JP2010176831A - ページバッファー回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ページバッファー回路のラッチが増えることによって一緒に増えることになるトランジスタの数を最小化したページバッファー回路を提供する。
【解決手段】 ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結するデータ変換部と、前記第2センシングノードに共通連結される第1及び第2ラッチ部とを含む。
【選択図】 図3
【解決手段】 ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結するデータ変換部と、前記第2センシングノードに共通連結される第1及び第2ラッチ部とを含む。
【選択図】 図3
Description
本発明は、ページバッファー回路に関し、より詳細には、素子の個数を減らして面積を減らしたページバッファー回路に関する。
半導体メモリ装置は、データを格納しておいて、必要な時に読み取ることができる記憶装置である。半導体メモリ装置は、電源が切れれば格納されたデータが消滅する揮発性メモリ(Volatile Memory)があり、また電源が切れても格納されたデータが消滅しない不揮発性メモリ(Non Volatile Memory)がある。不揮発性メモリの中でもフラッシュメモリは、電気的にセルのデータを一括的に消去する機能を持っているため、コンピュータ、及びメモリカードなどに広く使用されている。
フラッシュメモリは、セルとビットラインの連結状態によってNOR型とNAND型に区分される。NOR型フラッシュメモリは1つのビットラインに二つ以上のセルトランジスタが並列に連結された形態であり、チャンネルホットエレクトロン(Channel Hot Electron)方式を使用してデータを格納し、F−Nトンネリング(Fowler-Nordheim Tunneling)方式を使用してデータを消去する。そして、NAND型フラッシュメモリは1つのビットラインに二つ以上のセルトランジスタが直列連結された形態で、F−Nトンネリング方式を使用してデータを格納及び消去する。一般に、NOR型フラッシュメモリは電流消耗が大きいため、高集積化には不利であるが、高速化に容易に対処できる良い長所があり、NAND型フラッシュメモリはNOR型フラッシュメモリに比べて少ないセル電流を使用するため、高集積化に有利な長所がある。
不揮発性メモリ素子は、データ格納のためのメモリセルアレイと、メモリセルアレイのビットラインに連結されるページバッファーとページバッファーのデータ入出力経路を提供するYデコーダーと、メモリセルアレイのワードラインを電圧提供のためのグローバルワードラインに連結するXデコーダー、そして電圧を生成してグローバルワードラインに印加する電圧提供部とを含み、動作制御のための制御部が具備される。
図1は、一般的なページバッファー100の回路図である。図1を参照すれば、ページバッファー100はセンシング部110、フリーチャージ部120、データ伝送部130、データラッチ部140、及びデータ変更部150を含む。
センシング部110は、ビットラインBLと連結され、ビットライン電圧をセンシングしてセンシングノードSOの電圧レベルを変更させる。そしてフリーチャージ部120はセンシングノードSOをフリーチャージさせる。
データ伝送部130は、データラッチ部140に格納されたデータをセンシングノードSOで伝送したり、データラッチ部140に含まれたラッチ部の間にデータ変更のためのデータ伝送経路を提供する。
データラッチ部140は第1及び第2ラッチL1,L2を含み、それぞれのラッチはプログラムするためのデータをラッチするか、メモリセルに格納されたデータを読出して格納する。
データ変更部150は、センシングノードSOの電圧レベルによる第1及び第2ラッチL1,L2にデータを入力する部分である。
センシング部110は、第1NMOSトランジスタN1を含み、フリーチャージ部120は第1PMOSトランジスタP1を含む。そして、データ伝送部130は第2〜第5NMOSトランジスタN2〜N5を含み、データラッチ部140は第1〜第4インバーターI1〜I4を含む。データ変更部150は第6〜第9NMOSトランジスタN6〜N9を含む。
第2及び第3NMOSトランジスタN2,N3は、第1ラッチL1のデータ伝送のために動作し、第4及び第5NMOSトランジスタN4,N5は第2ラッチL2のデータ伝送のために動作する。
第1及び第2インバーターI1,I2は、第1ラッチL1で構成されて、第3及び第4インバーターI3,I4は第2ラッチL2で構成される。そして第6及び第7NMOSトランジスタN6,N7は、第1ラッチL1のデータ変更のために動作し、第8及び第9NMOSトランジスタN8,N9は第2ラッチL2のデータ変更のために動作する。
前記のようなページバッファー回路は、メモリセルに格納されるデータビットの数が増加するほどラッチの数が増える。この時、データ伝送部130とデータ変更部150にもラッチが増えることによってそれぞれのラッチのデータ伝送と変更のためのトランジスタの個数が増えるようになる。このようにラッチが増えることによってデータ伝送と変更のためのトランジスタが増えるのはページバッファー100の大きさを大きく増やす要因となる。
