JP2010157605A - 回路基板及び回路基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回路基板Aを、導電性基材1の表面全体に、導電性を有する剥離性有機物層2を形成する工程と、前記導電性基材1の剥離性有機物層2が形成された面に、電気メッキにより導体回路パターン3を形成する工程と、前記導電性基材1の導体回路パターン3が形成された面に樹脂基材4を重ねる工程と、前記導電性基材1に重ねられた前記樹脂基材4を加熱して成型する工程と、前記導電性基材1を剥離する工程とにより形成する。
【選択図】図1
Description
導電性基材1としてステンレス転写箔(厚み100μm)を用いた。このステンレス転写箔に粗化液(NR-1870:メック株式会社製)により粗化処理を行った。粗化処理されたステンレス転写箔に電着塗装により、剥離性有機物層2としてフッ素樹脂(ポリテトラフルオロエチレン:テフロン(登録商標))を厚み50μmで塗装した。電着塗装は、日本フッソ工業株式会社のECシリーズにて行った。
導電性基材1としてステンレス板を用いた。このステンレス板に銅回路のエッチング液として使用される塩化第2銅溶液により粗化処理を行った。粗化処理されたステンレス板を防錆材料の溶液に浸漬させてから120℃で乾燥することにより、剥離性有機物層2として防錆材料(3-(2-Benzothiazylthio)propionic acid)を厚み1〜3μmで付着させて塗装した。
導電性基材1としてキャリア付極薄銅箔(銅箔/アルミ箔、5μm/75μm)を用いた。このキャリア付極薄銅箔は粗化処理されているものである。キャリア付極薄銅箔に電着塗装により、剥離性有機物層2としてフッ素樹脂(ポリテトラフルオロエチレン:テフロン(登録商標))を厚み10μmで塗装した。電着塗装は、プロトニクス(株式会社日本プロトン製)にて行った。
実施例4では、図3の方法にて回路基板Aを形成した。
2 剥離性有機物層
3 導体回路パターン
3a 導体材料層
3b 回路パターン層
4 樹脂基材
5 樹脂基板
A 回路基板
Claims (10)
- 導電性基材の表面全体に、導電性を有する剥離性有機物層を形成する工程と、前記導電性基材の剥離性有機物層が形成された面に、電気メッキにより導体回路パターンを形成する工程と、前記導電性基材の導体回路パターンが形成された面に樹脂基材を重ねる工程と、前記導電性基材に重ねられた前記樹脂基材を加熱して成型する工程と、前記導電性基材を剥離する工程とにより形成されたことを特徴とする回路基板。
- 剥離性有機物層がフッ素系樹脂材料により形成されたことを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
- 剥離性有機物層が防錆材料により形成されたことを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
- 電気メッキにより導体回路パターンを形成する工程が、電気メッキにより導体材料を積層するものであって、電気メッキにより前記導電性基材の表面全体に前記導体材料が積層された導体材料層を形成する工程と、電気メッキにより前記導体材料層の表面に前記導体材料が導体回路パターンを形成して積層された回路パターン層を形成する工程とを有すると共に、前記導電性基材を剥離する工程の後に前記導体材料層を除去する工程を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の回路基板。
- 樹脂基材が熱可塑性樹脂により形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の回路基板。
- 樹脂基材を加熱して成型する工程が、樹脂基材を200℃以上に加熱して成型するものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の回路基板。
- 導電性基材がステンレス基材であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の回路基板。
- 導電性基材がキャリア付金属箔であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の回路基板。
- 導体回路パターンが樹脂基材により形成された樹脂基板に埋め込まれて回路基板表面が平滑になったものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の回路基板。
- 導電性基材の表面全体に、導電性を有する剥離性有機物層を形成する工程と、前記導電性基材の剥離性有機物層が形成された面に、電気メッキにより導体回路パターンを形成する工程と、前記導電性基材の導体回路パターンが形成された面に樹脂基材を重ねる工程と、前記導電性基材に重ねられた前記樹脂基材を加熱して成型する工程と、前記導電性基材を剥離する工程とにより形成することを特徴とする回路基板の製造方法。
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