JP2010086567A - 垂直磁気記録媒体の評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、円板状に形成された垂直磁気記録媒体100を評価する垂直磁気記録媒体の評価方法であって、垂直磁気記録媒体の円周方向に所定の範囲における複数の所定の周波数の試験信号を記録し、記録された信号の再生出力を所定の周波数ごとに連続的に測定しプロファイルを生成し、プロファイルにおけるピークを導出し、当該ピークにおける試験信号の周波数を抽出し、抽出した周波数の試験信号のシグナルノイズ比を測定し、測定したシグナルノイズ比に基づいて媒体を評価することを特徴としている。
【選択図】図1
Description
T. Oikawa et. al., IEEE Trans. Magn, vol.38, 1976-1978(2002)
図1は、本実施形態にかかる垂直磁気記録媒体の評価方法(以下単に、評価方法と称する。)の処理の流れを示したフローチャートである。
ディスク基体110は、アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円板状に成型したガラスディスクを用いることができる。なおガラスディスクの種類、サイズ、厚さ等は特に制限されない。ガラスディスクの材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどが挙げられる。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性のディスク基体110を得ることができる。
上述した基体成型工程で得られたディスク基体110上に、DCマグネトロンスパッタリング法にて付着層112、軟磁性層114、前下地層116、下地層118、非磁性グラニュラー層120、磁気記録層122、補助記録層124を順次成膜を行い、媒体保護層126はCVD法により成膜する(保護層成膜工程)。この後、潤滑層128をディップコート法により成膜する(潤滑層成膜工程)。なお、生産性が高いという点で、インライン型成膜方法を用いることも好ましい。以下、各層の構成および製造方法について説明する。
上述した第1実施形態では、最大の出力が得られる試験信号の周波数を抽出し、最大の出力が得られる周波数の試験信号でSNRを測定するSNR測定工程を含む構成により、垂直磁気記録媒体ごとに検出されるSNRのばらつきを抑制可能な評価方法について説明したが、抽出した最大の出力が得られる周波数の試験信号でBERを測定することでも安定して垂直磁気記録媒体を評価することが可能となる。
発明者は、磁気記録層122に含まれる結晶をグラニュラー構造として成長させる作用を有する下地層118の膜厚が、上述した第1実施形態および第2実施形態における信号測定工程S102で生成したプロファイルにおけるピークすなわち最大の出力が得られる試験信号の周波数に依存していることを見出した。
ディスク基体110上に、真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、付着層112から補助記録層124まで順次成膜を行った。付着層112は、CrTiとした。軟磁性層114は、第1軟磁性層114a、第2軟磁性層114cの組成はCoFeTaZrとし、スペーサ層114bの組成はRuとした。前下地層116の組成はfcc構造のNiW合金とした。下地層118は、第1下地層118aは低圧Ar下でRuを成膜し、第2下地層118bは高圧Ar下でRuを成膜した。非磁性グラニュラー層120の組成は非磁性のCoCr−SiO2とした。第1磁気記録層122aの組成は、CoCrPt−Cr2O3とし、第2磁気記録層122bの組成は、CoCrPt−SiO2−TiO2とした。補助記録層124の組成はCoCrPtBとした。媒体保護層126はCVD法によりC2H4を用いて成膜し、同一チャンバ内で、窒素を導入して窒化処理を行った。潤滑層128はディップコート法によりPFPEを用いて形成した。
110 …ディスク基体
112 …付着層
114 …軟磁性層
114a …第1軟磁性層
114b …スペーサ層
114c …第2軟磁性層
116 …前下地層
118 …下地層
118a …第1下地層
118b …第2下地層
120 …非磁性グラニュラー層
122 …磁気記録層
122a …第1磁気記録層
122b …第2磁気記録層
124 …補助記録層
126 …媒体保護層
128 …潤滑層
Claims (4)
- 円板状に形成された垂直磁気記録媒体を評価する垂直磁気記録媒体の評価方法であって、
前記垂直磁気記録媒体を回転させ、該垂直磁気記録媒体の円周方向に所定の範囲における複数の所定の周波数の試験信号を記録する信号記録工程と、
再生ヘッドを前記垂直磁気記録媒体の円周方向に移動させつつ、前記記録された信号の再生出力を前記所定の周波数ごとに連続的に測定しプロファイルを生成する信号測定工程と、
前記プロファイルにおけるピークを導出し、該ピークにおける試験信号の周波数を抽出する周波数抽出工程と、
前記抽出した周波数の試験信号のシグナルノイズ比を測定するSNR測定工程と、
前記測定したシグナルノイズ比に基づいて媒体を評価する評価工程と、
を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の評価方法。 - 円板状に形成された垂直磁気記録媒体を評価する垂直磁気記録媒体の評価方法であって、
前記垂直磁気記録媒体を回転させ、該垂直磁気記録媒体の円周方向に所定の範囲における複数の所定の周波数の試験信号を記録する信号記録工程と、
再生ヘッドを前記垂直磁気記録媒体の円周方向に移動させつつ、前記記録された信号の再生出力を前記所定の周波数ごとに連続的に測定しプロファイルを生成する信号測定工程と、
前記プロファイルにおけるピークを導出し、該ピークにおける試験信号の周波数を抽出する周波数抽出工程と、
前記抽出した周波数の試験信号のビットエラーレートを測定するBER測定工程と、
前記測定したビットエラーレートに基づいて媒体を評価する評価工程と、
を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の評価方法。 - 円板状に形成され、軟磁性層と、磁気記録層に含まれる結晶をグラニュラー構造として成長させる下地層と、該磁気記録層とをこの順に備えた垂直磁気記録媒体を評価する垂直磁気記録媒体の評価方法であって、
前記垂直磁気記録媒体を回転させ、該垂直磁気記録媒体の円周方向に所定の範囲における複数の所定の周波数の試験信号を記録する信号記録工程と、
再生ヘッドを前記垂直磁気記録媒体の円周方向に移動させつつ、前記記録された信号の再生出力を前記所定の周波数ごとに連続的に測定しプロファイルを生成する信号測定工程と、
前記プロファイルにおけるピークを導出し、該ピークにおける試験信号の周波数を抽出する周波数抽出工程と、
前記抽出した周波数に基づいて、前記軟磁性層の膜厚もしくは下地層の膜厚のいずれかまたは両方を評価する膜厚評価工程と、
を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の評価方法。 - 前記信号記録工程における所定の範囲は、1MHzから150MHzであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体の評価方法。
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2008
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