JP2010096459A - グロープラグ及びそのグロープラグの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記封止部材3eと前記絶縁粉末3dの間のシーズチューブ3a内の体積V1(通電端子軸領域含まず。)と、前記後端開口縁から絶縁粉末3dの間のシーズチューブ3a内の体積V2(通電端子軸領域含まず。)が、V1/V2≧1/3であるグロープラグを提供する。
【選択図】 図1
Description
前記シーズヒータ300は、先端側がほぼ半球状に閉じ後端側が開口した筒状形態である金属製のシーズチューブ300aと、そのシーズチューブ300aの後端開口側から当該シーズチューブ内に自己の先端側を臨ませた円柱状の通電端子軸300bと、その通電端子軸300bに自己の後端が接続されると共に先端が前記シーズチューブ300aの先端内面に接続されてなる抵抗線コイル300cと、前記シーズチューブ300a内で前記通電端子軸300bの先端側と抵抗線コイル300cとを埋設する絶縁粉末300d(例えばマグネシアの粉末)と、前記通電端子軸300bと前記シーズチューブ300aの後端開口との間に環状に配置され当該シーズチューブ300aを密封する封止部材300e(例えば絶縁可能・弾性変形可能なゴムパッキン)と、から概略構成される(特許文献1)。
そのためシーズチューブ300aの後端開口部内周面の面粗度を高めて封止部材300eとの密着性を高める等の対策が施されているが、それでもシール不良の発生が防げないことがある。その原因を探求したところ、シーズチューブ300aの後端開口の内周と封止部材300eの間に細かな絶縁粉末300dが入り込み介在していることが確認された。このような絶縁粉末300dの介在は、通電端子軸300bの外周と封止部材300eの間でも同様に起こり得る。
前記封止部材と前記絶縁粉末の間のシーズチューブ内の体積V1(通電端子軸領域含まず。以下、同じ)と、前記後端開口縁から絶縁粉末の間のシーズチューブ内の体積V2(通電端子軸領域含まず。以下、同じ)が、V1 /V2 ≧1/3であることを特徴とする。
前記シーズヒータは、
軸方向に延び、先端側が閉じ後端側が開口した筒状形態である金属製のシーズチューブと、
そのシーズチューブの後端側から当該シーズチューブ内に自己の先端側を臨ませた柱状の通電端子軸と、
その通電端子軸に自己の後端が接続されると共に先端が前記シーズチューブの先端内面に接続されてなる抵抗線コイルと、
前記シーズチューブ内で前記通電端子軸の先端側と抵抗線コイルとを埋設するとともに押し固められた絶縁粉末と、
前記通電端子軸と前記シーズチューブの後端開口との間に環状に配置され、当該シーズチューブを密封する封止部材と、を有し、
該シーズヒータは、
押し固めた絶縁粉末内に前記通電端子軸の先端側と抵抗線コイルが埋設されたシーズチューブに対し、前記絶縁粉末と前記封止部材の間が離間するように前記シーズチューブの後端に当該封止部材を装填する装填工程と、
前記封止部材が装填されたシーズチューブに対し、前記シーズチューブのスウェージングを行い、前記絶縁粉末の端面と前記シーズチューブの後端内周面と前記通電端子軸の外周面と前記封止部材とによって形成される空間(体積V1)と、前記絶縁粉末の端面と前記シーズチューブの後端内周面と前記通電端子軸の外周面と前記シーズチューブの後端開口縁までで形成される仮想空間(体積V2)が、V1/V2≧1/3となるようにしたスウェージング工程と、
を有することを特徴とする。
以下に本発明の実施形態1を図1〜図7を参照しつつ説明する。なお、図1はグロープラグの縦断面図、図2はスウェージング前のシーズヒータを示す縦断面図、図3〜図7は封止部材の他の形態を示す要部の縦断面図である。
なお、図1において、3fは通電端子軸3bに装着する絶縁環、3gは通電端子軸3bに螺合する丸ナットである。
シーズチューブ3aに封止部材3eを嵌めた図1の状態では、封止部材3eと絶縁粉末3dの間に前記通電端子軸3bの領域を含まない体積V1 の空間S1 が形成されており、その体積V1 は、シーズチューブ3aの後端開口縁から絶縁粉末3dまでの前記通電端子軸3bの領域を含まないシーズチューブ3a内の体積V2 (封止部材3eで塞がっている部分も空間とみなした仮想空間)に対して1/3倍以上の大きさになっている。
まず、従来公知の方法を用いて、押し固めた絶縁粉末3d内に前記通電端子軸3bの一部と抵抗線コイル3cが埋設された状態になっているシーズチューブ3aを製造する。例えば、通電端子軸3bと抵抗線コイル3cを溶接により接合した後、抵抗線コイル3cの先端をシーズチューブ3aの先端内面に溶接し、その状態のシーズチューブ3aに絶縁粉末3dを充填してプレスで必要固さに押し固める。なお、ここまでの工程はどのような順序でもよく、特に限定されない。
なお、封止部材3eのスウェージング前の厚さtは、後のスウェージングに伴う増分を見込んで、シーズチューブ3aの後端開口縁から絶縁粉末3dの間の高さh0 に対し、ほぼ1/2〜1/3に設定されている。そうすることによりスウェージング後の前記体積V1 とV2 の比を約1/3にすることができる。ここで封止部材3eのスウェージングに伴う厚さtの増分は、封止部材3eの材質とスウェージング率により、計算上若しくは試作の実施により特定できる。
