JPS59109004A - 高鮮明度無反射偏光板及びその製造法 - Google Patents
高鮮明度無反射偏光板及びその製造法Info
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- JPS59109004A JPS59109004A JP57217770A JP21777082A JPS59109004A JP S59109004 A JPS59109004 A JP S59109004A JP 57217770 A JP57217770 A JP 57217770A JP 21777082 A JP21777082 A JP 21777082A JP S59109004 A JPS59109004 A JP S59109004A
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- Japan
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- polarizing plate
- solvent
- substrate
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は表示体の鮮明度が優れた無反射偏光板とその
製造法に関する。
製造法に関する。
一般ｖｃ、偏光板はポリビニルアルコール（ＰＴＡ）に
ヨウ素又は染料を吸着させてなる偏光素子をトリアセチ
ルセルローズ、ジアセチルセルローズ、アセテートブチ
レートセルローズ等のセルロース系プラスチック基板に
貼着して構成され、これを液晶表示装置に装着して種々
の産業分野において数値、文字、記号、模様その他の表
示用として広く使用されるに至っている。しかし、現在
使用されている偏光板外層のセルロース系プラスチ、り
基板は殆ど表面が平滑であるため、表面における拡散反
射が少なく、外光が鏡面反射して表示体の読取りに困難
を来たしているのが現状である。
ヨウ素又は染料を吸着させてなる偏光素子をトリアセチ
ルセルローズ、ジアセチルセルローズ、アセテートブチ
レートセルローズ等のセルロース系プラスチック基板に
貼着して構成され、これを液晶表示装置に装着して種々
の産業分野において数値、文字、記号、模様その他の表
示用として広く使用されるに至っている。しかし、現在
使用されている偏光板外層のセルロース系プラスチ、り
基板は殆ど表面が平滑であるため、表面における拡散反
射が少なく、外光が鏡面反射して表示体の読取りに困難
を来たしているのが現状である。
従来、かかる透明光学部材に対する外光反射を防止する
方法としては、１）部材表面に微粒子状の無機物例えば
二酸化硅素（Ｓｉｎ、 ）、ガラス、酸化ジルコニウム
等を真空蒸着して反射防止膜を形成する方法、２）シリ
カ、酸化チタン、酸化アルミニウム等の光拡散性粉末を
混合した透明樹脂を溶融又は溶媒に溶解塗布して部材表
面にこれらの無機物の粒子皮膜を形成させる方法、３）
ガラス板表面を弗化水素により侵蝕して微細な凹凸を形
成させた型ガラスにプラスチックを注入重合はせる所謂
注型法による方法、４）直接グラスチック板表面に金剛
砂、／リカ、ガラス等の粉末を吹付ける所謂サンドブラ
スト法によって微細な凹凸を形成させる方法等が知られ
ている。
方法としては、１）部材表面に微粒子状の無機物例えば
二酸化硅素（Ｓｉｎ、 ）、ガラス、酸化ジルコニウム
等を真空蒸着して反射防止膜を形成する方法、２）シリ
カ、酸化チタン、酸化アルミニウム等の光拡散性粉末を
混合した透明樹脂を溶融又は溶媒に溶解塗布して部材表
面にこれらの無機物の粒子皮膜を形成させる方法、３）
ガラス板表面を弗化水素により侵蝕して微細な凹凸を形
成させた型ガラスにプラスチックを注入重合はせる所謂
注型法による方法、４）直接グラスチック板表面に金剛
砂、／リカ、ガラス等の粉末を吹付ける所謂サンドブラ
スト法によって微細な凹凸を形成させる方法等が知られ
ている。
しかし、ト記１）及び２）の方法は耐久性及び耐湿熱性
に乏しく、基材表面に形成した反射防止膜又は粒子皮膜
が経時的に剥離し易いため、使用範囲も限定され偏光板
基板（（は不適である。３）の注型法はアクリル樹脂等
の重合注型ｎＪ能なグラスチックＫＩＳＪＪ定され偏光
板基板に使用されるセルローズ系樹脂には適用し得ない
。又、４）の直接プラスチック面にサンドブラストを行
なう方法では表面に形成される凹凸面が粗く光の拡散が
