JP2010031102A - ポリイミドおよびその製造法 - Google Patents

ポリイミドおよびその製造法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010031102A
JP2010031102A JP2008193104A JP2008193104A JP2010031102A JP 2010031102 A JP2010031102 A JP 2010031102A JP 2008193104 A JP2008193104 A JP 2008193104A JP 2008193104 A JP2008193104 A JP 2008193104A JP 2010031102 A JP2010031102 A JP 2010031102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
triazine
bis
amino
aminoanilino
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008193104A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5168009B2 (ja
Inventor
Yoshiyuki Oishi
好行 大石
Keni Jo
建為 徐
Jenq-Tain Lin
正添 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwate University
Unimatec Co Ltd
Original Assignee
Iwate University
Unimatec Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Iwate University, Unimatec Co Ltd filed Critical Iwate University
Priority to JP2008193104A priority Critical patent/JP5168009B2/ja
Publication of JP2010031102A publication Critical patent/JP2010031102A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5168009B2 publication Critical patent/JP5168009B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

【課題】金属箔に接着剤を用いることなく直接ポリイミドを積層可能な新規なポリイミドであって、金属箔との線膨張係数の差を小さくし、また接着強度を高めたポリイミドおよびその製造法を提供する。
【解決手段】2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなるポリイミドが、一般式
Figure 2010031102