特に、より多くのビット情報を格納することができるマルチレベルセル(Multi Level Cell)が開発されている傾向にしたがってページバッファー100のラッチ数も増えることになり、これによるトランジスタの個数が増えることも不可避である。これは小型化されているメモリ素子の大きさを減らすのに大きな問題となる。
したがって、本発明が達成しようとする技術的課題は、その目的はページバッファー回路のラッチが増えることによって一緒に増えることになるトランジスタの数を最小化したページバッファー回路を提供することである。
本発明の特徴によるページバッファー回路は、ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結するデータ変換部と、前記第2センシングノードに共通連結される第1及び第2ラッチ部とを含む。
また、前記データ変換部は、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして前記第2センシングノードの電圧レベルを変更させる第2センシング部と、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結する伝送部とを含むことを特徴とする。
また、前記第2センシング部は、前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを接地ノードと連結させることを特徴とする。
前記第1及び第2ラッチ部は、それぞれ、第1及び第2ノードの間に連結されるラッチ回路と、前記第1ノードと前記第2センシングノードの間に連結される第1スイッチング素子、及び前記第2ノードと前記第2センシングノードの間に連結される第2スイッチング素子とを含むことを特徴とする。
また、前記伝送部は、データ出力制御信号によって前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結することを特徴とする。
また、前記第2センシング部は、前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを電源電圧入力ノードと連結させることを特徴とする。
また、前記複数のラッチ部のうち、一つ以上のラッチはプログラムのために入力されるデータをデータ入力信号によって入力するデータ入力部と連結されることを特徴とする。
さらに、本発明の他の特徴によるページバッファー回路は、ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結するデータ変換部、及び前記第2センシングノードに共通連結されるN個のラッチ部とを含む。
また、前記データ変換部は、前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして前記第2センシングノードの電圧レベルを変更させる第2センシング部と、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結する伝送部とを含むことを特徴とする。
また、前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを接地ノードと連結させることを特徴とする。
また、前記第2センシング部は、前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを電源電圧入力ノードと連結させることを特徴とする。
前記複数のラッチ部のうち、一つ以上のラッチはプログラムのために入力されるデータをデータ入力信号によって入力するデータ入力部と連結されることを特徴とする。
また、前記伝送部はデータ出力制御信号によって前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結することを特徴とする。
以上説明したように、本発明によるページバッファー回路は、ページバッファーのデータ伝送のための部分の素子個数を最小化し、ラッチが増えることに影響を受けないようにすることで、ページバッファーのラッチが増えることによって増加される素子の個数を最小化してページバッファー回路を単純化し、全体面積を減らすことができるという効果を奏する。
以下、添付された図面を参照して本発明の好ましい実施例を説明する。図2は本発明の実施例による不揮発性メモリ素子のブロック図である。図2を参照すれば、不揮発性メモリ素子200は、メモリセルアレイ210、ページバッファー部220、Yデコーダー230、Xデコーダー240、電圧提供部250、及び制御部260を含む。
メモリセルアレイ210は、データ格納のためのメモリセル等を含む。メモリセルアレイ210のメモリセル等はビットラインBLとワードラインWLによって選択されられる。そして、ビットラインBLはページバッファー部220のページバッファー221に連結され、ワードラインWLはXデコーダー240を通じて電圧を提供するグローバルワードライン(Global Word Line)に連結される。
ページバッファー部220は、複数のページバッファー221を含む。ページバッファー221はそれぞれ一つ以上のビットラインBLと連結される。そして、ページバッファー221はプログラムデータをラッチしながら前記ビットラインBLに伝達したり、メモリセルに格納されたデータをビットラインBLを介して読出してラッチする。
