JP2010168374A - キシリレンジアミンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ジシアノベンゼンよりも低沸点の化合物は除去されているがジシアノベンゼンよりも高沸点の化合物は除去されていない溶融状のジシアノベンゼンを液体アンモニア含有溶媒に溶解させ、ジシアノベンゼン多量体の少なくとも一部を不溶成分として析出させる。析出物を固液分離して得られるジシアノベンゼン多量体の含有量が低減された溶液を水素化に供すると、高収率でキシリレンジアミンが製造され、かつ、水素化触媒の寿命が長くなる。
【選択図】図1
Description
(1)キシレンを、触媒の存在下、アンモニア及び酸素含有ガスとの気相接触反応によりアンモ酸化させてジシアノベンゼンを含有するアンモ酸化反応ガスを製造するアンモ酸化工程
(2)アンモ酸化反応ガスを有機溶媒と直接接触させ、ジシアノベンゼンを有機溶媒中に吸収する吸収工程
(3)吸収工程からのジシアノベンゼン吸収液を蒸留し、有機溶媒を含むジシアノベンゼンよりも低い沸点を有する成分の一部または全部を分離し、溶融状のジシアノベンゼンを得る低沸分離工程
(4)低沸分離工程からの溶融状ジシアノベンゼンを液体アンモニア溶媒または1種以上の芳香族炭化水素と液体アンモニアの混合溶媒に溶解させる溶解工程
(5)溶解工程からの溶液に含まれる不溶成分の一部または全部を分離除去する固液分離工程
(6)固液分離工程からの溶液に含まれるジシアノベンゼンを、触媒の存在下、液相で水素化する水素化工程
からなることを特徴とするキシリレンジアミンの製造方法である。
(1)アンモ酸化工程
キシレンを、触媒の存在下、アンモニア及び酸素含有ガスとの気相接触反応によりアンモ酸化させることで対応するジシアノベンゼンを得る。アンモ酸化反応の形式は流動床または固定床のいずれも可能である。
本発明では、アンモ酸化反応器からのアンモ酸化反応ガスを有機溶媒と直接接触させてジシアノベンゼンを有機溶媒に吸収する。ここで用いる有機溶媒とはジシアノベンゼンよりも沸点が低く、ジシアノベンゼンの溶解度が比較的高く且つジシアノベンゼンに対して不活性なものを指す。これらの条件を満たす有機溶媒としては、キシレン(オルト−体、メタ−体、パラ−体)、プソイドキュメン、メシチレン、エチルベンゼン等のアルキルベンゼン、メチルピリジン等の複素環化合物、トルニトリル(オルト−体、メタ−体、パラ−体)及びベンゾニトリル等の芳香族ニトリル化合物及びシアノピリジン等の複素環ニトリル化合物から選ばれる1種以上の有機溶媒が好ましく、特にトルニトリルが本発明に適している。吸収工程では80〜200℃の有機溶媒にアンモ酸化反応ガスを1〜30秒接触させるのが好ましい。有機溶媒の使用量はジシアノベンゼン1重量部に対して0.5〜20重量部が好ましい。
吸収工程からのジシアノベンゼン吸収液を蒸留して、有機溶媒を含む低沸点化合物の一部または全部を除去し、溶融状ジシアノベンゼンを得る。有機溶媒を含む低沸点化合物の一部または全部を除去でき、溶融状ジシアノベンゼンを得ることが出来る限り蒸留方法は特に限定されない。例えば、該工程を蒸留塔を用いて行う場合、有機溶媒を含む低沸点化合物は塔頂または塔頂とサイドカット部(濃縮部)の双方から除去される。回収した溶液を、吸収工程において、アンモ酸化反応ガスに含まれるジシアノベンゼンを吸収する為の有機溶媒として使用しても良い。蒸留塔を用いた蒸留は減圧下(例えば、塔頂圧力1〜30kPa)、濃縮部(原料供給部より上部)においてジシアノベンゼンが析出しない温度で行うのが好ましく、蒸留塔の塔底からジシアノベンゼンを溶融状で得る。塔底温度はジシアノベンゼン多量体群の熱による生成を抑える為にジシアノベンゼンの融点以上の温度で且つ出来るだけ低温にするのが好ましい。具体的に塔底温度は、ジシアノベンゼンがフタロニトリルの場合150〜200℃が好ましく、150〜180℃がさらに好ましく、150〜170℃が特に好ましい。イソフタロニトリルの場合170〜220℃が好ましく、170〜200℃がさらに好ましく、170〜190℃が特に好ましい。テレフタロニトリルの場合240〜290℃が好ましく、240〜270℃がさらに好ましく、240〜260℃が特に好ましい。また、塔底においてジシアノベンゼン多量体群の生成を抑える為、溶融状ジシアノベンゼンの滞留時間は短い方が好ましく(例えば、180分以内)、蒸留塔の設計に際しては塔底容積を蒸留塔の運転に支障が出ない範囲で出来るだけ小さくすることが好ましい。
