JP2010156893A - 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 - Google Patents
光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010156893A JP2010156893A JP2008335806A JP2008335806A JP2010156893A JP 2010156893 A JP2010156893 A JP 2010156893A JP 2008335806 A JP2008335806 A JP 2008335806A JP 2008335806 A JP2008335806 A JP 2008335806A JP 2010156893 A JP2010156893 A JP 2010156893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard coat
- substrate
- coat layer
- maximum frequency
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24364—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.] with transparent or protective coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24372—Particulate matter
- Y10T428/24413—Metal or metal compound
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
- Y10T428/24612—Composite web or sheet
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】基材は、不規則な凹凸形状を表面に有する基材と、基材上に形成されたハードコート層とを備える。基材表面の最大頻度の突起高さが、1.5μm以上10μm以下の範囲内である。基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から+3μm以内の高さである。基材表面の凹凸の横方向長さRSmが55μm以上500μm以下である光学素子である。
【選択図】図3
Description
本発明者らは、鋭意検討の結果、ブラスト加工により原盤を作製し、この原盤を用いて光学素子を作製することで、優れた光学素子が得られることを見出すに至った。
(1)基材表面の最大頻度の突起高さ
(2)基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起の範囲
(3)基材表面の凹凸の横方向長さRSm
この発明は以上の検討に基づいて案出されたものである。
3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する基材と、
基材上に形成されたハードコート層と
を備え、
基材表面の最大頻度の突起高さが、1.5μm以上10μm以下の範囲内であり、
基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から+3μm以内の高さであり、
基材表面の凹凸の横方向長さRSmが、55μm以上500μm以下である光学素子である。
3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する基材と、
上記基材上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さが、0.1μm以上5μm以下の範囲内であり、
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起が、最大頻度の突起高さの中心値から+1μm以内の高さであり、
上記ハードコート層表面の凹凸の横方向長さRSmが55μm以上500μm以下である光学素子。
ブラスト加工により、3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する原盤を作製する工程と、
原盤の凹凸形状を基材に転写する工程と、
基材の凹凸形状が形成された面にハードコート塗料を塗布し、硬化させることにより、基材上にハードコート層を形成する工程と
を備え、
基材表面の最大頻度の突起高さが、1.5μm以上10μm以下の範囲内であり、
基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から+3μm以内の高さであり、
基材表面の凹凸の横方向長さRSmが、55μm以上500μm以下である光学素子の製造方法である。
(1)第1の実施形態(防眩性フィルムの例)
(2)第2の実施形態(表面に反射防止層をさらに形成した例)
(3)第3の実施形態(ANRフィルムの第1の例)
(4)第4の実施形態(ANRフィルムの第2の例)
(5)第5の実施形態(ロール方式により基材表面に凹凸を連続転写する例)
[液晶表示装置の構成]
図2は、この発明の第1の実施形態による液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、図2に示すように、光を出射するバックライト3と、バックライト3から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル2とを備える。液晶パネル2の両面にはそれぞれ、偏光子2a、2bが設けられている。液晶パネル2の表示面側に設けられた偏光子2bには、光学フィルム(光学素子)1が設けられている。ここでは、フィルムには、従来、フィルムと称されるもののみならず、シートと称されるものも含むものと定義する。また、光学フィルム1またはハードコート層12が一主面に形成された偏光子2bを防眩性偏光子4と称する。
図3は、この発明の第1の実施形態による光学フィルム1の構成の一例を示す断面図である。この光学フィルム1は、図3に示すように、基材11と、この基材11上に形成されたハードコート層12とを備える。この光学フィルムは、表面に凹凸を有し、この凹凸により反射光を散乱させる防眩性フィルムである。この表面の凹凸形状は、3次元的に不規則(ランダム)な凹凸形状であるため、モアレの発生を抑制することができる。ここで、3次元的に不規則とは、光学フィルム1の面内方向に凹凸が不規則に形成されているとともに、光学フィルム1の厚さ方向(凹凸の逆さ方向)にも凹凸が不規則に形成されていることをいう。
基材11は、透明性を有するプラスチック基材である。基材11の形状としては、例えば、透明性を有するフィルム、基板などを用いることができる。基材11は、不規則(ランダム)な凹凸を表面に有する。この表面の凹凸は、ブラスト加工により作製された原盤を形状転写することにより成形されるものである。