Yデコーダー230は、ページバッファー部220のページバッファー221にデータ入出力経路を提供し、Xデコーダー240は選択されたワードラインWLとグローバルワードラインを連結する。
電圧提供部250は、グローバルワードラインに印加される動作電圧を生成し、制御部260はページバッファー部220、Yデコーダー230、Xデコーダー240及び電圧提供部250を制御してデータのプログラムと読出し、消去動作を制御する。
図3は、図2のページバッファー部220に含まれるページバッファー221の第1実施例による回路図である。図3を参照すれば、ページバッファー部220に含まれるページバッファー221は、第1センシング部222、フリーチャージ部223、データ変換部224、第1ラッチ部225及び第2ラッチ部226を含む。この時、第1ラッチ部225のラッチ回路にデータ入出力信号DI、DInによってデータを入力して出力する部分のみを簡略に図示し、プログラム検証のための部分、ビットラインBLを選択する部分などの回路等は従来と同様に構成して適用することができるから略する。データ入出力信号DI、DInによってデータを入力して出力する部分がプログラムのために入力されるデータをデータ入力信号によって入力するデータ入力部であり、前記複数のラッチ部のうち、一つ以上のラッチ部が該データ入力部と連結される。
第1センシング部222は、ビットラインBLに連結され、ビットライン電圧をセンシングし、センシング結果によって第1センシングノードSO1の電圧が変更されるようにする。フリーチャージ部223は第1センシングノードSO1をフリーチャージさせる。
データ変換部224は、第1センシングノードSO1の電圧レベルをセンシングして第2センシングノードSO2の電圧レベルを変更させる第2センシング部と、第2センシングノードSO2と第1センシングノードSO1を連結してして第2センシングノードSO2の電圧レベルを第1センシングノードSO1に伝達する伝送部を含む。
第1及び第2ラッチ部225,226は、前記第2センシングノードSO2に共通連結され、データ変換部224の動作にしたがってデータをラッチするか、あるいはラッチされたデータを伝達する。
第1及び第2ラッチ部225,226は、それぞれラッチ回路と、ラッチ回路のノードを選択して前記第2センシングノードSO2に連結するためのラッチ選択回路を含む。
第1センシング部222は、第1NMOSトランジスタMN1を含み、フリーチャージ部223は第1PMOSトランジスタMP1を含む。そして、データ変換部224はセンシング部にあたる第2及び第3NMOSトランジスタMN2,MN3を含み、伝送部にあたる第4NMOSトランジスタMN4を含む。
第1及び第2ラッチ部225,226は、第5〜第8NMOSトランジスタMN5〜MN8と、第1〜第4インバーターIN1〜IN4を含む。
第1NMOSトランジスタMN1は、ビットラインBLと第1センシングノードSO1との間に連結され、第1PMOSトランジスタMP1は電源電圧入力ノードと第1センシングノードSO1との間に連結される。第1NMOSトランジスタMN1のゲートにはセンシング制御信号PBSENSEが入力され、第1PMOSトランジスタMP1のゲートにはフリーチャージ制御信号PRECHNが入力される。
第2及び第3NMOSトランジスタMN2,MN3は、第2センシングノードSO2と接地ノードとの間に直列連結され、第2NMOSトランジスタMN2のゲートは第1センシングノードSO1に連結され、第3NMOSトランジスタMN3のゲートにはデータ入力制御信号PBDIが入力される。
第4NMOSトランジスタMN4は、第1センシングノードSO1と第2センシングノードSO2との間に連結され、第4NMOSトランジスタMN4のゲートにはデータ出力制御信号PBDOが入力される。
スイッチング素子となる第5NMOSトランジスタMN5は、第2センシングノードSO2とノードCQとの間に連結され、同じくスイッチング素子となる第6NMOSトランジスタMN6は第2センシングノードSO2とノードCQ_Nとの間に連結される。第5NMOSトランジスタMN5のゲートには第1データ伝送信号CTRANが入力され、第6NMOSトランジスタMN6のゲートには第2データ伝送信号CTRAN_Nが入力される。
同じくスイッチング素子となる第7NMOSトランジスタMN7は、第2センシングノードSO2とノードMQとの間に連結され、同じくスイッチング素子となる第8NMOSトランジスタMN8は第2センシングノードSO2とノードMQ_Nとの間に連結される。第7NMOSトランジスタMN7のゲートには第3データ伝送信号MTRANが入力され、第8NMOSトランジスタMN8のゲートには第4データ伝送信号MTRAN_Nが入力される。
第1及び第2インバーターIN1,IN2は、ノードCQとノードCQ_Nとの間に第1ラッチL1で連結され、第3及び第4インバーターIN3,IN4はノードMQとノードMQ_Nとの間に第2ラッチL2で連結される。
前記ページバッファー221は、データを変更するデータ変換部224がそれぞれのラッチごとに別に構成されるのではなく、すべてのラッチに対して共通的に使用するように構成されている。これによる動作は次のように動作する。