強過ぎて表示板の解像力が低下し望ましい反射防上皮膜
が得られないという問題点がある。
に乏しく、基材表面に形成した反射防止膜又は粒子皮膜
が経時的に剥離し易いため、使用範囲も限定され偏光板
基板（（は不適である。３）の注型法はアクリル樹脂等
の重合注型ｎＪ能なグラスチックＫＩＳＪＪ定され偏光
板基板に使用されるセルローズ系樹脂には適用し得ない
。又、４）の直接プラスチック面にサンドブラストを行
なう方法では表面に形成される凹凸面が粗く光の拡散が
強過ぎて表示板の解像力が低下し望ましい反射防上皮膜
が得られないという問題点がある。
本発明者等は従来法のかかるプラスチック基板に対する
反射防１ヒ方法の問題点に鑑がみ、主としてセルロース
系プラスチックを基板として使用する偏光板に対して耐
久性の優れた反射防止層を形成する方法について種々検
討を行なった結果、金属ロールの表面に金剛砂、シリカ
粉末等を噴射する公知のサンドブラスト法その他の方法
でエンボス加工を施こし、表面に不規則な微細凹凸粗面
を形成させた金属ロールを平滑弾性ロールと組み合せ、
この両者のロール間に偏光板のプラスチック基板面を金
属ロール面に接して加熱加圧条件ドで該偏光板を圧接通
過きせることによって形成されたプラスチック基板のエ
ンボス成型面が耐久性のある偏光板の反射防止層として
最も優れていることを見出すに至った。しかし、このエ
ンボス加工による方法の欠点として、金属ロールの表面
に形成されるエンボスのメツシュ度合を種々に変化させ
−ＣＯＴ成り微細なエンボス簡に形成しても、プラスチ
ック基板面での光の拡散が強く、且つ、表示体の表示が
ぼけて不鮮明になるという欠点がある。
反射防１ヒ方法の問題点に鑑がみ、主としてセルロース
系プラスチックを基板として使用する偏光板に対して耐
久性の優れた反射防止層を形成する方法について種々検
討を行なった結果、金属ロールの表面に金剛砂、シリカ
粉末等を噴射する公知のサンドブラスト法その他の方法
でエンボス加工を施こし、表面に不規則な微細凹凸粗面
を形成させた金属ロールを平滑弾性ロールと組み合せ、
この両者のロール間に偏光板のプラスチック基板面を金
属ロール面に接して加熱加圧条件ドで該偏光板を圧接通
過きせることによって形成されたプラスチック基板のエ
ンボス成型面が耐久性のある偏光板の反射防止層として
最も優れていることを見出すに至った。しかし、このエ
ンボス加工による方法の欠点として、金属ロールの表面
に形成されるエンボスのメツシュ度合を種々に変化させ
−ＣＯＴ成り微細なエンボス簡に形成しても、プラスチ
ック基板面での光の拡散が強く、且つ、表示体の表示が
ぼけて不鮮明になるという欠点がある。
本発明者はこの問題を解決すべく更に研究を進めた結果
、凹凸粗面を形成した金属ロールを用いてエンボス加工
した偏光板のグラスチック基板面を溶剤処理することに
よって表示体の表示の鮮明度を顕著に向上しうろことを
見出し本発明をなすに至った。
、凹凸粗面を形成した金属ロールを用いてエンボス加工
した偏光板のグラスチック基板面を溶剤処理することに
よって表示体の表示の鮮明度を顕著に向上しうろことを
見出し本発明をなすに至った。
即ち、本発明は特に自動車、航空機、農業機械その他の
産業機器等耐久性を必要とする用途に使用するため、耐
久性及び耐湿熱性に優れた外光反射面を有するとともに
表示体の鮮明度の高い偏光板並びにその製造法を提供す
ることを目的としてなされたもので、偏光板基板面にエ
ンボス加工による微細凹凸粗面を有し、該微細凹凸粗面
の表層が溶剤により一部溶解されてなる高鮮明度無反射
偏光板並びに偏光板基板を微細凹凸粗面を形成した金属
ロールで加熱圧接して該基板面に微細凹凸粗面を転写し
た後、該偏光板基板を溶解する溶剤中に短時間凌漬し、
次いで該基板の不溶解溶剤を用いて洗浄、乾燥すること
を要旨とする高鮮明度無反射偏光板の製造法である。
産業機器等耐久性を必要とする用途に使用するため、耐
久性及び耐湿熱性に優れた外光反射面を有するとともに
表示体の鮮明度の高い偏光板並びにその製造法を提供す
ることを目的としてなされたもので、偏光板基板面にエ
ンボス加工による微細凹凸粗面を有し、該微細凹凸粗面
の表層が溶剤により一部溶解されてなる高鮮明度無反射
偏光板並びに偏光板基板を微細凹凸粗面を形成した金属
ロールで加熱圧接して該基板面に微細凹凸粗面を転写し
た後、該偏光板基板を溶解する溶剤中に短時間凌漬し、