ハードコート層12は、基材11の表面、すなわち光学フィルムや表示装置などの表面に耐擦傷性と防眩性とを併せて付与するためのものであり、基材11より硬い高分子樹脂層である。ハードコート層表面には、基材11の凹凸に倣って連続的な波面が形成されている。例えば、ハードコート層12の凹部および凸部の位置はそれぞれ、基材11の凹部および凸部の位置と対応している。ハードコート層表面には、基材表面の凹凸形状に倣って連続的な波面が形成されていることが好ましい。このようなハードコート層表面により光を拡散することにより、適度な防眩性を発現することができるからである。ハードコート層12の鉛筆硬度は、3H以上であることが好ましく、例えば3Hに選ばれる。
次に、図4および図5を参照して、上述の構成を有する光学フィルムの製造方法の一例について説明する。
まず、図4Aに示すように、被加工物となる基材13を準備する。この基材の形状としては、例えば、基板状、シート状、フィルム状、ブロック状などが挙げられる。また、基材の材料としては、例えば、金属などが挙げられる。次に、ブラスト加工により、基材表面に凹凸形状を形成する。これにより、図4Bに示すように、基材11とは反対の凹凸形状を有する原盤14が得られる。
次に、図4Cに示すように、原盤14を基材11に押し当てるとともに、基材11を加熱することにより、原盤14の凹凸形状を基材11に転写する。
次に、例えば、二官能以上のモノマーおよび/またはオリゴマーなどの樹脂原料、光重合開始剤、無機酸化物フィラー、粘度調整剤および溶剤を混合してハードコート塗料(樹脂)を調製する。ここでは、溶剤と粘度調製剤以外は、すべて固形分と定義する。また、防汚添加剤をさらに添加することが好ましい。これにより、防汚性ハードコートを形成することができるからである。また、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤および酸化防止剤などを添加するようにしてもよい。
次に、図5Aに示すように、調製したハードコート塗料15を基材11上に塗工する。ハードコート塗料の塗布厚は、最大頻度の突起高さにより、3μm以上25μm以下の範囲で適宜選択することが好ましい。塗工されたハードコート塗料15の液面はレベリングされているが、基材表面の凹凸形状との間の厚みが分布することから、乾燥時の体積変化によって滑らかな凹凸状の気液界面が形成される。これにより、ハードコート層12の表面凹凸量が基材11の表面凹凸量より小さい光学フィルム1を得ることができる。また、基材11の表面凹凸量は、塗工するハードコート塗料15の厚みによって、拡散反射特性を制御できることができる。さらに、塗布から硬化に亘る全てのプロセスにおいて、非接触で表面形成できることから、欠陥のない品質の高い光学フィルム1を提供することができる。
次に、図5Bに示すように、基材11上に塗工されたハードコート塗料15を乾燥させることにより、溶剤を揮発させる。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などの調整による人工的乾燥であってもよい。但し、乾燥時に塗料表面に風を当てる場合、塗膜表面に風紋が生じないようすることが好ましい。風紋が生じると防眩層表面に所望のなだらかなウネリの微細凹凸形状が形成されにくくなる傾向があり、防眩性とコントラストとを両立することが困難になるからである。また、乾燥温度および乾燥時間は塗料中に含まれる溶剤の沸点によって適宜決定することが可能である。その場合、乾燥温度および乾燥時間は、基材11の耐熱性を配慮し、熱収縮により基材11の変形が起きない範囲で選定することが好ましい。
次に、例えば電離放射線照射または加熱により、基材11上にて乾燥された樹脂を硬化させる。これにより、図5Cに示すように、滑らかな波面をハードコート層12の表面に形成することができる。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材11の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂硬化の具合に応じて適宜選択することができ、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。
以上により、目的とする光学フィルムが得られる。
図6は、この発明の第2の実施形態による光学フィルムの構成の一例を示す断面図である。図6に示すように、この光学フィルム1は、ハードコート層12上に反射防止層16を備えている点において、第1の実施形態のものとは異なっている。基材11、およびハードコート層12は、上述の第1の実施形態と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略する。
この第3の実施形態は、上述の第1の実施形態において防眩性フィルムとして用いた光学フィルムを、アンチニュートンリング(Anti Newton-Ring:ANR)フィルムとして用いるものである。
図9は、この発明の第4の実施形態による表示装置の構成例を示す断面図である。この第4の実施形態は、表示部21と、この表示部21の裏面側に設けられた裏面部材28とを備え、表示部21の裏面側、および裏面部材28の前面側の少なくとも一方に、光学フィルム23を備える点において、第4の実施形態とは異なっている。
第5の実施形態は、ロール方式により基材に凹凸を連続転写する点において、第1の実施形態とは異なっている。なお、上述の第1の実施形態と同様の部分には同一の符号を付して説明を省略する。
第5の実施形態において、上記以外のことは第1の実施形態と同様である。
凹凸形状を転写したTACフィルムと同量の樹脂を平坦なTACフィルムに塗布して、接触式厚み測定器(TESA株式会社製)を用いて塗布厚を測定し、この塗布厚をハードコート層の塗布厚とした。
図11に、フィルムの表面粗さ測定の概略を示す。
JIS規格にある測定条件JIS B0633でフィルムの表面形状を測定した。測定機は小坂研究所製サーフコーダーET-4000を使用した。測定機から得られる高さデータを元に測定長の中で最も低い谷を基準としてそれぞれの山の頂点の高さ(h1,h2,h3,h4,・・・)を抜き出し、0.3μmごとにその出現頻度を集計することで突起高さの分布が得られる。また、同時に凹凸の横方向長さRSmも測定される。
以下に測定条件の詳細を示す。
触針:先端R=0.5μmR
測定長:4mm
送り速さ:0.1mm/s
(1)最大頻度の突起高さなどについての検討
(2)ハードコート塗料についての検討
ハードコート塗料を基材の凹凸面に塗布すると、小さい凹凸は塗料の下に隠れ表面形状には表れないため、このような小さい凹凸は防眩性には実質的に関与しない。このため、フィルムの突起高さ分布が異なるサンプルを作製し、防眩性を評価した。
(原盤の形成工程)
まず、図10に示す構成のエンボス転写装置を準備した。この装置のエンボスロールは、ロールを回転させながら、研磨剤を吹き付けるいわゆるサンドブラストで加工で作製した。以下にブラスト加工条件を示す。
ブラスト加工:サンドブラスト
研磨剤:200番メッシュ相当
繰り返し加工:1回