まず、第1ラッチL1と第2ラッチL2との間にデータを変える動作の説明のためにノードMQ_Nのデータが変更される過程を説明する。
ノードMQ_Nのデータを'1'に作るためには、フリーチャージ制御信号PRECHNをローレベルに印加して第1PMOSトランジスタMP1をターンオンさせる。第1PMOSトランジスタMP1がターンオンされれば、第1センシングノードSO1がハイレベルにフリーチャージされる。そして、データ入力制御信号PBDIをハイレベルに印加する。第1センシングノードSO1がハイレベルであれば、第2NMOSトランジスタMN2がターンオンされ、データ入力制御信号PBDIがハイレベルであれば、第3NMOSトランジスタMN3がターンオンされる。
したがって、第2センシングノードSO2は接地ノードと連結されてローレベルになる。この時、ノードMQ_Nを'1'に変更するためには、第3データ伝送信号MTRANをハイレベルに印加し、第1、第2及び第4データ伝送信号CTRAN、CTRAN_N、MTRAN_Nはローレベルに印加する。第3データ伝送信号MTRANがハイレベルであれば第7NMOSトランジスタMN7がターンオンされてノードMQが第2センシングノードSO2と連結される。この時、第2センシングノードSO2はローレベルなのでノードMQもローレベルになる、ノードMQ_Nはラッチの特性にしたがってハイレベルである'1'値が入力される。
これと反対に、ノードMQ_Nを'0'に作りたい時は、前記第2センシングノードSO2をローレベルに作った状態で第4データ伝送信号MTRAN_Nをハイレベルに印加し、第1〜第3データ伝送信号CTRAN、CTRAN_N、MTRANをローレベルに印加して第8NMOSトランジスタMN8をターンオンさせる。以上のような方法によって第1ラッチL1のノードCQまたはノードCQ_Nのデータを変更することが可能である。
前記ページバッファー221でデータを伝送する過程は、二つに分けて説明することができる。一番目は、第1ラッチ部225にラッチされたデータを第1センシングノードSO1を通じてビットラインBLに伝送する過程で、二番目は第1ラッチL1と第2ラッチL2の間にデータを伝送する過程である。
一番目に、第1ラッチ部225にラッチされたデータをビットラインBLに伝送する過程は次のようである。例えば、第2ラッチL2のノードMQ_NのデータをビットラインBLに伝送する場合には、まず、第4データ伝送信号MTRAN_Nをハイレベルに印加し、第1〜第3データ伝送信号CTRAN、CTRAN_N、MTRANはローレベルに印加する。そして、データ出力制御信号PBDOをハイレベルに印加する。
第4データ伝送信号MTRAN_Nがハイレベルに印加されれば、第8NMOSトランジスタMN8がターンオンされ、データ出力制御信号PBDOがハイレベルに印加されれば第4NMOSトランジスタMN4がターンオンされる。
第4及び第8NMOSトランジスタMN4,MN8がターンオンされれば、ノードMQ_Nが第1センシングノードSO1と連結される。そして、センシング制御信号PBSENSEをハイレベルに印加すれば、第1NMOSトランジスタMN1がターンオンされ、ノードMQ_NにラッチされたデータがビットラインBLに伝達される。
次の表は、それぞれのノードのデータをビットラインBLに伝送するために印加される制御信号等を示す。
そして、第1ラッチ部225のデータをビットラインBLに伝達する時、センシング制御信号PBSENSEはハイレベルに印加される。一方、二番目でラッチの間にデータを伝達する過程を説明するために、ノードMQのデータをノードCQに伝達する過程を説明する。
データの伝達に先立って、ノードCQを'0'に初期化する過程を遂行する。前記ノードCQを初期化する過程は、まずフリーチャージ制御信号PRECHNをローレベルに入力して第1PMOSトランジスタMP1をターンオンさせる。第1PMOSトランジスタMP1がターンオンされれば、第1センシングノードSO1がハイレベルにフリーチャージされる。
第1センシングノードSO1がハイレベルになれば、第2NMOSトランジスタMN2がターンオンされる。そして、データ入力制御信号PBDIをハイレベルに入力して第3NMOSトランジスタMN3をターンオンさせる。第2及び第3NMOSトランジスタMN2,MN3がターンオンされれば、第2センシングノードSO2は接地ノードと連結される。そして、第1データ伝送信号CTRANをハイレベルに入力して第5NMOSトランジスタMN5をターンオンさせれば、ノードCQが'0'に初期化される。
初期化が終われば、ノードCQは'0'データが格納された状態である。ノードMQのデータを第1センシングノードSO1に伝達するためにデータ出力制御信号PBDOをハイレベルに印加して第4NMOSトランジスタMN4をターンオンさせる。そして、第3データ伝送信号MTRANをハイレベルに印加して第7NMOSトランジスタMN7をターンオンさせる。この時、第1、第2及び第4データ伝送信号CTRAN、CTRAN_N、MTRAN_Nとデータ入力制御信号PBDIはローレベルに印加する。
第4及び第7NMOSトランジスタMN4,MN7がターンオンされれば、ノードMQのデータ状態によって第1センシングノードSO1が変更される。すなわち、ノードMQがハイレベルであれば、第1センシングノードSO1がハイレベルになり、ノードMQがローレベルであれば第1センシングノードSO1もローレベルになる。