低沸分離工程からの溶融状ジシアノベンゼンを液体アンモニア溶媒または1種以上の芳香族炭化水素と液体アンモニアの混合溶媒に溶解させる。溶媒の使用量はジシアノベンゼン1重量部に対して1〜99重量部の範囲が好ましく、3〜99重量部がさらに好ましく、5〜99重量部が特に好ましい。ジシアノベンゼン多量体群は液体アンモニアへの溶解度が低い為、混合溶媒中の液体アンモニア濃度は高い方が良く、30重量%以上が好ましく、50重量%以上がさらに好ましく、80重量%以上が特に好ましい(それぞれ100重量%を含む)。溶解操作はラインミキサーを用いて行うことも出来るが、析出した不溶成分付着によりミキサー内が閉塞する可能性がある為、溶解槽を設置し、溶解槽内にて混合、溶解させることが好ましい。溶解槽内に溶融状ジシアノベンゼンと前記溶媒を供給することで特に攪拌しなくても溶解させることが可能だが、必要であれば攪拌を行っても良い。溶解槽内の圧力及び温度は溶媒が液相を保つように選択される。溶解槽内の圧力は0.5〜15MPaが好ましく、0.7〜10MPaがさらに好ましく、1〜8MPaが特に好ましい。溶解槽内の溶液温度は3〜140℃が好ましく、5〜120℃がさらに好ましく、10〜100℃が特に好ましい。
溶解工程からの溶液に含まれる不溶成分の一部または全部を固液分離により除去する。固液分離としては濾過、遠心分離、沈降分離等の公知の方法を用いることが出来るが、濾過が好ましく、さらに焼結金属フィルターまたはストレーナーによるろ過が簡便で好適である。濾過の際に濾過助剤を用いても良い。
固液分離工程から得られた濾液を水素化反応器に供給し、触媒の存在下、液相でジシアノベンゼンの水素化を行う。固液分離工程から得られた濾液には既に溶解工程で導入した溶媒が含まれているが、水素化反応条件下で安定な種々の溶媒を新たに添加しても良い。具体的にはトルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒、ベンジルアミン、メチルベンジルアミン等の芳香族モノアミン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の低級脂肪族アミド系溶媒や液体アンモニア等が挙げられる。また、これらの溶媒から2種類以上を選択して併用しても良い。溶媒中の液体アンモニア濃度が高いほど水素化反応の収率を高めることが出来る為、溶媒中の液体アンモニア濃度は高い方が好ましい(例えば、60重量%以上(100重量%を含む))。水素化反応時の溶媒量はジシアノベンゼン1重量部に対して1〜99重量部の範囲が好ましく、3〜99重量部がさらに好ましく、5〜99重量部の範囲が特に好ましい。溶媒使用量が上記範囲内であると溶媒回収に要するエネルギーが少なくて経済的に有利であり、水素化反応におけるキシリレンジアミンの選択率も良好である。
資生堂(株)製LCカラムを備え付けた島津製作所製UV−VIS検出器付き高圧グラジエントLCシステムを用い、和光純薬製特級のアセトニトリルと0.5重量%リン酸水溶液の混合液を溶媒及び移動相として使用し、分析を実施した。
J&W社製DB−1のGCカラムを備え付けた、Agilent社製6890型GC分析装置により分析を行った。温度設定は注入口230℃、検出器295℃、カラムオーブン100℃→280℃(100℃で10分間保持した後、昇温速度5℃/分で昇温実施)とした。尚、GC測定サンプルは、水素化原料液または水素化反応生成液のサンプリング液2mlから加熱によりアンモニア(三菱ガス化学製品)を除いた後、内部標準としてジフェニルメタン(和光純薬製、特級)0.1gを添加し、メタノール溶媒またはジオキサン溶媒10g(共に和光純薬製、特級)に溶解させることにより調合した。
(1)アンモ酸化工程
(1−1)アンモ酸化反応用触媒の調製