次に、ブラスト加工で作製したエンボスロールの表面形状を形状転写(エンボス)することにより、TACフィルム表面に凹凸を形成した。次に、基材表面粗さを測定した。その結果を図12に示す。
次に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物を凹凸付与後のTACフィルム上にコイルバーで塗工した後、50℃で2分乾燥させた。次に、窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmの防眩性ハードコートフィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー 36.6重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 18.3重量部
粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
BYK−410(特殊変性ウレア溶液) 1.9重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 54.4重量部
以上により、目的とする光学フィルムを得た。
ハードコート層の厚みを5.6μmとする以外は、サンプル1−1と同様にして光学フィルムを得た。
ハードコート層の厚みを5.2μmとする以外は、サンプル1−1と同様にして光学フィルムを得た。
ハードコート層の厚みを1.3μmとする以外は、サンプル1−1と同様にして光学フィルムを得た。
以下のブラスト加工の条件により、エンボスロールを作製する以外は、サンプル1−1と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。
ブラスト加工:ビーズブラスト
研磨剤:400番メッシュ相当
ビーズ: ガラスビーズ
繰り返し加工:6回
ハードコート層の厚みを7.5μmとする以外は、サンプル2−1と同様にして光学フィルムを得た。
ハードコート層の厚みを4.3μmとする以外は、サンプル2−1と同様にして光学フィルムを得た。
ハードコート層の厚みを3.2μmとする以外は、サンプル2−1と同様にして光学フィルムを得た。
以下のブラスト加工の条件により、エンボスロールを作製する以外は、サンプル1−1と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。
ブラスト加工:ビーズブラスト
研磨剤:200番メッシュ相当
ビーズ: ガラスビーズ
繰り返し加工:8回
ハードコート層の厚みを3.7μmとする以外は、サンプル3−1と同様にして光学フィルムを得た。
以下のブラスト加工の条件により、エンボスロールを作製する以外は、サンプル1−1と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。
ブラスト加工:ビーズブラスト
研磨剤:200番メッシュ相当
ビーズ: ガラスビーズ
繰り返し加工:12回
以下のブラスト加工の条件により、表面に凹凸を形成する以外はサンプル1−1と同様にしてエンボスロールを得た。次に、エンボスロールの表面粗さを測定した。その結果を図16に示す。次に、このエンボスロールを用いる以外は、サンプル1−1と同様にして光学フィルムを得た。
ブラスト加工:ビーズブラスト
研磨剤:60番メッシュ相当
ビーズ: ガラスビーズ
繰り返し加工:1回
上述のようにして得られたサンプル1−1〜5の光学フィルムをガラス板の上に貼り付け、JIS K-5400による鉛筆硬度試験方法に従い評価した。その結果を表1に示す。
上述のようにして得られたサンプル1−1〜5の光学フィルムの防眩性を以下のようにして評価した。光学フィルムにむき出しの蛍光灯を写し、反射像のぼやけ方を下記の基準で評価した。その結果を図17に示す。
○:蛍光灯の輪郭が分からない
△:蛍光灯がある程度認識できる
×:蛍光灯がそのまま写りこむ
サンプル1−1〜1−4、2−1〜2−4のように、突起高さが小さくともハードコート層を薄くすれば防眩性を得ることはできるが、サンプル1−4のように、ハードコート塗料の塗布厚が3μm以下になると、鉛筆硬度を十分確保できない。この点を考慮すると、ハートコート層の硬度を確保しつつ、防眩性を発現させるためには、サンプルの最大頻度の突起高さが1.3μm、RSmが54μmを超えることが必要となる。したがって、ハートコート層の硬度を確保しつつ、防眩性を発現させるためには、最大頻度の突起高さを1.5μm以上、RSmを55μm以上とすることが必要である。
基材の凹凸形状に倣ったハードコート層表面を形成できる紫外線硬化樹脂組成物(ハートコート塗料)について検討した。
まず、ブラスト加工で作製したエンボスロールの表面形状を形状転写(エンボス)することによりTACフィルム表面に凹凸を形成した。次に、触針式表面粗さ測定器((株)小阪研究所製サーフコーダET4000)で表面形状を評価した。その評価結果を図18Aおよび図18Bに示す。Ra(算術平均粗さ)=0.509μm、Rz(十点平均粗さ)=2.638μm、RSm(粗さ曲線要素の平均長さ)=85μmであった。また、基材表面の最大頻度の突起高さは1.9μm、基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から2.1μmの高さであった。
ウレタンアクリルオリゴマー 36.6重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 18.3重量部
粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
BYK−410 1.9重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 54.4重量部
まず、サンプル6と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。次に、凹凸付与後のTACフィルム上にサンプル6と同様の紫外線硬化型樹脂組成物を塗工後、80℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmの防眩性ハードコートフィルムを得た。
まず、サンプル6と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。次に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物を凹凸付与後のTACフィルム上にコイルバーで塗工した後、80℃で2分乾燥させた。次に、窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmの防眩性ハードコートフィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー 36.6重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 18.3重量部
粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