前記のように第1センシングノードSO1がノードMQによって変更された以後に、データ出力制御信号PBDOをローレベルに変更してデータ入力制御信号PBDIをハイレベルに変更する。そして、第2データ伝送信号CTRAN_Nをハイレベルに印加して第1、第3及び第4データ伝送信号CTRAN、MTRAN、MTRAN_Nをローレベルに印加する。
ノードMQがハイレベルの場合には、第1センシングノードSO1がハイレベルになるので、第2NMOSトランジスタMN2がターンオンされる。そして、データ入力制御信号PBDIによって第3NMOSトランジスタMN3がターンオンされる。したがって、第2センシングノードSO2は接地ノードと連結されてローレベルになる。この時、第2データ伝送信号CTRAN_Nがハイレベルに印加されて第6NMOSトランジスタMN6がターンオンされれば、ノードCQ_Nは第2センシングノードSO2と連結されてローレベルになる。したがってノードCQはハイレベルである'1'データが入力される。これはノードMQのデータが移動されたと言える。
反対にノードMQがローレベルの場合には、第1センシングノードSO1がローレベルになるので、第2NMOSトランジスタMN2はターンオフされる。この時、データ入力制御信号PBDIが入力されても第2センシングノードSO2はフローティング状態になる。したがって、第2データ伝送信号CTRAN_Nがハイレベルに印加されて第6NMOSトランジスタMN6がターンオンされてもノードCQ_Nには影響を与えない。すなわち、ノードCQは初めて初期化状態であるローレベル'0'を維持するのである。これはノードMQのデータが移動されたと判断することができる。
前述のようにデータ変換部224は、第2〜第4NMOSトランジスタMN2〜MN4で構成されているが、第1及び第2ラッチL1,L2のデータを変更して伝送するすべての動作を遂行することができる。これはラッチの数が増えても同様である。
図4は、図2のページバッファー部220に含まれるページバッファー221の第2実施例による回路図である。図4を参照すれば、第2実施例によるページバッファー221は、図3のページバッファー221と同じ第1センシング部222、フリーチャージ部223、データ変換部224と第1及び第2ラッチ部225,226を含んでおり、第3ラッチ部227の回のみ変更された。
第3ラッチ部227は、第9及び第10NMOSトランジスタMN9,MN10と第5及び第6インバーターIN5,IN6を含む。前記第1〜第3ラッチ部225〜227は第2センシングノードSO2に共通連結される。すなわち、第3ラッチ部227のようにラッチが一つ増えることによってラッチを構成する二つのインバーターと、ラッチの各ノードを第2センシングノードSO2と連結する二つのトランジスタのみ増えたことが分かる。そしてデータ変換部224は同じように構成される。
したがって、ラッチ部がN個に増えてもデータ変換部224を構成する素子の個数は増えずに、ラッチ部が構成される二つのノードデータを伝送するための第3ラッチ部227の素子のみ増える。これは、ラッチ部を三つより多く増やしても同様にラッチ部を構成するインバーターと、ラッチ部の各ノードと第2センシングノードSO2を連結するためのスイッチング素子であるトランジスタのみが増えるでだけで、データ変換部224は変更されない。すなわち、従来に比べてラッチ部の個数がN個に増えてもデータ変換部224を構成する素子の個数は増えない。したがって、ページバッファー221に構成されるラッチ部の個数が増えるほど従来に比べて素子の個数が顕著に減ることを確認することができる。他の構成は図3に示して前述した第1実施形例と同様に構成される。
一方、前記データ変換部224のセンシング部にあたる部分の第2NMOSトランジスタMN2を第2PMOSトランジスタMP2に変更して次のように第3実施例でページバッファー(PB)221を構成することができる。
図5は、図2のページバッファー部220に含まれるページバッファー221の第3実施例による回路図である。図5を参照すれば、第3実施例ではデータ変換部224のセンシングをする回路が第2センシング部を構成する第2PMOSトランジスタMP2と第3NMOSトランジスタMN3を含む。第2PMOSトランジスタMP2と第3NMOSトランジスタMN3は、電源電圧入力ノードと第2センシングノードSO2との間に直列連結され、第2PMOSトランジスタMP2は第1センシングノードSO1の電圧レベルによってターンオンされるようにする。
また、前記第2PMOSトランジスタMP2がターンオンされた時、入力される電源電圧の降下を防ぐために第3NMOSトランジスタMN3をPMOSトランジスタに代替することも可能である。第3NMOSトランジスタMN3をPMOSトランジスタに代替すれば、データ入力制御信号PBDIが反転されてゲートに入力されるように回路を構成しなければならない。他の構成は図3に示して前述した第1実施形例と同様に構成される。