五酸化バナジウム(和光純薬製、特級)229gに水(蒸留水)500mLを加え、80〜90℃に加熱し攪拌しながらシュウ酸(和光純薬製、特級)477gを加え溶解した。またシュウ酸963gに水400mLを加え50〜60℃に加熱し、無水クロム酸(和光純薬製、特級)252gを水200mLに加えた溶液を良く攪拌しながら加え溶解した。得られたシュウ酸バナジウムの溶液にシュウ酸クロムの溶液を50〜60℃にて混合しバナジウム−クロム溶液を得た。この溶液にリンモリブデン酸(日本無機化学工業製)H3(PMo12O40)・20H2O41.1gを水100mLに溶解して加え、更に、酢酸カリウム(和光純薬製、特級)4.0gを水100mLに溶解して加えた。次いで20wt%水性シリカゾル(Na2Oを0.02wt%含有)2500gを加えた。このスラリー溶液にホウ酸78gを加え良く混合し液量が約3800gになるまで加熱、濃縮した。この触媒溶液を入口温度250℃、出口温度130℃に保ちながら噴霧乾燥した。130℃の乾燥機で12時間乾燥後、400℃で0.5時間焼成し、550℃で8時間空気流通下焼成した。この触媒の原子比は、V:Cr:B:Mo:P:Na:Kが1:1:0.5:0.086:0.007:0.009:0.020の割合で含有され、その触媒濃度は50wt%であった。
以下、図1に示したフローに従って各工程を行った。アンモ酸化反応器Aに上記で調製した流動触媒6Lを充填し、空気、メタ−キシレン(以下、MXと略す、三菱ガス化学製品)及びアンモニア(三菱ガス化学製品)を混合した後、温度350℃に予熱し該反応器に供給した。仕込み条件は、MX供給量を350g/h、アンモニア/MXのモル比を11、酸素/MXのモル比を5.4、空間速度GHSVを630h−1とした。反応温度は420℃、反応圧力は0.2MPaとした。
アンモ酸化反応器A頂部からの反応生成ガスをイソフタロニトリル吸収塔Bに導入し、反応生成ガス中のイソフタロニトリルをメタ−トルニトリル(三菱ガス化学製品)溶媒中に吸収した。イソフタロニトリル吸収塔BはSUS304製で、上部にコンデンサーを有し、胴体部が内径100mmΦ、高さ800mmで、胴体部の下部450mmは2重管として蒸気加熱できる構造とし、底部にガス吹込み口を設けた。該吸収塔にメタ−トルニトリル2kgを入れ175℃とし、上記アンモ酸化反応生成ガスの吸収を2時間行った。吸収終了時の吸収液には、メタ−トルニトリル74wt%及びイソフタロニトリル25wt%が含まれていた。
上記吸収液を、低沸分離用の蒸留塔Cの中段に供給した。蒸留塔の蒸留条件は塔頂圧力6kPa、塔頂温度120℃、塔底温度183℃とし、塔底での滞留時間は60分及び180分の2通りを採用した。メタ−トルニトリルおよび他の低沸分を蒸留塔の塔頂から留去すると供に溶融状イソフタロニトリルを塔底より抜き出した。得られた溶融状イソフタロニトリルの純度を表1に示す。
得られた溶融状イソフタロニトリル(蒸留塔塔底での滞留時間が60分)を溶解槽D(SUS304製、容積1L)に280g/hの流量で側部より供給し、同じく溶解槽Dに5320g/hの流量で上部より供給した液体アンモニアに、2MPa、25℃の条件下で溶解させた。
次いで溶解槽Dの底部より不溶成分を含んだ溶液を抜出し、濾過器Eとしてストレーナー(ポア・サイズ40μm、ステンレス製)を用い、圧力差を利用した液移送により濾過を行った。濾過物の一部として2,4,6−トリス(3−シアノフェニル)−1,3,5−トリアジンを1時間当たり0.17g除去し、279.8g/hの速度で濾液を得た。濾液から液体アンモニアを除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。表1の結果との比較から、2,4,6−トリス(3−シアノフェニル)−1,3,5−トリアジンの含有量が著しく低下したことが分かる。