BYK−410 2.9重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 53.4重量部
まず、サンプル6と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。次に、上記紫外線硬化型樹脂組成物を凹凸付与後のTACフィルム上にコイルバーで塗工した。塗工後、80℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmのハードコートフィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー 63.3重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 31.6重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 56.3重量部
まず、サンプル6と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。次に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物を凹凸付与後のTACフィルム上にコイルバーで塗工した。塗工後、80℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmのハードコートフィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー 36.6重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 18.3重量部
粒径25nmのシリカフィラー(アクリル変性) 40重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 56.3重量部
まず、サンプル6と同様にして、表面に凹凸を有するTACフィルムを得た。次に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物を凹凸付与後のTACフィルム上にコイルバーで塗工した。塗工後、80℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmのハードコートフィルムを得た。
ウレタンアクリルオリゴマー 63.3重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 31.6重量部
Irgacure184 5重量部
フッ素含有オリゴマー(二官能アクリル) 0.1重量部
BYK−410 1.9重量部
IPA 93.7重量部
シクロヘキサノン 54.4重量部
ブラスト加工で作製したエンボスロールの表面形状を形状転写(エンボス)することによりTACフィルム表面に凹凸を形成した。基材表面の最大頻度の突起高さは1.9μm、基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から3.1μmの高さであった。RSmは85μmであった。次に、凹凸付与後のTACフィルム上にサンプル6と同様の紫外線硬化型樹脂組成物を塗工後、50℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して防汚性を備えた膜厚6μmの防眩性ハードコートフィルムを得た。
ブラスト加工で作製したエンボスロールの表面形状を形状転写(エンボス)することによりTACフィルム表面に凹凸を形成した。基材表面の最大頻度の突起高さは1.9μm、基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から2.1μmの高さであった。RSmは510μmであった。次に、凹凸付与後のTACフィルム上にサンプル6と同様の紫外線硬化型樹脂組成物を塗工後、50℃で2分乾燥させた。窒素雰囲気下で350mJ/cm2の紫外線を照射して膜厚6μmのハードコートフィルムを得た。
2 液晶パネル
2a、2b 偏光子
3 バックライト
4 防眩性偏光子
11、24 基材
12、25 ハードコート層
13 基材
14 原盤
15 ハードコート塗料
16 反射防止層
21 表示部
22 前面部材
23 光学フィルム
24 基材
26 接着層
27 AR層
28 裏面部材
31 エンボスロール
32 バックロール
Claims (12)
- 3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する基材と、
上記基材上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記基材表面の最大頻度の突起高さが、1.5μm以上10μm以下の範囲内であり、
上記基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起が、最大頻度の突起高さの中心値から+3μm以内の高さであり、
上記基材表面の凹凸の横方向長さRSmが、55μm以上500μm以下である光学素子。 - 上記ハードコート層が、無機酸化物フィラーおよび粘度調整剤を含み、
上記無機酸化物フィラーと上記粘度調整剤とが水素結合または配位結合している請求項1記載の光学素子。 - 上記無機酸化物フィラーが、シリカ、アルミナ、ジルコニア、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫(ATO)および酸化アルミニウム亜鉛(AZO)の少なくとも1種を主成分とし、
上記粘度調整剤が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ウレア基、アミド基およびアミノ基の少なくとも1種の置換基を2つ以上含む分子である請求項2記載の光学素子。 - 上記ハードコート層は、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂の少なくとも1種を主成分とする請求項2記載の光学素子。
- 上記基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起が、最大頻度の突起高さの中心値から+2μm以内の高さである請求項1記載の光学素子。
- 上記ハードコート層表面には、上記基材表面の凹凸形状に倣って連続的な波面が形成されている請求項1記載の光学素子。
- 上記不規則な凹凸形状が、ブラスト加工により作製された原盤を形状転写することにより成形されている請求項1記載の光学素子。
- 上記ハードコート層上に形成された反射防止層をさらに備える請求項1記載の光学素子。
- 3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する基材と、
上記基材上に形成されたハードコート層と
を備え、
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さが、0.1μm以上5μm以下の範囲内であり、