(a)シーズチューブ3aの外径を計測する。
(b)130℃のエンジンオイル中に100時間浸漬する。
(c)その後、11Vの電圧で180秒間通電する。
(d)シーズチューブ3aの外径を再度計測し、加熱・通電前の外径と比較する。
上記試験の結果を表3に示す。
図8,図9は実施形態2を示すシーズヒータの縦断面図である。前記実施形態1は、シーズチューブ3aの後端開口縁とほぼ同一の高さになるまで封止部材3eを押し込みスウェージングをして空間S1 を形成したが、実施形態2のシーズヒータ3は、図8に示したように、前記シーズチューブ3aの後端開口縁から先端側に向けて大径部3a−1を形成してそれより小径な部分との境界に段部3a−2を形成し、一方、封止部材3eをシーズチューブ3aの前記大径部3a−1に嵌まる形状に形成したものであり、該段部3a−2に当たって封止部材3eの嵌合深さが規定されるようにしてある。斯かる構成において、段部3a−2の位置を絶縁粉末3dから前記高さh1 となるところに設定しておけば、封止部材3eの先端がほぼ正確に位置決めされるため、空間S1 の体積V1 の精度が出しやすい。
3 …シーズヒータ
3a …シーズチューブ
3b …通電端子軸
3c …抵抗線コイル
3d …絶縁粉末
3e …封止部材
3a−1…大径部
3a−2…段部
3e−4…大径部
3e−5…段部
Claims (7)
- 軸方向に延び、先端側が閉じ後端側が開口した筒状形態である金属製のシーズチューブと、
そのシーズチューブの後端側から当該シーズチューブ内に自己の先端側を臨ませた柱状の通電端子軸と、
その通電端子軸に自己の後端が接続されると共に先端が前記シーズチューブの先端内面に接続されてなる抵抗線コイルと、
前記シーズチューブ内で前記通電端子軸の先端側と抵抗線コイルとを埋設する絶縁粉末と、
前記通電端子軸と前記シーズチューブの後端開口との間に環状に配置され、当該シーズチューブを密封する封止部材と、を備えたグロープラグであって、
前記封止部材と前記絶縁粉末の間のシーズチューブ内の体積V1(通電端子軸領域含まず。)と、前記後端開口縁から絶縁粉末の間のシーズチューブ内の体積V2(通電端子軸領域含まず。)が、V1 /V2 ≧1/3であることを特徴とするグロープラグ。 - 前記封止部材のシーズチューブと接した部分における軸方向の長さが3mm以上であることを特徴とする請求項1に記載のグロープラグ。
- 前記通電端子軸の前記絶縁粉末に埋設された部分の長さが10mm以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のグロープラグ。
- 前記シーズチューブの後端開口縁から先端側に向けて大径部を形成するか又は封止部材の胴部の後端側外周に大径部を突設してそれより小径な部分との境界に段部を形成し、該段部により封止部材の嵌合深さを規定するようにしたことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のグロープラグ。
- シーズヒータを備えたグロープラグの製造方法であって、
前記シーズヒータは、
軸方向に延び、先端側が閉じ後端側が開口した筒状形態である金属製のシーズチューブと、
そのシーズチューブの後端側から当該シーズチューブ内に自己の先端側を臨ませた柱状の通電端子軸と、
その通電端子軸に自己の後端が接続されると共に先端が前記シーズチューブの先端内面に接続されてなる抵抗線コイルと、
前記シーズチューブ内で前記通電端子軸の先端側と抵抗線コイルとを埋設するとともに押し固められた絶縁粉末と、
前記通電端子軸と前記シーズチューブの後端開口との間に環状に配置され、当該シーズチューブを密封する封止部材と、を有し、
該シーズヒータは、
押し固めた絶縁粉末内に前記通電端子軸の先端側と抵抗線コイルが埋設されたシーズチューブに対し、前記絶縁粉末と前記封止部材の間が離間するように前記シーズチューブの後端に当該封止部材を装填する装填工程と、
前記封止部材が装填されたシーズチューブに対し、前記シーズチューブのスウェージングを行い、前記絶縁粉末の端面と前記シーズチューブの後端内周面と前記通電端子軸の外周面と前記封止部材とによって形成される空間(体積V1 )と、前記絶縁粉末の端面と前記シーズチューブの後端内周面と前記通電端子軸の外周面と前記シーズチューブの後端開口縁までで形成される仮想空間(体積V2 )が、V1/V2≧1/3となるようにしたスウェージング工程と、
を有することを特徴とするグロープラグの製造方法。 - 前記シーズチューブに対するスウェージング工程は、シーズチューブの後方部位を絞って縮径する第1工程と、その第1工程の後に通電端子軸を保持して残りの部分を縮径する第2工程と、からなることを特徴とする請求項5に記載のグロープラグの製造方法。
- 前記スウェージング工程の第1工程は、前記封止部材が装填された前記シーズチューブの後端をスウェージングする工程であることを特徴とする請求項6に記載のグロープラグの製造方法。
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