管状縦型水素化反応器F(SUS304製、内径100mmφ)にニッケル含量50wt%である市販の担持ニッケル/珪藻土触媒(円柱状、直径5mmΦ、高さ5mm)を4L充填し、水素気流下200℃で還元して活性化させた。冷却後、反応器内に水素ガスを圧入して一定圧力10MPaに保ち、外部からの加熱により触媒層温度を90℃に維持した。反応器上部より水素ガスを265NL/hの流速で流通させながら、固液分離工程で得られた濾液を、反応器上部より5.60kg/hの速度で連続的に供給した。反応中間体である3−シアノベンジルアミンの生成量は経時的に増加した。水素化反応液に含まれる3−シアノベンジルアミンのメタ−キシリレンジアミンに対する量が0.10wt%に達した時点での反応成績と反応器へのイソフタロニトリル合計通液量を表3に示した。
蒸留塔塔底での滞留時間が180分の溶融状イソフタロニトリルを使用した以外は実施例1と同様の条件で溶解工程まで行った。濾過物の一部として2,4,6−トリス(3−シアノフェニル)−1,3,5−トリアジンを1時間当たり0.20g除去し、279.7g/hの速度で濾液を得た。濾液から液体アンモニアを除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。
固液分離工程で得られた濾液の代わりに実施例1で得た溶融状イソフタロニトリル(蒸留塔塔底での滞留時間が60分)を5.0wt%、液体アンモニアを95wt%の割合で混合して得た水素化原料液を使用した以外は実施例1と同様にして水素化を行った。水素化原料液から液体アンモニアを除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。また、水素化反応液に含まれる3−シアノベンジルアミンのメタ−キシリレンジアミンに対する量が0.10wt%に達した時点での反応成績と反応器へのイソフタロニトリル合計通液量を表3に示す。水素化反応をさらに継続し、イソフタロニトリルの合計通液量が26.3kgに達した時点での反応成績は、イソフタロニトリル転化率99.93%、メタ−キシリレンジアミン選択率88.03モル%、3−シアノベンジルアミン選択率2.34モル%であった。
溶融状イソフタロニトリル(蒸留塔塔底での滞留時間が60分)の代わりに実施例1で得た溶融状イソフタロニトリル(蒸留塔塔底での滞留時間が180分)を使用した以外は比較例1と同様の条件でイソフタロニトリルの水素化を行った。水素化原料液から液体アンモニアを除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。また、水素化反応液に含まれる3−シアノベンジルアミンのメタ−キシリレンジアミンに対する量が0.10wt%に達した時点での反応成績と反応器へのイソフタロニトリル合計通液量を表3に示す。水素化反応をさらに継続し、イソフタロニトリルの合計通液量が23.9kgに達した時点での反応成績は、イソフタロニトリル転化率98.48%、メタ−キシリレンジアミン選択率 71.59モル%、3−シアノベンジルアミン選択率9.89モル%であった。
液体アンモニア溶媒の代わりにMXと液体アンモニアの混合溶媒(MX:20wt%、液体アンモニア:80wt%)を使用し、この混合溶媒の溶解槽Dへの供給速度を6650g/hにした以外は実施例1と同様の条件で溶解工程まで行った。濾過物の一部として2,4,6−トリス(3−シアノフェニル)−1,3,5−トリアジンを1時間当たり0.16g除去し、279.8g/hの速度で濾液を得た。濾液からMXと液体アンモニアを除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。
固液分離工程で得られた濾液の代わりに、溶融状イソフタロニトリル(蒸留塔塔底での滞留時間が60分)を4.04wt%、MXと液体アンモニアの混合溶媒(MX:20wt%、液体アンモニア:80wt%)を95.96wt%の割合で混合した水素化原料液を反応器上部より6.93kg/hの速度で連続的に供給した以外は実施例3と同様の条件でイソフタロニトリルの水素化を行った。水素化原料液から混合溶媒を除いて得られた粗イソフタロニトリルの組成を表2に示す。また、水素化反応液に含まれる3−シアノベンジルアミンのメタ−キシリレンジアミンに対する量が0.10wt%に達した時点での反応成績と反応器へのイソフタロニトリル合計通液量を表3に示す。水素化反応をさらに継続し、イソフタロニトリルの合計通液量が26.2kgに達した時点での反応成績は、イソフタロニトリル転化率99.94%、メタ−キシリレンジアミン選択率88.88モル%、3−シアノベンジルアミン選択率2.11モル%であった。