上記ハードコート層表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起が、最大頻度の突起高さの中心値から+1μm以内の高さであり、
上記ハードコート層表面の凹凸の横方向長さRSmが55μm以上500μm以下である光学素子。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学素子を備える表示装置。
- ブラスト加工により、3次元的に不規則な凹凸形状を表面に有する原盤を作製する工程と、
上記原盤の凹凸形状を基材に転写する工程と、
上記基材の凹凸形状が形成された面にハードコート塗料を塗布し、硬化させることにより、上記基材上にハードコート層を形成する工程と
を備え、
上記基材表面の最大頻度の突起高さが、1.5μm以上10μm以下の範囲内であり、
上記基材表面の最大頻度の突起高さよりも大きな突起は、最大頻度の突起高さの中心値から+3μm以内の高さであり、
上記基材表面の凹凸の横方向長さRSmが、55μm以上500μm以下である光学素子の製造方法。 - 上記ハードコート塗料は、電離放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂と、無機酸化物フィラーと、粘度調整剤とを含み、
上記ハードコート層の形成工程では、上記無機酸化物フィラーと上記粘度調整剤とが水素結合または配位結合する請求項11記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008335806A JP4678437B2 (ja) | 2008-12-29 | 2008-12-29 | 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 |
US12/645,628 US8747991B2 (en) | 2008-12-29 | 2009-12-23 | Optical device, method for manufacturing the same and display device |
CN2009102588799A CN103278871A (zh) | 2008-12-29 | 2009-12-29 | 光学器件、其制造方法和显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008335806A JP4678437B2 (ja) | 2008-12-29 | 2008-12-29 | 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010156893A true JP2010156893A (ja) | 2010-07-15 |
JP4678437B2 JP4678437B2 (ja) | 2011-04-27 |
Family
ID=42285302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008335806A Expired - Fee Related JP4678437B2 (ja) | 2008-12-29 | 2008-12-29 | 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8747991B2 (ja) |
JP (1) | JP4678437B2 (ja) |
CN (1) | CN103278871A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012165246A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | 株式会社ダイセル | 光学フィルム及びその製造方法 |
KR20160065909A (ko) * | 2013-10-02 | 2016-06-09 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 제1 미세구조화 층 및 코팅을 포함하는 미세구조화 확산기, 광학 적층체, 및 방법 |
CN105948103A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 扬州大学 | 一种碗状氢氧化铟/氧化铟微纳材料的制备方法 |
CN105948102A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 扬州大学 | 一种氢氧化铟/氧化铟中空微球的制备方法 |
JP2017047594A (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 大日本印刷株式会社 | 加飾シート、加飾成形品、および加飾成形品の製造方法 |
JP2018030231A (ja) * | 2016-08-22 | 2018-03-01 | トーノファインプレーティング株式会社 | 表面凹凸構造を有する金型及びその製造方法、並びに前記金型を用いる防眩性樹脂構造体の製造方法 |
KR20230154619A (ko) * | 2022-05-02 | 2023-11-09 | 삼성전기주식회사 | 렌즈, 렌즈 어셈블리 및 휴대용 전자기기 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5724171B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2015-05-27 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置 |
WO2013191092A1 (ja) | 2012-06-22 | 2013-12-27 | シャープ株式会社 | 反射防止構造体及び表示装置 |
DE102013003441A1 (de) | 2013-02-25 | 2014-09-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Elektromagnetische Strahlung streuendes Element |
KR102114141B1 (ko) * | 2013-12-24 | 2020-05-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 하드 코팅 필름 및 이를 이용하는 표시 장치 |
CN106415337A (zh) * | 2014-02-28 | 2017-02-15 | 松下知识产权经营株式会社 | 发光器件以及发光装置 |
JP7009992B2 (ja) * | 2014-10-20 | 2022-01-26 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 断熱グレージングユニット及び微細構造化拡散部を含む微小光学層並びに方法 |
US10288773B2 (en) * | 2015-07-17 | 2019-05-14 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Layered body for optical member and image display device |
