JP2009252308A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】非磁性基板1上に、密着層2と、AFC構造の軟磁性裏打ち層(SUL層)3と、中間層4と、垂直磁気記録層5と、キャップ層6と、保護層7と、潤滑層8とが、順次積層された構造を有する垂直磁気記録媒体であって、SUL層3の交換結合磁界(Hex)が100[Oe]以上であることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
このような構造を有するAFC構造のSUL層では、(1)磁性層の磁壁由来のスパイクノイズを抑制し、(2)WATE(Wide Adjacent Track Erasure)を抑制するという効果があることが知られている。
また、WATEとは、記録時にリターンパスの影響で隣接トラックの信号が消えてしまう現象である。
また、SUL層3の磁壁の形成を抑制するために、SUL層3の下層にCo合金等の強磁性層を形成し、これを所望の方向に磁化させるように着磁する方法や、反強磁性薄膜を形成し、交換結合を利用して磁化をピン止めする方法なども併用してもよい。
下地層は、垂直磁気記録層の結晶配向性、結晶粒径及び粒界偏析を好適に制御するために用いられる。材料としては、面心立方(fcc)構造あるいは六方最密充填(hcp)構造を有する単金属膜あるいは合金膜が好ましく、Ru、Pd、Pt、Tiとそれらを含む合金膜が挙げられるが、それらに限定されない。下地層の膜厚としては、垂直磁気記録層の構造制御を行なうのに必要最小限の膜厚とすることが、記録の面からは好ましい。
垂直磁気記録層のキャップ層6は、直下の垂直磁気記録層と組み合わせて記録再生特性を最適化するために用いられる。基本的にCo含有合金が用いられ、複数の層から構成される場合もある。ひとつの層としては例えばCoCrPt系合金や、Co系合金とPdやPtとの多層膜が考えられ、それらの組み合わせも用いることができる。
潤滑層8も従来から使用されている材料を用いることができる。例えば、パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を用いることができる。潤滑層8の膜厚等の条件は、通常の磁気記録媒体で用いられる諸条件をそのまま用いることができる。
保護層7は、例えば、プラズマCVD法により成膜することができる。潤滑層8は、例えばディップコート法等により成膜することができる。
[実施例1]
非磁性基板1としてアルミノシリケート系アモルファス強化ガラス基板を用い、これを洗浄後、静止対向スパッタ装置内に導入し、密着層2としてCr−50Tiを10nm成膜した。その後、AFC構造のSUL層3として、92(40Fe−60Co)−3Ta−5Zr(下層)を25nm、スペーサーRu層を0.50nm、下層と同様に92(40Fe−60Co)−3Ta−5Zr(上層)を25nm成膜した。
AFC構造SUL層3のHexについては、媒体の中心から半径22mm付近からφ8mmのチップを切り出してVSMを用いて測定した(面内半径方向)。
記録再生特性は、SPT/TMRヘッドを備えたスピンスタンドテスターを用いて、線記録密度1220kFCI(Kilo Flux Change per inch)にてMWW(トラック幅)、エラーレート等を測定した。
SUL層3の上層、下層の組成である92[xFe−(100−x)Co]−3Ta−5Zrにおいて、実施例1においてはx=40であったFeの組成(x)を変化させて、x=0、20及び60とし、かつ、Hexの値が最大になるように、スペーサーRuの膜厚を調整した。それ以外は、実施例1に記載される方法で垂直磁気記録媒体を作製した。それぞれの飽和磁束密度Bsも測定した。
[実施例5、6]
SUL層3の膜厚を変化させて、上層と下層のトータルで、20nm及び80nmとした以外は、実施例1に記載される方法で垂直磁気記録媒体を作製した。
SUL層3の組成を88Co−7Ta−5Zrとし、かつ、Hexが最大となるようにスペーサーRuの膜厚を調整した以外は、実施例1に記載される方法で垂直磁気記録媒体を作製した。その場合の飽和磁束密度Bsも測定した。
[比較例2、3]
SUL層3の膜厚を変化させて、上層と下層のトータルで、10nm及び100nmとした以外は、実施例1に記載される方法で垂直磁気記録媒体を作製した。
他方、比較例についてはいずれも、Hex<100であり、MWWとエラーレートが共に良い特性になっているものはない。
2 密着層
3 SUL層
4 中間層
5 垂直磁気記録層
6 キャップ層
7 保護層
8 潤滑層
Claims (3)
- 非磁性基板と、前記非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層と、中間層と、垂直磁気記録層とが、順次積層された構造を有する垂直磁気記録媒体であって、
前記軟磁性裏打ち層が、軟磁性裏打ち下層と、非磁性金属層と、軟磁性裏打ち上層とが順次積層された構造であり、前記軟磁性裏打ち下層及び軟磁性裏打ち上層の磁化の向きが、膜面に平行で互いに180°異なる向きを向いて反強磁性的に結合しており、前記軟磁性裏打ち層の交換結合磁界(Hex)が100[Oe]以上である垂直磁気記録媒体。 - 前記軟磁性裏打ち層の飽和磁束密度(Bs)が1.3T以上である請求項1記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記軟磁性裏打ち上層及び前記軟磁性裏打ち下層の膜厚の和が80nm以下である請求項1又は2記載の垂直磁気記録媒体。
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