する。図２は、本実施形態に係る光線路監視システム１Ａの構成図である。この図に示される光線路監視システム１Ａは、センタ１０と施設２０_１〜２０_Ｎとの間に敷設された光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを監視するものである。ただし、この変形例では、各光ファイバ線路３０_ｎは、いわゆる空心線であって、センタ１０内の伝送装置と接続されておらず、施設２０_ｎ内の伝送装置とも接続されていない。なお、Ｎは２以上の整数であり、ｎは１以上Ｎ以下の各整数である。従来はこのような空心線を監視する場合であっても、試験光を反射し信号光を透過させる機能を持った高額な反射フィルタを光ファイバ線路の遠端に設置しておく必要があった。

光線路監視システム１Ａは、光パルス試験器１２、光スイッチ１３、スプリッタ１４、光カプラ１５_１〜１５_Ｎ、制御部１７および反射部２３_１〜２３_Ｎを備える。これらのうち、光パルス試験器１２、光スイッチ１３、スプリッタ１４、光カプラ１５_１〜１５_Ｎおよび制御部１７は、センタ１０内に設けられる。また、各反射部２３_ｎは施設２０_ｎ内に設けられる。

この変形例では、光カプラ１６_１〜１６_Ｎは設けられていない。各光ファイバ線路３０_ｎの一端に光カプラ１５_ｎが接続されている。光カプラ１５_ｎは、スプリッタ１４によりパルス試験光がＮ分岐されて出力された光のうちの第ｎ分岐パルス試験光、および、光スイッチ１３のポートＰ_ｎから出力されたパルス試験光の何れかを、光ファイバ線路３０_ｎに伝搬させる光結合部を構成している。

各反射部２３_ｎは、光ファイバ線路３０_ｎの遠端に設けられる。反射部２３_１〜２３_Ｎは、各々の設置位置と光パルス試験器１２との間の光路長が互いに異なるように配置される。各反射部２３_ｎはパルス試験光を反射させる。各反射部２３_ｎは、光ファイバブラッググレーティングフィルタや誘電体多層膜フィルタであってもよい。しかし、この変形例では、各光ファイバ線路３０_ｎが空心線であって信号光を伝搬させないので、単なるミラーのように、試験光だけでなく信号光となるべき光に対しても反射率が高い構成のものが各反射部２３_ｎとして用いられてもよい。

この図２に示される光線路監視システム１Ａは、図１に示される光線路監視システム１と略同様に動作し同様の効果を奏する。すなわち、光線路監視システム１Ａは、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_０から選択的にスプリッタ１４へ出力することで、光ファイバ線路３０_１〜３０_Ｎを一括して簡易に監視することができ、故障が生じた光ファイバ線路３０_ｎを特定することができる。また、光線路監視システム１Ａは、何れかの光ファイバ線路３０_ｎが故障であると判定した場合に、光スイッチ１３がポートＰに入力したパルス試験光をポートＰ_ｎから選択的に光カプラ１５_ｎへ出力することで、その特定した光ファイバ線路３０_ｎにおける故障位置を判定することができる。したがって、光線路監視システム１Ａは、複数本の光ファイバ線路を短時間に監視することができる。

図３は、本実施形態に係る光線路監視システム１Ａにおける各反射部２３_ｎの構成図である。反射部２３_ｎは、光カプラ２４、光ファイバ２５および光ファイバ２６を含む。光カプラ２４は、第１ポートＰ_Ａ，第２ポートＰ_Ｂおよび第３ポートＰ_Ｃを有する。光カプラ２４の第１ポートＰ_Ａは、光ファイバ２５を介して光ファイバ線路３０_ｎの遠端に接続される。光カプラ２４は、第１ポートＰ_Ａに入力された光を第２ポートＰ_Ｂから光ファイバ２６へ出力し、光ファイバ２６から第３ポートＰ_Ｃに入力された光を第１ポートＰ_Ａから出力する。光ファイバ２６は、光カプラ２４の第２ポートＰ_Ｂと第３ポートＰ_Ｃとの間を光学的に接続するループ配線となっている。