JP6560052B2 (ja) * | 2015-08-03 | 2019-08-14 | 株式会社ディスコ | 密着度合検出方法 |
JP6418200B2 (ja) | 2016-05-31 | 2018-11-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP6536560B2 (ja) | 2016-12-27 | 2019-07-03 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
TWI629497B (zh) * | 2017-03-31 | 2018-07-11 | 友達光電股份有限公司 | 抗反射光學膜片 |
WO2018235808A1 (ja) * | 2017-06-20 | 2018-12-27 | Agc株式会社 | ガラス板 |
TWI821234B (zh) | 2018-01-09 | 2023-11-11 | 美商康寧公司 | 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 |
KR102413738B1 (ko) * | 2019-11-25 | 2022-06-27 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 화상 표시 장치 |
CN111696841B (zh) * | 2020-06-22 | 2022-11-29 | 合肥维信诺科技有限公司 | 显示面板及其制备方法 |
US20220011478A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Textured region of a substrate to reduce specular reflectance incorporating surface features with an elliptical perimeter or segments thereof, and method of making the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007122077A (ja) * | 2007-01-11 | 2007-05-17 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩性ハードコートフィルム |
JP2007133209A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面保護シートおよび透過型スクリーン |
WO2008020613A1 (fr) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Laminé optique, plaque polarisante, et appareil de présentation d'images |
JP2008276198A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-11-13 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩性フィルム、その製造方法、防眩性フィルムを用いた偏光板、及び表示装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59109004A (ja) | 1982-12-14 | 1984-06-23 | Sanritsu Denki Kk | 高鮮明度無反射偏光板及びその製造法 |
JPH0459605A (ja) | 1990-06-28 | 1992-02-26 | Victor Co Of Japan Ltd | 超電導体薄膜の製造方法 |
JP3374299B2 (ja) | 1994-04-20 | 2003-02-04 | 大日本印刷株式会社 | 防眩フィルム |
JP3515426B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2004-04-05 | 大日本印刷株式会社 | 防眩フィルムおよびその製造方法 |
JP2004029240A (ja) | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 |
JP2005156615A (ja) | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置 |
DE102004022753B3 (de) * | 2004-05-07 | 2006-02-16 | Byk-Chemie Gmbh | Als Dispergiermittel und Dispersionsstabilisatoren geeignete Additionsverbindungen |
JP2007156132A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム及び画像表示装置 |
KR101425242B1 (ko) * | 2006-10-06 | 2014-08-01 | 도레이 카부시키가이샤 | 하드 코팅 필름, 그의 제조 방법 및 반사 방지 필름 |
JP4315195B2 (ja) * | 2006-12-21 | 2009-08-19 | ソニー株式会社 | 硬化性樹脂材料−微粒子複合材料及びその製造方法、光学材料、並びに発光装置 |
JP4995275B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-08-08 | リンテック株式会社 | 防眩性光透過性ハードコートフィルム |
-
2008
- 2008-12-29 JP JP2008335806A patent/JP4678437B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-12-23 US US12/645,628 patent/US8747991B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-29 CN CN2009102588799A patent/CN103278871A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007133209A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面保護シートおよび透過型スクリーン |
WO2008020613A1 (fr) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Laminé optique, plaque polarisante, et appareil de présentation d'images |