B イソフタロニトリル吸収塔
C 蒸留塔
D 溶解槽
E 濾過器
F 水素化反応器
Claims (13)
- 下記の順次工程:
(1)キシレンを、触媒の存在下、アンモニア及び酸素含有ガスとの気相接触反応によりアンモ酸化させてジシアノベンゼンを含有するアンモ酸化反応ガスを製造するアンモ酸化工程
(2)アンモ酸化反応ガスを有機溶媒と直接接触させ、ジシアノベンゼンを有機溶媒中に吸収する吸収工程
(3)吸収工程からのジシアノベンゼン吸収液を蒸留し、有機溶媒を含むジシアノベンゼンよりも低い沸点を有する成分の一部または全部を分離し、溶融状のジシアノベンゼンを得る低沸分離工程
(4)低沸分離工程からの溶融状ジシアノベンゼンを液体アンモニア溶媒または1種以上の芳香族炭化水素と液体アンモニアの混合溶媒に溶解させる溶解工程
(5)溶解工程からの溶液に含まれる不溶成分の一部または全部を分離除去する固液分離工程
(6)固液分離工程からの溶液に含まれるジシアノベンゼンを、触媒の存在下、液相で水素化する水素化工程
からなることを特徴とするキシリレンジアミン製造方法。 - 前記固液分離工程(5)で分離除去される不溶成分がジシアノベンゼン多量体を含む請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記固液分離工程(5)からの溶液に含まれるジシアノベンゼン多量体の量がジシアノベンゼンの0.1重量%以下である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記固液分離工程(5)で、溶解工程(4)からの溶液に含まれる不溶成分を濾過により分離する請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- キシレンがメタ−キシレンであり、ジシアノベンゼンがイソフタロニトリルである請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記ジシアノベンゼン多量体がトリアジン環を有するジシアノベンゼン3量体である請求項2に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記アンモ酸化工程(1)で用いる触媒がバナジウム及び/またはクロムを含有する触媒である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記吸収工程(2)のジシアノベンゼンを吸収する有機溶媒が、アルキルベンゼン、複素環化合物、芳香族ニトリル化合物及び複素環ニトリル化合物から選ばれる1種以上の有機溶媒である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記水素化工程(6)で、固液分離工程(5)から得られた溶液に液体アンモニア溶媒または1種以上の芳香族炭化水素と液体アンモニアの混合溶媒を新たに添加した後水素化する請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記溶解工程(4)の混合溶媒中の液体アンモニア濃度が30重量%以上である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記水素化工程(6)のジシアノベンゼンの水素化を固定床反応器で行う請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記水素化工程(6)の水素化触媒がニッケル及び/またはコバルト含有触媒である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
- 前記水素化工程(6)の水素化触媒がニッケル含有触媒である請求項1に記載のキシリレンジアミン製造方法。
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