このように構成される反射部２３_ｎは、反射減衰量３ｄＢ程度の高反射を実現することでき、簡単・低額に高反射の目的を果たすことができる。また、反射部２３_ｎは、フィルタとは異なり波長に依存しないので、既設ＯＴＤＲを活用し、同ＯＴＤＲの波長仕様を用いての本監視方法の実現が可能となる。

１，１Ａ…光線路監視システム、１０…センタ、１１_１〜１１_Ｎ…伝送装置、１２…光パルス試験器、１３…光スイッチ、１４…スプリッタ、１５_１〜１５_Ｎ…光カプラ、１６_１〜１６_Ｎ…光カプラ、１７…制御部、２０_１〜２０_Ｎ…施設、２１_１〜２１_Ｎ…伝送装置、２２_１〜２２_Ｎ…反射部、２３_１〜２３_Ｎ…反射部、３０_１〜３０_Ｎ…光ファイバ線路。

Claims

Ｎ本の光ファイバ線路それぞれにパルス試験光を伝搬させて、そのパルス試験光の伝搬の際に生じる後方散乱光の強度の時間変化に基づいて前記Ｎ本の光ファイバ線路を監視するシステムであって、
前記パルス試験光を出力するとともに、前記後方散乱光を入力して、前記後方散乱光の強度の時間変化を検出する光パルス試験器と、
ポートＰおよびポートＰ_０〜Ｐ_Ｎを有し、前記光パルス試験器から出力された前記パルス試験光を前記ポートＰに入力して、前記ポートＰ_０〜Ｐ_Ｎのうちの選択された一つから前記パルス試験光を出力する光スイッチと、
前記光スイッチの前記ポートＰ_０から出力された前記パルス試験光を入力して、このパルス試験光をＮ分岐して出力するスプリッタと、
前記スプリッタにより前記パルス試験光がＮ分岐されて出力された光のうちの第ｎ分岐パルス試験光、および、前記光スイッチの前記ポートＰ_ｎから出力されたパルス試験光の何れかを、前記Ｎ本の光ファイバ線路のうちの第ｎ光ファイバ線路に伝搬させる光結合部と、
前記Ｎ本の光ファイバ線路それぞれに設けられ、その設置位置と前記光パルス試験器との間の光路長が互いに異なり、前記パルス試験光を反射させる反射部と、
を備え、
前記光スイッチが前記ポートＰに入力した前記パルス試験光を前記ポートＰ_０から選択的に出力するときに、前記光スイッチの前記ポートＰ_０から前記スプリッタおよび前記光結合部を経て前記Ｎ本の光ファイバ線路に前記パルス試験光を伝搬させ、前記Ｎ本の光ファイバ線路で生じた後方散乱光が前記光結合部，前記スプリッタおよび前記光スイッチを経て前記光パルス試験器に入力されて、この後方散乱光の強度の時間変化に基づいて前記Ｎ本の光ファイバ線路を監視し、
前記光スイッチが前記ポートＰに入力した前記パルス試験光を前記ポートＰ_ｎから選択的に出力するときに、前記光スイッチの前記ポートＰ_ｎから前記光結合部を経て前記第ｎ光ファイバ線路に前記パルス試験光を伝搬させ、前記第ｎ光ファイバ線路で生じた後方散乱光が前記光結合部および前記光スイッチを経て前記光パルス試験器に入力されて、この後方散乱光の強度の時間変化に基づいて前記第ｎ光ファイバ線路を監視する、
ことを特徴とする光線路監視システム（ただし、Ｎは２以上の整数、ｎは１以上Ｎ以下の各整数）。
前記反射部が、
前記Ｎ本の光ファイバ線路のうち何れかの光ファイバ線路の遠端に設けられ、第１ポート，第２ポートおよび第３ポートを有し、前記第１ポートが光ファイバ線路の遠端に接続され、前記第１ポートに入力された光を前記第２ポートから出力し、前記第３ポートに入力された光を前記第１ポートから出力する光カプラと、
前記光カプラの前記第２ポートと前記第３ポートとの間を光学的に接続する光導波路と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光線路監視システム。