次いで該基板の不溶解溶剤を用いて洗浄、乾燥すること
を要旨とする高鮮明度無反射偏光板の製造法である。
以下に本発明の詳細な説明する。
先ず、偏光板のグラスチック基板面に対するエンボス加
工は次のようにして次なう。即ち、予め、軟鋼、半硬鋼
、硬鋼等の材質からなる金属ロール面に例えば金剛砂、
シリカ粉末等の硬質微粒無機質粉本を高速で噴射させる
所謂サンドブラスト法或１はフォトエツチング法、その
他機械的方法等を使用し、局面に不規則な微細凹凸粗面
を形成させてエンボス加工を施こした金属ロール（以下
単に金属ロールともいう。）を平滑弾性ロール例えばゴ
ｌｋロール、コツトンロール等と組−ｖ合せたエンボス
加工装置を用いて偏光板の基板面に加熱加圧下でエンボ
ス加工処理を施こす。この場合、規則的な凹凸模様の彫
刻ロールを用いたエンボス加工では望ましい反射防止層
が形成されない。
工は次のようにして次なう。即ち、予め、軟鋼、半硬鋼
、硬鋼等の材質からなる金属ロール面に例えば金剛砂、
シリカ粉末等の硬質微粒無機質粉本を高速で噴射させる
所謂サンドブラスト法或１はフォトエツチング法、その
他機械的方法等を使用し、局面に不規則な微細凹凸粗面
を形成させてエンボス加工を施こした金属ロール（以下
単に金属ロールともいう。）を平滑弾性ロール例えばゴ
ｌｋロール、コツトンロール等と組−ｖ合せたエンボス
加工装置を用いて偏光板の基板面に加熱加圧下でエンボ
ス加工処理を施こす。この場合、規則的な凹凸模様の彫
刻ロールを用いたエンボス加工では望ましい反射防止層
が形成されない。
エンボス加工処理における加熱加圧条件は対象とする偏
光板基板の種類によっても異なるが、セルローズアセテ
ート系グラスチック基板を使用した場合、金属ロールの
加熱温度は１００〜１５０℃、好ましくは１２５〜１３
５Ｃ，プレス圧は６０〜３００ ｋｇ／濡に保持して圧
接されたロール間を２〜３０ｍ／分の速度で偏光板を基
板面を金属ロール面に対向させて通過させる。この場合
、金属ロールの加熱は公仰の手段、例えば電熱加熱方式
、熱媒循環〃ｕ熱方式、熱媒密閉誘導相熱方式等を金属
ロール内に具備させることによって行ない、又加圧は金
属ロールと弾性ロール間の間隙を空気圧式又は油圧式に
より調整することができる。
光板基板の種類によっても異なるが、セルローズアセテ
ート系グラスチック基板を使用した場合、金属ロールの
加熱温度は１００〜１５０℃、好ましくは１２５〜１３
５Ｃ，プレス圧は６０〜３００ ｋｇ／濡に保持して圧
接されたロール間を２〜３０ｍ／分の速度で偏光板を基
板面を金属ロール面に対向させて通過させる。この場合
、金属ロールの加熱は公仰の手段、例えば電熱加熱方式
、熱媒循環〃ｕ熱方式、熱媒密閉誘導相熱方式等を金属
ロール内に具備させることによって行ない、又加圧は金
属ロールと弾性ロール間の間隙を空気圧式又は油圧式に
より調整することができる。
このエンボス加工処理てよって偏光板基板面に金属ロー
ルの微細な凹凸粗面が転写される。これによって偏光板
基板面には耐久性のある外光の無反射面が形成されるが
、この無反射偏光板を液晶表示装置に装着して表示体を
読取るに際し、表示体の鮮明度が悪いという欠点がある
。本発明ではこの欠点を除去するために更にエンボス加
工を施こした偏光板について溶剤処理を行ない、偏光板
の基板面に形成された微細凹凸粗面の一部表層を溶解さ
せる。この溶剤処理に使用する溶剤としては偏光板の基
板の溶解性が良好であると共に、後処理上程として基板
の不溶解溶剤を用いて洗浄処理工程を行なう必要から、
この不溶解溶剤との相溶性のある溶剤であることが望ま
しく、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−Ｎ−
ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、蟻酸メチル
、酢酸メチル、トリアセチン、アセトン、ジオキサン、
メチレンクロライド、四塩化エタン等の有機溶剤が好適
に使用しうる。又、これらの溶剤は単体で使用するより
も寧ろ水その他の偏光板基板の不溶解溶剤との相溶液と
して使用した方が偏光板基板の溶解を緩和に進行させる
上から望ましく、溶媒と不溶解溶剤との配合割合は６０
〜８０：４０〜２０（マ０２％）の範囲で適宜選足する
ことができるＯ 上記基板の不溶解溶剤としては水が一般的であルカソノ
他メチルアルコール、エチルアルコール、イングロビル
アルコール等のアルコール類、四塩化炭素、四塩化エチ
