JP2010078899A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010078899A5
JP2010078899A5 JP2008247112A JP2008247112A JP2010078899A5 JP 2010078899 A5 JP2010078899 A5 JP 2010078899A5 JP 2008247112 A JP2008247112 A JP 2008247112A JP 2008247112 A JP2008247112 A JP 2008247112A JP 2010078899 A5 JP2010078899 A5 JP 2010078899A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
display device
gas
pattern defect
correcting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008247112A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2010078899A (ja
JP5339342B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008247112A priority Critical patent/JP5339342B2/ja
Priority claimed from JP2008247112A external-priority patent/JP5339342B2/ja
Priority to US12/507,826 priority patent/US9063356B2/en
Priority to CN2009101616448A priority patent/CN101667527B/zh
Publication of JP2010078899A publication Critical patent/JP2010078899A/ja
Publication of JP2010078899A5 publication Critical patent/JP2010078899A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5339342B2 publication Critical patent/JP5339342B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2008247112A 2008-09-05 2008-09-26 表示装置の修正方法およびその装置 Active JP5339342B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008247112A JP5339342B2 (ja) 2008-09-26 2008-09-26 表示装置の修正方法およびその装置
US12/507,826 US9063356B2 (en) 2008-09-05 2009-07-23 Method for repairing display device and apparatus for same
CN2009101616448A CN101667527B (zh) 2008-09-05 2009-07-24 显示装置的修正方法及其装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008247112A JP5339342B2 (ja) 2008-09-26 2008-09-26 表示装置の修正方法およびその装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010078899A JP2010078899A (ja) 2010-04-08
JP2010078899A5 true JP2010078899A5 (https=) 2011-04-14
JP5339342B2 JP5339342B2 (ja) 2013-11-13

Family

ID=42209429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008247112A Active JP5339342B2 (ja) 2008-09-05 2008-09-26 表示装置の修正方法およびその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5339342B2 (https=)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0866652A (ja) * 1994-06-22 1996-03-12 Hitachi Ltd 液体材料微量供給装置とそれを使用するパターン修正方法
JP2000096248A (ja) * 1998-09-22 2000-04-04 Komatsu Ltd 表面処理装置および表面処理方法
US6660177B2 (en) * 2001-11-07 2003-12-09 Rapt Industries Inc. Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition
US7323080B2 (en) * 2004-05-04 2008-01-29 Semes Co., Ltd. Apparatus for treating substrate
JP4688525B2 (ja) * 2004-09-27 2011-05-25 株式会社 日立ディスプレイズ パターン修正装置および表示装置の製造方法
JP2010059509A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Hitachi Displays Ltd 成膜または表面処理装置および方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113791523B (zh) 用于对euv容器和euv收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置
JP4697066B2 (ja) 電極接合方法及び部品実装装置
US8399795B2 (en) Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves
JP5774156B2 (ja) 電子ビーム照射器および電子ビーム発生方法
JP2010539644A (ja) 表面処理又は表面コーティング方法及び装置
WO2009063755A1 (ja) プラズマ処理装置および半導体基板のプラズマ処理方法
TW200607884A (en) Apparatus for treating thin film and method of treating thin film
JP2005276618A (ja) マイクロプラズマ生成装置および方法
WO2007135587A3 (en) A method of increasing the conversion efficiency of an euv and/or soft x-ray lamp and a corresponding apparatus
US20130146564A1 (en) Plasma treatment apparatus and plasma treatment method
JP2008226991A (ja) プラズマ処理装置
JP2010078899A5 (https=)
RU2009115827A (ru) Лазерно-плазменный способ синтеза высокотвердых микро и наноструктурированных покрытий и устройство
WO2012169588A1 (ja) プラズマ生成用ガスおよびプラズマ生成方法並びにこれにより生成された大気圧プラズマ
EP1699274A1 (en) Plasma discharger
JP7117396B2 (ja) 成膜装置および成膜方法
JP2006272039A (ja) 洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置
JP4450407B2 (ja) プラズマ処理装置及び処理方法
JP2007227785A (ja) プラズマ処理装置
JPH05243160A (ja) 半導体デバイス製造用プラズマcvd装置
JP2002050849A (ja) レーザ加工方法およびレーザ加工装置
CN110419268A (zh) 等离子体产生装置
JP6143007B2 (ja) 皮膜形成装置及び皮膜形成方法
JP2015195113A (ja) 表面処理装置および表面処理方法
JP4977558B2 (ja) イオン源