JP2010244666A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 基体上110に少なくとも、磁気記録層122と、保護層126とを、この順に備える垂直磁気記録媒体100において、保護層126は表層側に希ガスの原子を含有し、かつ、保護層のラマン分光法におけるGピークの高さをGhとし、Dピークの高さをDhとし、Gピークの蛍光を含んだバックグラウンド強度をBとし、Gピークの蛍光を除いたピーク強度をAとした場合、保護層126のラマン分光法による測定結果は、Dh/Ghが0.78〜0.96であり、B/Aが1.31〜1.34であることにより、保護層を薄膜化可能であることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
本発明にかかる磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法の実施形態について説明する。図1は、本実施形態にかかる磁気記録媒体としての垂直磁気記録媒体100の構成を説明する図である。図1に示す垂直磁気記録媒体100は、ディスク基体110、付着層112、第1軟磁性層114a、スペーサ層114b、第2軟磁性層114c、前下地層116、第1下地層118a、第2下地層118b、非磁性グラニュラー層120、第1磁気記録層122a、第2磁気記録層122b、補助記録層124、保護層126、潤滑層128で構成されている。なお第1軟磁性層114a、スペーサ層114b、第2軟磁性層114cは、あわせて軟磁性層114を構成する。第1下地層118aと第2下地層118bはあわせて下地層118を構成する。第1磁気記録層122aと第2磁気記録層122bとはあわせて磁気記録層122を構成する。
ディスク基体110は、アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円板状に成型したガラスディスクを用いることができる。なおガラスディスクの種類、サイズ、厚さ等は特に制限されない。ガラスディスクの材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどが挙げられる。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性のディスク基体110を得ることができる。
上述した基体成型工程で得られたディスク基体110上に、DCマグネトロンスパッタリング法にて付着層112、軟磁性層114、前下地層116、下地層118、非磁性グラニュラー層120、磁気記録層122(磁気記録層成膜工程)、補助記録層124(補助記録層成膜工程)を順次成膜を行い、保護層126はCVD法により成膜する(保護層成膜工程)。この後、潤滑層128をディップコート法により成膜する(潤滑層成膜工程)。なお、生産性が高いという点で、インライン型成膜方法を用いることも好ましい。以下、各層の構成および製造方法について説明する。
ディスク基体110上に、真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、付着層112から補助記録層124まで順次成膜を行った。付着層112は、CrTiとした。軟磁性層114は、第1軟磁性層114a、第2軟磁性層114cの組成はCoFeTaZrとし、スペーサ層114bの組成はRuとした。前下地層116の組成はfcc構造のNiW合金とした。下地層118は、第1下地層118aは低圧Ar下でRuを成膜し、第2下地層118bは高圧Ar下でRuを成膜した。非磁性グラニュラー層120の組成は非磁性のCoCr−SiO2とした。第1磁気記録層122aの組成は、CoCrPt−Cr2O3とし、第2磁気記録層122bの組成は、CoCrPt−SiO2−TiO2とした。補助記録層124の組成はCoCrPtBとした。保護層126は下記のように実施例と比較例で異なる構成とした。潤滑層128はディップコート法によりPFPEを用いて形成した。
110 …基体
112 …付着層
114 …軟磁性層
114a …第1軟磁性層
114b …スペーサ層
114c …第2軟磁性層
116 …前下地層
118 …下地層
118a …第1下地層
118b …第2下地層
120 …非磁性グラニュラー層
122 …磁気記録層
122a …第1磁気記録層
122b …第2磁気記録層
124 …補助記録層
126 …保護層
126a …第1保護層
126b …第2保護層
128 …潤滑層
Claims (3)
- 基体上に少なくとも、磁気記録層と、保護層とを、この順に備える垂直磁気記録媒体において、
前記保護層は表層側に希ガスの原子を含有し、
かつ、前記保護層のラマン分光法におけるGピークの高さをGhとし、Dピークの高さをDhとし、前記Gピークの蛍光を含んだバックグラウンド強度をBとし、前記Gピークの蛍光を除いたピーク強度をAとした場合、前記保護層のラマン分光法による測定結果は、Dh/Ghが0.78〜0.96であり、B/Aが1.31〜1.34であることにより、
前記保護層を薄膜化可能であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記希ガスは、He、Ne、Ar、Kr、Xeから選択される1以上の分子からなることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 磁気記録層を成膜する磁気記録層成膜工程と、
CVD法により水素化炭素を用いて第1保護層を成膜する第1保護層成膜工程と、
CVD法により水素化炭素に希ガスを添加して第2保護層を成膜する第2保護層成膜工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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