レン、二硫化炭素、エチレングリコール、フレオン等の
溶剤を挙げることができる。
ルの微細な凹凸粗面が転写される。これによって偏光板
基板面には耐久性のある外光の無反射面が形成されるが
、この無反射偏光板を液晶表示装置に装着して表示体を
読取るに際し、表示体の鮮明度が悪いという欠点がある
。本発明ではこの欠点を除去するために更にエンボス加
工を施こした偏光板について溶剤処理を行ない、偏光板
の基板面に形成された微細凹凸粗面の一部表層を溶解さ
せる。この溶剤処理に使用する溶剤としては偏光板の基
板の溶解性が良好であると共に、後処理上程として基板
の不溶解溶剤を用いて洗浄処理工程を行なう必要から、
この不溶解溶剤との相溶性のある溶剤であることが望ま
しく、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−Ｎ−
ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、蟻酸メチル
、酢酸メチル、トリアセチン、アセトン、ジオキサン、
メチレンクロライド、四塩化エタン等の有機溶剤が好適
に使用しうる。又、これらの溶剤は単体で使用するより
も寧ろ水その他の偏光板基板の不溶解溶剤との相溶液と
して使用した方が偏光板基板の溶解を緩和に進行させる
上から望ましく、溶媒と不溶解溶剤との配合割合は６０
〜８０：４０〜２０（マ０２％）の範囲で適宜選足する
ことができるＯ 上記基板の不溶解溶剤としては水が一般的であルカソノ
他メチルアルコール、エチルアルコール、イングロビル
アルコール等のアルコール類、四塩化炭素、四塩化エチ
レン、二硫化炭素、エチレングリコール、フレオン等の
溶剤を挙げることができる。
次に、前述のようにしてエンボス加工を施こした偏光板
を上記の溶剤と不溶解溶剤との混合液で浸漬処理を行な
う。この浸漬処理の条件は、偏光板基板の種類、溶剤又
は不溶解溶剤の種類、配合比、浸漬温度、浸漬時間等の
組み合せに応じて４１々の設定が可能であり一部に規定
し得ないが、温度３０−４０℃の場合、２０秒〜６分程
度の短時間の浸漬で良好な結果が得られる。
を上記の溶剤と不溶解溶剤との混合液で浸漬処理を行な
う。この浸漬処理の条件は、偏光板基板の種類、溶剤又
は不溶解溶剤の種類、配合比、浸漬温度、浸漬時間等の
組み合せに応じて４１々の設定が可能であり一部に規定
し得ないが、温度３０−４０℃の場合、２０秒〜６分程
度の短時間の浸漬で良好な結果が得られる。
次に、上記の溶剤浸漬処理に引続いて溶剤の洗浄及び乾
燥処理を行なう。洗竺液としては前記の不溶解溶剤が使
用しうるが、就中、水を洗浄液として使用することが経
隣的であり一般的である。
燥処理を行なう。洗竺液としては前記の不溶解溶剤が使
用しうるが、就中、水を洗浄液として使用することが経
隣的であり一般的である。
洗浄方法としては浸漬洗浄、シャワー洗浄等を使用しう
るが、溶剤による基板の過度の溶解を防上する上から基
板に付着した溶剤を迅速に除去する必要があり、この目
的にはシャワー洗浄が適している。洗浄後の乾燥は水洗
浄の場合で約６０℃以下、好ましくは約５０℃の送風乾
燥機中を約１０分間通過させることによって達成式れる
。
るが、溶剤による基板の過度の溶解を防上する上から基
板に付着した溶剤を迅速に除去する必要があり、この目
的にはシャワー洗浄が適している。洗浄後の乾燥は水洗
浄の場合で約６０℃以下、好ましくは約５０℃の送風乾
燥機中を約１０分間通過させることによって達成式れる
。
以ト述べた本発明の処理は基板に偏光素子を貼着して形
成した偏光板についてのみに限定されず、基板のみにつ
いて予め上記の処理を行なって無反射グラスチック板を
形成した後、処理面を外層として偏光素子に貼着して本
発明の偏光板を製造してもよい。
成した偏光板についてのみに限定されず、基板のみにつ
いて予め上記の処理を行なって無反射グラスチック板を
形成した後、処理面を外層として偏光素子に貼着して本
発明の偏光板を製造してもよい。
以上詳細に説明したように、本発明によれば外光の１億
面反射による表示体の読取りの困難さがなく、耐久性及
び耐湿熱性の優れた無反射偏光板が得られると共に、無
反射偏光板に附随した表示体の不鮮明性が除去されて高
鮮明度の無反射偏光板を提供することができる。え、本
発明の高鮮明度無反射偏光板の製造法は偏光板基板を＃
細凹凸粗面を形成した金属ロールで加熱圧接して、該基