以上説明したように、本発明の最も好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載され、又は明細書に開示された発明の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能なのはもちろんであり、斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
本発明の活用例として、ページバッファー回路に適用でき、より詳細には、素子の個数を減らして面積を減らしたページバッファー回路に適用出来る。
200:揮発性メモリ素子
210:メモリセルアレイ
220:ページバッファー部
230:Yデコーダー
240:Xデコーダー
250:電圧提供部
260:制御部
210:メモリセルアレイ
220:ページバッファー部
230:Yデコーダー
240:Xデコーダー
250:電圧提供部
260:制御部
Claims (14)
- ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、
前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結するデータ変換部と、
前記第2センシングノードに共通連結される第1及び第2ラッチ部とを含むことを特徴とするページバッファー回路。 - 前記データ変換部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして前記第2センシングノードの電圧レベルを変更させる第2センシング部と、
前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結する伝送部とを含むことを特徴とする請求項1に記載のページバッファー回路。 - 前記第2センシング部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを接地ノードと連結させることを特徴とする請求項2に記載のページバッファー回路。 - 前記第1及び第2ラッチ部は、それぞれ第1及び第2ノードの間に連結されるラッチ回路と、
前記第1ノードと前記第2センシングノードとの間に連結される第1スイッチング素子と、
前記第2ノードと前記第2センシングノードとの間に連結される第2スイッチング素子とを含むことを特徴とする請求項1に記載のページバッファー回路。 - 前記伝送部は、
データ出力制御信号によって前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結することを特徴とする請求項2に記載のページバッファー回路。 - 前記第2センシング部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを電源電圧入力ノードと連結させることを特徴とする請求項1に記載のページバッファー回路。 - 前記複数のラッチ部のうち、一つ以上のラッチ部はプログラムのために入力されるデータをデータ入力信号によって入力するデータ入力部と連結されることを特徴とする請求項1に記載のページバッファー回路。
- ビットラインの電圧レベルをセンシングして第1センシングノードの電圧を変更させる第1センシング部と、
前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして第2センシングノードの電圧レベルを変更させるか、前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結するデータ変換部と、
前記第2センシングノードに共通連結されるN個のラッチ部とを含むことを特徴とするページバッファー回路。 - 前記データ変換部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルをセンシングして前記第2センシングノードの電圧レベルを変更させる第2センシング部と、
前記第2センシングノードと前記第1センシングノードとを連結する伝送部とを含むことを特徴とする請求項8に記載のページバッファー回路。 - 前記第2センシング部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを接地ノードと連結させることを特徴とする請求項9に記載のページバッファー回路。 - 前記第2センシング部は、
前記第1センシングノードの電圧レベルとデータ入力制御信号によって前記第2センシングノードを電源電圧入力ノードと連結させることを特徴とする請求項9に記載のページバッファー回路。 - 前記N個のラッチ部のうち、一つ以上のラッチ部はプログラムのために入力されるデータをデータ入力信号によって入力するデータ入力部と連結されることを特徴とする請求項9に記載のページバッファー回路。
- 前記伝送部は、
データ出力制御信号によって前記第2センシングノードと前記第1センシングノードを連結することを特徴とする請求項9に記載のページバッファー回路。 - 前記N個のラッチ部はそれぞれ、
第1及び第2ノードの間に連結されるラッチ回路と、
前記第1ノードと前記第2センシングノードの間に連結される第1スイッチング素子と、
前記第2ノードと前記第2センシングノードとの間に連結される第2スイッチング素子とを含むことを特徴とする請求項8に記載のページバッファー回路。
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