で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを縮重合反応させ、得られたポリアミック酸をポリイミド化温度に加熱して縮重合反応を完結させことによって製造される。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ポリイミドおよびその製造法に関する。さらに詳しくは、金属箔との接着性にすぐれたポリイミドおよびその製造法に関する。
従来、フレキシブルプリント配線基板等の基板は、金属箔と芳香族ポリイミドフィルムとをエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の接着剤を用いて貼り合わせることによって製造されている。しかしながら、このような接着剤を用いて製造されたフレキシブルプリント基板は、その後熱圧着履歴、半田工程での高熱に曝されると、接着剤の剥がれ、ドリル工程におけるスミア発生など接着剤に原因する問題点がみられ、さらに冷却後には基板のカール、ねじれ、そりなどを生じて、特に微細なパターンの製造に支障をきたすという欠点もみられる。
また、金属導体に直接ポリイミド前駆体であるポリアミック酸を塗布した後、ポリイミド化温度に加熱してポリイミド化し、基板形成を行ったものは、寸法安定性に劣り、カール発生がみられることが一般に知られている。
そのため、特定構造のポリイミド前駆体を金属導体上に塗布して、カールの少ないフレキシブルプリント基板を得る方法も提案されているが、これらの方法では、2、3種類のポリイミド前駆体を縮重合させたり、多層絶縁塗布したりして、カールの低減、寸法安定性を確保せんとする方法であり、しかるに多層絶縁塗布には手間を必要とするという欠点がみられる。
特公平7−39161号公報 特公平6−93537号公報 特公平5−22399号公報
さらに、このような多層絶縁塗布法とは異なり、1層のポリイミド前駆体を溶液として金属導体上に塗布し、カールを改善させるという提案もなされているが、しかしその効果は十分なものではなかった。
USP 5,290,909
本発明の目的は、金属箔に接着剤を用いることなく直接ポリイミドを積層可能な新規なポリイミドであって、金属箔との線膨張係数の差を小さくし、また接着強度を高めたポリイミドおよびその製造法を提供することにある。
本発明によって、一般式
Figure 2010031102
(ここで、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、アリール基または含窒素複素環基である)で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなるポリイミドが提供される。かかるポリイミドは、一般式
Figure 2010031102
で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを縮重合反応させ、得られたポリアミック酸をポリイミド化温度に加熱して縮重合反応を完結させことによって製造される。ポリイミドのジアミン成分としては、上記2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンを用いることもできる。
本発明に係るポリイミドは、これと積層さるべき金属箔との線膨張係数の差が小さいので、これらから得られる積層体に熱履歴を加えてもカール、ねじれ、そりなどがなく、しかも接着性、寸法安定性などにすぐれたフレキシブルプリント基板を形成させることができる。また、ポリイミド中のトリアジン環と金属箔との配位により、より強いピール強度の積層体を得ることができる。
本発明のポリイミドは、2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジン
Figure 2010031102
R1、R2:それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、
アリール基、含窒素複素環基
と芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなる。
上記一般式において、6-アミノ基NR1R2基は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、アリール基または含窒素複素環基であり、具体的には
アミノ基 -NH2
メチルアミノ基 -NH(CH3)
ジメチルアミノ基 -N(CH3)2
ジフェニルアミノ基 -N(C6H5)2
ナフチルアミノ基 -NH(C10H7)
ジナフチルアミノ基 -N(C10H7)2
ビフェニルアミノ基 -NH(C6H4C6H5)
N-メチルビフェニルアミノ基 -N(CH3)(C6H4C6H5)
N-メチルナフチルアミノ基 -N(CH3)(C10H7)
アニリノ基 -NHC6H5
N-メチルアニリノ基 -N(CH3)(C6H5)
ジビフェニルアミノ基 -N(C6H4C6H5)2
アミノアニリノ基 -NH(C6H4NH2)
ピリジルアミノ基 -NH(C5H4N)
ジピリジルアミノ基 -N(C6H4N)2
N-メチルピリジルアミノ基 -N(CH3)(C6H4N)
等が挙げられる。
これらの2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンの内の約80モル%以下、好ましくは約30〜50モル%を、芳香族ジアミンで置換して、芳香族テトラカルボン酸二無水物との反応に供することができる。かかる芳香族ジアミンとしては、例えば4,4′-ジアミノジフェニルエーテル、p-フェニレンジアミン、アミノベンジルアミン、ジアミノトルエン、3,3′-ジアミノジフェニルエーテル、3,3′-ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノベンゾフェノン、3,3′-ジアミノ-4,4-ジフェノキシベンゾフェノン、2,2-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン、2,2-ビス(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、芳香族ジアミンが約80モル%よりも多く用いられると、相対的に2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンの共重合割合が少なくなり、本発明の目的とする所望の性質を示すポリイミドを得ることができない。
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシ-4,4′-ジフタル酸二無水物、2,2,′,3,3′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、スルホンニル4,4′-ジフタル酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、1,3-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
縮重合反応は、4-アミノアニリノ基のアミノ基とテトラカルボン酸二無水物の無水物基との反応で生成したポリアミック酸をポリイミド化温度に加熱して縮重合反応を完結させることによって行われる。
ポリアミック酸を形成させる縮重合反応は、好ましくは、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等の極性溶媒中で行われる。用いられる溶媒量は、それぞれ等モル用いられるジアミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物の合計量が約2〜50重量%、好ましくは約10〜30重量%を占めるような割合で用いられる。
反応温度は、通常約60℃以下であり、好ましくは約-10〜40℃であり、反応圧力は特に限定されず、常圧条件下で十分反応させることができる。反応時間は、反応原料各成分の種類およびその組合せ、溶媒の種類および反応温度によっても異なるが、一般には約0.5〜24時間で十分である。
このようにして得られたポリイミド前駆体(ポリアミック酸)ワニスは、15重量%N-メチル-2-ピロリドン溶液として、25℃のB型粘度計で測定された粘度が800〜80,000センチポアズであり、これをリバース式ロールコータ等を用いて、厚さ約2〜100μm、好ましくは約2〜50μmの金属箔、好ましくは圧延銅箔、電解銅箔、銅合金箔等の銅系箔上に、約0.5〜100μm、好ましくは約4〜60μmの塗布厚で塗布し、約100〜200℃の熱風乾燥炉中で溶媒を除去した後、約0.5〜5時間かけて約100〜400℃まで昇温させてポリイミド化させる熱処理を行い、縮重合反応を完結させて、膜厚約3〜50μmのポリイミド層を形成させたポリイミド-金属箔積層体を簡便な工程で得ることができる。
得られたポリイミド-金属箔積層体は、高度の寸法安定性が要求される微細フレキシブルプリント配線基板等の基板として用いられる。この積層体にあっては、ポリイミド層の線膨張係数が用いられた金属箔のそれと近い値を有しているので、線膨張係数の違いに基因するフレキシブルプリント配線基板の作製時および使用時におけるカール、ねじれ、そりなどの不具合を大幅に改善させる。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例1
(1) 攪拌装置を備えた容量10Lの四口フラスコ中に、窒素置換雰囲気中で、
(A) 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アニリノ-1,3,5-トリアジン 192g(0.5モル)
(B) 4,4-ジアミノジフェニルエーテル 100g(0.5モル)
(C) ピロメリット酸二無水物 218g(1.05モル)
N-メチル-2-ピロリドン〔NMP〕 2890ml
の各成分中、NMP中に溶解させた(A)、(B)両成分に、(C)成分を30℃を超えないような条件下で徐々に仕込み、室温条件下で3時間攪拌して、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度62,000センチポアズ)3230gを得た。なお、溶液粘度は、25℃の恒温槽でB型粘度計を用いて測定された。
(2) 上記(1)で得られたポリイミド前駆体ワニスを、リバース式ロールコータを用いて、厚さ10μmのロール状電解銅箔(古河電工製品;線膨張係数17ppm/℃)粗化処理面に塗布厚18μmで塗布し、120℃の熱風乾燥炉中で溶媒を除去した後、窒素雰囲気中で40分間かけて400℃まで昇温させてポリイミド化させる熱処理を行い、縮重合反応を完結させて、膜厚12.5μmのポリイミド層を形成させたポリイミド-銅箔積層体を得た。
この積層体について、次の各項目の測定を行った。
線膨張係数(100〜200℃):
10×10cmの積層体をエッチングして得られたフィルムを400℃に加熱して応力緩和し
たサンプルを、TMA装置に取り付け、試料長さ20mm、荷重2g、昇温速度10℃/分の引張
りモードで測定
接着強度:
1×10cmの積層体について、JIS C6481に準拠して測定
ガラス転移点(Tg):
積層体をアルミニウム板に載せ、これをDSC装置にセットして、昇温速度10℃/分で室
温から昇温させて測定
データーの解析方法は、チャートの変化し始めの部分と変化後の部分の接線の交点を
Tgとした
実施例2
実施例1(1)において、(A)成分量が268.8g(0.7モル)、(B)成分量が60g(0.3モル)に、またNMP量が3100mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度11,000センチポアズ)3500gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例3
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3410mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度5200センチポアズ)3860gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例4
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3840mlにそれぞれ変更され、また(C)成分として3,3′,4,4′-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物294g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度5600センチポアズ)4340gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例5
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3930mlにそれぞれ変更され、また(C)成分としてオキシ-4,4′-ジフタル酸二無水物310g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度3400センチポアズ)4480gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例6
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3910mlにそれぞれ変更され、また(C)成分として2,2′,3,3′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物322g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度6800センチポアズ)4480gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
比較例
実施例1(1)において、(A)成分が用いられず、(B)成分量が200g(1.0モル)に、NMP量が2370mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度6200センチポアズ)2650gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
以上の各実施例および比較例で得られた結果は、次の表に示される。

線膨張係数 接着強度 Tg
CTE(ppm/℃) (kg/cm) (℃)
実施例1 24 1.4 333
〃 2 21 1.7 330
〃 3 21 1.4 320
〃 4 25 1.3 280
〃 5 61 1.8 257
〃 6 41 1.8 268
比較例 35 0.3 −

Claims (7)

  1. 一般式
    Figure 2010031102
    (ここで、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、アリール基または含窒素複素環基である)で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなるポリイミド。
  2. 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンが2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アニリノ-1,3,5-トリアジンである請求項1記載のポリイミド。
  3. 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンが用いられた請求項1記載のポリイミド。
  4. 15重量%N-メチル-2-ピロリドン溶液として、25℃のB型粘度計で測定された粘度が800〜80,000センチポアズであるポリアミック酸をポリイミド化させて得られた請求項1、2または3記載のポリイミド。
  5. 請求項1、2、3または4記載のポリイミドおよび金属箔よりなる積層体。
  6. 一般式
    Figure 2010031102
    (ここで、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、アリール基または含窒素複素環基である)で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを縮重合反応させ、得られたポリアミック酸をポリイミド化温度に加熱して縮重合反応を完結させることを特徴とするポリイミドの製造法。
  7. 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンが用いられる請求項6記載のポリイミドの製造法。
JP2008193104A 2008-07-28 2008-07-28 ポリイミドおよびその製造法 Active JP5168009B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008193104A JP5168009B2 (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ポリイミドおよびその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008193104A JP5168009B2 (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ポリイミドおよびその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010031102A true JP2010031102A (ja) 2010-02-12
JP5168009B2 JP5168009B2 (ja) 2013-03-21

Family

ID=41735974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008193104A Active JP5168009B2 (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ポリイミドおよびその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5168009B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011099555A1 (ja) 2010-02-10 2011-08-18 宇部興産株式会社 ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
JP2011257731A (ja) * 2010-05-10 2011-12-22 Jnc Corp ジアミン、液晶配向剤および液晶表示素子
WO2012124664A1 (ja) * 2011-03-11 2012-09-20 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体及びポリイミド
WO2013024820A1 (ja) * 2011-08-12 2013-02-21 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法
WO2013024819A1 (ja) * 2011-08-12 2013-02-21 宇部興産株式会社 ポリイミド金属積層体の製造方法
WO2013172331A1 (ja) * 2012-05-14 2013-11-21 国立大学法人岩手大学 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液
JP2014005228A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Iwate Univ 芳香族ジアミン化合物及びその製造方法並びに芳香族ポリイミド合成樹脂
KR20170140106A (ko) * 2016-06-10 2017-12-20 (주)엘지하우시스 샌드위치 패널 및 그의 제조방법
JP2019156921A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 国立大学法人岩手大学 ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸
CN113912847A (zh) * 2021-10-19 2022-01-11 波米科技有限公司 一种聚合物、液晶取向剂、液晶取向膜及液晶取向膜的应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS488272B1 (ja) * 1969-08-01 1973-03-13
JP2006307112A (ja) * 2005-05-02 2006-11-09 Nippon Futsuso Kogyo Kk 含フッ素ポリイミド樹脂、その製造方法、プライマーおよび樹脂被覆方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS488272B1 (ja) * 1969-08-01 1973-03-13
JP2006307112A (ja) * 2005-05-02 2006-11-09 Nippon Futsuso Kogyo Kk 含フッ素ポリイミド樹脂、その製造方法、プライマーおよび樹脂被覆方法

Cited By (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014111382A (ja) * 2010-02-10 2014-06-19 Ube Ind Ltd ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
KR101791716B1 (ko) 2010-02-10 2017-10-30 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 폴리이미드 적층체, 및 이를 포함하는 폴리이미드/금속 적층체
WO2011099555A1 (ja) 2010-02-10 2011-08-18 宇部興産株式会社 ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
JP2015061763A (ja) * 2010-02-10 2015-04-02 宇部興産株式会社 ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
KR101876698B1 (ko) * 2010-02-10 2018-07-09 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 폴리이미드 적층체, 및 이를 포함하는 폴리이미드/금속 적층체
CN104118168A (zh) * 2010-02-10 2014-10-29 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺膜、含它的聚酰亚胺层压体和含它的聚酰亚胺金属层压体
JP2014121878A (ja) * 2010-02-10 2014-07-03 Ube Ind Ltd ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
JP2014113824A (ja) * 2010-02-10 2014-06-26 Ube Ind Ltd ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
JP2011257731A (ja) * 2010-05-10 2011-12-22 Jnc Corp ジアミン、液晶配向剤および液晶表示素子
CN103534294A (zh) * 2011-03-11 2014-01-22 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺
CN105254885A (zh) * 2011-03-11 2016-01-20 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺
WO2012124664A1 (ja) * 2011-03-11 2012-09-20 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体及びポリイミド
CN105254883A (zh) * 2011-03-11 2016-01-20 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺
CN105254884A (zh) * 2011-03-11 2016-01-20 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺
US9758623B2 (en) 2011-03-11 2017-09-12 Ube Industries, Ltd. Polyimide precursor and polyimide
KR101850174B1 (ko) * 2011-03-11 2018-04-18 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드
KR101978005B1 (ko) * 2011-08-12 2019-05-13 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 금속 적층체의 제조 방법
JPWO2013024820A1 (ja) * 2011-08-12 2015-03-05 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法
JPWO2013024819A1 (ja) * 2011-08-12 2015-03-05 宇部興産株式会社 ポリイミド金属積層体の製造方法
WO2013024819A1 (ja) * 2011-08-12 2013-02-21 宇部興産株式会社 ポリイミド金属積層体の製造方法
WO2013024820A1 (ja) * 2011-08-12 2013-02-21 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法
KR101945073B1 (ko) 2011-08-12 2019-02-01 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 이들의 제조에 사용되는 트리아진 화합물의 제조 방법
CN103874723A (zh) * 2011-08-12 2014-06-18 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体,聚酰亚胺,聚酰亚胺膜,和用于制造其的三嗪化合物的制备方法
KR20140050715A (ko) 2011-08-12 2014-04-29 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 금속 적층체의 제조 방법
CN103889710A (zh) * 2011-08-12 2014-06-25 宇部兴产株式会社 制备聚酰亚胺金属层压体的方法
US9375877B2 (en) 2011-08-12 2016-06-28 Ube Industries, Ltd. Method for manufacturing polyimide metal laminate
US9511565B2 (en) 2011-08-12 2016-12-06 Ube Industries, Ltd. Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, and method for manufacturing triazine compound used for manufacturing same
KR20140051405A (ko) 2011-08-12 2014-04-30 우베 고산 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 이들의 제조에 사용되는 트리아진 화합물의 제조 방법
CN104583273A (zh) * 2012-05-14 2015-04-29 国立大学法人岩手大学 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、聚酰亚胺金属层压体及聚酰亚胺溶液
US9556312B2 (en) 2012-05-14 2017-01-31 National University Corporation Iwate University Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, polyimide metal laminate, and polyimide solution
JPWO2013172331A1 (ja) * 2012-05-14 2016-01-12 国立大学法人岩手大学 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液
KR20150013297A (ko) 2012-05-14 2015-02-04 내셔널 유니버시티 코포레이션 이와테 유니버시티 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 폴리이미드 금속 적층체 및 폴리이미드 용액
WO2013172331A1 (ja) * 2012-05-14 2013-11-21 国立大学法人岩手大学 ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液
KR102049473B1 (ko) 2012-05-14 2019-11-27 내셔널 유니버시티 코포레이션 이와테 유니버시티 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 폴리이미드 금속 적층체 및 폴리이미드 용액
JP2014005228A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Iwate Univ 芳香族ジアミン化合物及びその製造方法並びに芳香族ポリイミド合成樹脂
KR20170140106A (ko) * 2016-06-10 2017-12-20 (주)엘지하우시스 샌드위치 패널 및 그의 제조방법
KR102066542B1 (ko) * 2016-06-10 2020-01-15 (주)엘지하우시스 샌드위치 패널 및 그의 제조방법
JP2019156921A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 国立大学法人岩手大学 ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸
JP7101352B2 (ja) 2018-03-09 2022-07-15 国立大学法人岩手大学 ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸
CN113912847A (zh) * 2021-10-19 2022-01-11 波米科技有限公司 一种聚合物、液晶取向剂、液晶取向膜及液晶取向膜的应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP5168009B2 (ja) 2013-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5168009B2 (ja) ポリイミドおよびその製造法
JP5886883B2 (ja) ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
US7285321B2 (en) Multilayer substrates having at least two dissimilar polyimide layers, useful for electronics-type applications, and compositions relating thereto
JP4540964B2 (ja) 低温ポリイミド接着剤組成物
JP3994696B2 (ja) 線膨張係数を制御したポリイミドフィルム及び積層体
JP4755264B2 (ja) ポリイミドフィルム及びその製造方法
JP5180814B2 (ja) フレキシブル配線基板用積層体
TWI500501B (zh) Second layer double sided flexible metal laminated board and manufacturing method thereof
US8034460B2 (en) Metallic laminate and method of manufacturing the same
JP2005272520A (ja) 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製造方法および積層体
TWI485062B (zh) 可撓性覆金屬積層體及其製造方法
JP4193797B2 (ja) 新規ポリイミド共重合体およびその金属積層体
JP2001270034A (ja) フレキシブル金属箔積層体
JP2009182073A (ja) 多層基板
JP4941407B2 (ja) 銅張積層板および銅張積層板の製造方法
JP4231511B2 (ja) ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及びその製造方法
JP2007189011A (ja) フレキシブルプリント配線板用基板及びその製造方法
JP4967494B2 (ja) 耐熱性ポリイミド金属積層板の製造方法
JP4684601B2 (ja) フレキシブル積層基板の製造法
JP2007091803A (ja) ポリイミドフィルムおよび金属張積層板
JP2004315601A (ja) 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製造法および積層体
JP2006328407A (ja) ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板
JP2005329641A (ja) フレキシブルプリント配線板用基板及びその製造方法
JP2008130784A (ja) 多層回路基板
JP2005161858A (ja) 線膨張係数を制御したポリイミドフィルムの製造法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100513

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100513

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100616

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100617

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110414

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120605

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121127

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121210

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5168009

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250