板面に微細凹凸粗面を転写させた後、該基板を溶解する
溶剤中に短時間浸漬し、次いで該基板の不溶解溶剤を用
いて洗浄乾燥する方法であるから、比較的簡単な処理操
作で耐久性のある高鮮明度の無反射偏光板を連続的に大
量生産することができる利点を有する。
面反射による表示体の読取りの困難さがなく、耐久性及
び耐湿熱性の優れた無反射偏光板が得られると共に、無
反射偏光板に附随した表示体の不鮮明性が除去されて高
鮮明度の無反射偏光板を提供することができる。え、本
発明の高鮮明度無反射偏光板の製造法は偏光板基板を＃
細凹凸粗面を形成した金属ロールで加熱圧接して、該基
板面に微細凹凸粗面を転写させた後、該基板を溶解する
溶剤中に短時間浸漬し、次いで該基板の不溶解溶剤を用
いて洗浄乾燥する方法であるから、比較的簡単な処理操
作で耐久性のある高鮮明度の無反射偏光板を連続的に大
量生産することができる利点を有する。
実施例１゜
１８０メ、シュの金剛砂を半硬鋼スチール製金属ロール
（径１８０ｍ＄Ｘ巾６７５關）に噴射してその表面に微
細な不規則凹凸粗面を形成したエンボスロールド弾性硬
質ゴムロール（径３００ 喘［Ｆ］×巾６５０ｍ）とを
組合せたエンボス加工装置４を用いて、該金属ロールの
表面温度を１２０℃に加熱し、ローラー間のプレス圧を
１００ ｋｇ／ｃｍに調節した後、中５２５１１１１１
、厚さ１８０μ、基板がトリアセチルセルローズからな
る偏光板（王立電機ＫＫ製）を１０ｍ／分の速度で通過
させたところ、微細な不規則凹凸粗面を有するエンボス
ロールｊｎｉが均一に基板面に転写はれ、外観、品質の
優れた無反射偏光板が得られた。これを液晶艮氷装置に
装着した場合、外部反射光の拡散性が極めて良好で偏光
板に対する反射防止効果は充分であったが、表示の鮮明
度を人き少しぼけた状態に見え表示体としては好ましく
ないものであった。そこで、得られた無反射（、Ｉ＄光
板を溶剤としてＮ−メチル−２−ビＤ ＩＪド／、不溶
解溶剤として水をそれぞれ７０ ： ３ｏ（ｖｏｔ係）
＆て混合した液温２５℃の溶液中に３分間通過させた後
、ンヤワー水洗し水切り後、５０℃の送風乾燥機中を１
０分間通過させて乾燥したところ、基板面知極く微細な
凹凸面を有する美し、い無反射偏光板かえられた。この
無反射偏光板を前記と同様に液、犠表事装置に装着した
ところ′ぺ部反射光の拡散性及び表示の１鮮明度共に１
憂れだ無反射ｌｌ１ｌ光板であることが実証された。
（径１８０ｍ＄Ｘ巾６７５關）に噴射してその表面に微
細な不規則凹凸粗面を形成したエンボスロールド弾性硬
質ゴムロール（径３００ 喘［Ｆ］×巾６５０ｍ）とを
組合せたエンボス加工装置４を用いて、該金属ロールの
表面温度を１２０℃に加熱し、ローラー間のプレス圧を
１００ ｋｇ／ｃｍに調節した後、中５２５１１１１１
、厚さ１８０μ、基板がトリアセチルセルローズからな
る偏光板（王立電機ＫＫ製）を１０ｍ／分の速度で通過
させたところ、微細な不規則凹凸粗面を有するエンボス
ロールｊｎｉが均一に基板面に転写はれ、外観、品質の
優れた無反射偏光板が得られた。これを液晶艮氷装置に
装着した場合、外部反射光の拡散性が極めて良好で偏光
板に対する反射防止効果は充分であったが、表示の鮮明
度を人き少しぼけた状態に見え表示体としては好ましく
ないものであった。そこで、得られた無反射（、Ｉ＄光
板を溶剤としてＮ−メチル−２−ビＤ ＩＪド／、不溶
解溶剤として水をそれぞれ７０ ： ３ｏ（ｖｏｔ係）
＆て混合した液温２５℃の溶液中に３分間通過させた後
、ンヤワー水洗し水切り後、５０℃の送風乾燥機中を１
０分間通過させて乾燥したところ、基板面知極く微細な
凹凸面を有する美し、い無反射偏光板かえられた。この
無反射偏光板を前記と同様に液、犠表事装置に装着した
ところ′ぺ部反射光の拡散性及び表示の１鮮明度共に１
憂れだ無反射ｌｌ１ｌ光板であることが実証された。
実施例２゜
実施例１で得られたエンボス加工済みの無反射偏光板を
溶剤としてＮ−Ｎ−ジメチルホルムアミド、不溶解溶剤
として水をそれぞれ６ Ｑ ： ４０（ｖｏｔ％）に混
合しだ液温４０℃の溶液中に２分間通過させた後、実施
例１と同様の条件で水洗、乾燥したところ外部４反射光
の拡散性及び表示の鮮明度共に優れた無反射偏光板が得
られた。
溶剤としてＮ−Ｎ−ジメチルホルムアミド、不溶解溶剤
として水をそれぞれ６ Ｑ ： ４０（ｖｏｔ％）に混
合しだ液温４０℃の溶液中に２分間通過させた後、実施
例１と同様の条件で水洗、乾燥したところ外部４反射光
の拡散性及び表示の鮮明度共に優れた無反射偏光板が得
られた。
特許出願人 王立電機株式会社
２６
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ・１）偏光板基板面にエンボス加工による微細凹凸粗面
を有し、該微細凹凸粗面の表層が溶剤により一部溶解さ
れてなる高鮮明度無反射偏光板。 （２）偏光板基板を、微細凹凸粗面を形成した金属ロー
ルで加熱圧接して該基板面に微細凹凸粗面を転写させた
後、該基板を溶解する溶剤中に短時間浸漬し、次いで該
基板の不溶解溶剤を用いて洗浄、乾燥することを特徴と
する高鮮明度無反射偏光板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217770A JPS59109004A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 高鮮明度無反射偏光板及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217770A JPS59109004A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 高鮮明度無反射偏光板及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59109004A true JPS59109004A (ja) | 1984-06-23 |
| JPH0459605B2 JPH0459605B2 (ja) | 1992-09-22 |
Family
ID=16709455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57217770A Granted JPS59109004A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 高鮮明度無反射偏光板及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59109004A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63216001A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-09-08 | Sanritsu Denki Kk | 耐摩傷性の無反射偏光板 |
| JPS63173220U (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | ||
| US8747991B2 (en) | 2008-12-29 | 2014-06-10 | Sony Corporation | Optical device, method for manufacturing the same and display device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5724171B2 (ja) | 2009-01-09 | 2015-05-27 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5023312U (ja) * | 1973-06-27 | 1975-03-15 | ||
| JPS56126621U (ja) * | 1980-02-27 | 1981-09-26 |
-
1982
- 1982-12-14 JP JP57217770A patent/JPS59109004A/ja active Granted
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| US8747991B2 (en) | 2008-12-29 | 2014-06-10 | Sony Corporation | Optical device, method for manufacturing the same and display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0459605B2 (ja) | 1992-09-22 |
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