JP2007122077A (ja) * | 2007-01-11 | 2007-05-17 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩性ハードコートフィルム |
JP2008276198A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-11-13 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩性フィルム、その製造方法、防眩性フィルムを用いた偏光板、及び表示装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012165246A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | 株式会社ダイセル | 光学フィルム及びその製造方法 |
KR20160065909A (ko) * | 2013-10-02 | 2016-06-09 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 제1 미세구조화 층 및 코팅을 포함하는 미세구조화 확산기, 광학 적층체, 및 방법 |
KR102267204B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2021-06-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 제1 미세구조화 층 및 코팅을 포함하는 미세구조화 확산기, 광학 적층체, 및 방법 |
JP2017047594A (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 大日本印刷株式会社 | 加飾シート、加飾成形品、および加飾成形品の製造方法 |
CN105948103A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 扬州大学 | 一种碗状氢氧化铟/氧化铟微纳材料的制备方法 |
CN105948102A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 扬州大学 | 一种氢氧化铟/氧化铟中空微球的制备方法 |
JP2018030231A (ja) * | 2016-08-22 | 2018-03-01 | トーノファインプレーティング株式会社 | 表面凹凸構造を有する金型及びその製造方法、並びに前記金型を用いる防眩性樹脂構造体の製造方法 |
KR20230154619A (ko) * | 2022-05-02 | 2023-11-09 | 삼성전기주식회사 | 렌즈, 렌즈 어셈블리 및 휴대용 전자기기 |
KR102662848B1 (ko) * | 2022-05-02 | 2024-05-03 | 삼성전기주식회사 | 렌즈, 렌즈 어셈블리 및 휴대용 전자기기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8747991B2 (en) | 2014-06-10 |
JP4678437B2 (ja) | 2011-04-27 |
CN103278871A (zh) | 2013-09-04 |
US20100167019A1 (en) | 2010-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4678437B2 (ja) | 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 | |
JP5724171B2 (ja) | 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置 | |
JP4155337B1 (ja) | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置 | |
RU2466437C2 (ru) | Оптическая пленка и способ ее изготовления, противобликовый поляризатор и устройство отображения | |
KR101711011B1 (ko) | 광학 필름 및 그 제조 방법 | |
JP5407545B2 (ja) | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置 | |
TWI380050B (ja) | ||
TWI449964B (zh) | An optical film and a method for manufacturing the same, and an anti-glare polarizing element and a display device using the same | |
JP2010020267A (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置 | |
US8220940B2 (en) | Antiglare film, antireflection film, polarizing plate and image display device | |
JP2011107297A (ja) | 防眩性フィルムおよび表示装置 | |
JP2010020268A (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置 | |
JP2010285480A (ja) | 紫外線硬化型樹脂組成物、光学フィルム、および表示装置 | |
JP2008304638A (ja) | 防眩性フィルムおよびその製造方法、偏光子ならびに表示装置 | |
JP2011100027A (ja) | 防眩性フィルム、およびその製造方法 | |
JP2011102881A (ja) | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置 | |
JP2009098657A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2011169987A (ja) | 防眩性フィルムおよびその製造方法、紫外線硬化型樹脂組成物、ならびに表示装置 | |
JP2011123380A (ja) | 防眩性フィルム、およびその製造方法 | |
JP2013238867A (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101020 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110118 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |