JP2010027460A - ガラスペースト組成物、及び、プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマディスプレイパネルの製造に用いるガラスペースト組成物であって、ポリウレタン樹脂、熱反応性架橋剤、ガラス微粒子、及び、高沸点溶剤を含有し、前記ポリウレタン樹脂は、重量平均分子量が1万以上であり、かつ、ガラス転移温度が−10℃以下であるガラスペースト組成物。
【選択図】なし
Description
背面ガラス基板にはプラズマから電極を保護する目的で電極上に誘電体層が形成され、更に誘電体層の表面に蛍光体層を塗工するガラスリブが形成されている。また、蛍光体層の表面積を大きくするため、ガラスリブは、サンドブラストを用いて凹型ストライプ状に成形されている。背面ガラス基板表面に誘電体層とガラスリブとが形成されたものを背面板という。
これに対して、従来より、誘電体層とガラスリブ層とを同時に焼成する方法が検討されている。しかしながら、一般的に使用されている誘電体層成分を用いて同時焼成を行った場合、ガラスリブ層用ペーストに含まれる溶剤によって、誘電体層が溶解するシートアタックと呼ばれる現象が生じ、誘電体層が破壊される。
この方法では、ガラスリブ層用ペーストに含まれる溶剤によって、シートアタックが発生することを防止するため、誘電体層の成分として多価アクリル樹脂が用いられている。しかしながら、このような多価アクリル樹脂は、脆い性質を有する樹脂であることから、酸やアルカリによるエッチング工程を有する方法では使用可能であるが、サンドブラストによってリブを形成する工程を有する方法に使用した場合、サンドブラストによって誘電体層が削られ、誘電体層が破壊されるという問題があった。
以下に本発明を詳述する。
上記末端に水酸基を有する化合物は特に限定されず、例えば、アルキレングリコール、ポリアルキレンエーテル、芳香族ポリエーテル、又は、ポリエステル等が挙げられる。
上記アルキレングリコールは特に限定されず、例えば、エチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,5−ペンタングリコール、1,6−ヘキサングリコール、3−メチル−1,5−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、1,8−オクタングリコール、1,9−ノナンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサン−1,4−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノール等が挙げられる。
上記ポリアルキレンエーテルは特に限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
上記芳香族ポリエーテルは特に限定されず、例えば、ビスフェノールAエーテル、ポリオキシエチレンビスフェノールAエーテル等の芳香族ポリエーテル等が挙げられる。
上記ポリエステルは特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等が挙げられる。
上記末端に水酸基を有する化合物のなかでも、焼結時に分解の基点となり分解温度を下げることができるため、ポリアルキレンエーテルが好適である。
上記芳香族ポリエーテルと、上記アルキレングリコールや上記ポリアルキレンエーテルとを組み合わせて用いる場合は、ガラス転移温度を低く調整することができ、更に、優れた熱分解性が得られるため、上記アルキレングリコールや上記ポリアルキレンエーテルの組成比を高くすることが好ましい。
なかでも、上記アルキレングリコールや上記ポリアルキレンエーテル等を用いる場合には、分子内相分離構造を発現し、芳香族セグメントが疑似架橋構造を形成してゴム状の強靱な被膜が得られることから、芳香族系のMDIやXDIが好適である。
上記エポキシ(メタ)アクリレートは特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート、ビフェニル型エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、脂肪族多価アルコールのエポキシ(メタ)アクリレート、脂環式エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。なかでも、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、又は、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレートが好適である。上記エポキシ(メタ)アクリレートは通常は、多官能(メタ)アクリル酸エステルである。
上記エポキシ(メタ)アクリレートは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、イソシアネート基を2個以上有する化合物と活性水素を有する(メタ)アクリルモノマーとの反応等により得られ、具体的には、2個以上のイソシアネート基を有する化合物1当量に対して活性水素を有する(メタ)アクリルモノマー2当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得られる。
上記有機過酸化物は、ラジカル重合開始剤として作用する。
上記低分子又は高分子の芳香族のジイソシアネートは特に限定されず、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
上記低分子または高分子の脂肪族のジイソシアネートは特に限定されず、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
上記3価以上のポリイソシアネートは特に限定されず、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリデンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の3量体等が挙げられる。
上記チオフェノール類は特に限定されず、例えば、チオフェノール、メチルチオフェノール等が挙げられる。
上記オキシム類は特に限定されず、例えば、アセトキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等が挙げられる。
上記アルコール類は特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。
上記ハロゲン置換アルコール類は特に限定されず、例えば、エチレンクロルヒドリン、1,3−ジクロロ−2−プロパノール等のハロゲン置換アルコール類等が挙げられる。
上記第3級アルコール類は特に限定されず、例えば、t−ブタノール、3−ペンタノール等が挙げられる。
上記第3級アルコール類は特に限定されず、例えば、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム、β−プロピルラクタム等が挙げられる。
上記活性メチレン化合物は特に限定されず、例えば、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル、マロン酸エチルエステル等が挙げられる。
上記ガラス粉末の組成としては特に限定されず、例えば、ケイ酸塩ガラス、鉛ガラス、CaO−Al2O3−SiO2系無機ガラス、MgO−Al2O3−SiO2系無機ガラス、LiO2−Al2O3−SiO2系無機ガラス等の各種ガラスが挙げられる。特に、融点が600℃以下の低融点ガラスであることが好ましい。
上記無機微粒子としては特に限定されず、例えば、BaO、ZnO、TiO2、ZrO2およびSnO2等の金属酸化物、アルカリ金属化合物、BaMgAl10O17:Eu、Zn2SiO4:Mn、(Y、Gd)BO3:Eu等の蛍光体、カーボンブラック、染料や顔料等の着色用微粒子、金属錯体、銅、銀、ニッケル、パラジウム、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、チタン酸バリウム、窒化アルミナ、窒化ケイ素、窒化ホウ素等が挙げられる。
上記高沸点溶剤の沸点は特に限定されないが、好ましい下限は150℃、好ましい上限は300℃である。上記高沸点溶剤の沸点が150℃未満であると、本発明のガラスペースト組成物を塗工する際に溶剤が揮発してしまうため、粘度が変わり安定した塗工ができないことがある。上記高沸点溶剤の沸点が300℃を超えると、塗工後、ペースト中の溶剤を乾燥させる段階で多大な時間や熱エネルギーが必要となることがある。上記高沸点溶剤の沸点のより好ましい上限は280℃である。
これらの高沸点溶剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、上記アミン化合物及びチオール化合物は、上記グリシジル化合物と同時に用いた場合、上記グリシジル化合物を反応させる触媒としても用いることができる。
上記アミノシラン系シランカップリング剤は特に限定されず、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
上記グリシジルシラン系シランカップリング剤は特に限定されず、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、その他の密着促進剤として、ジメチルジメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等が挙げられる。
これらの密着促進剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、上記ノニオン系界面活性剤は、熱分解性がよいが、大量に添加するとガラスペースト組成物の熱分解性が低下することがあるため、含有量の好ましい上限は5重量%である。
すなわち、シートアタックを生じないという特徴を活かし、今まで個別に焼結プロセスが必要であったグリーンシート上に導電ペーストでパターンを描く工程、電極シート上に誘電体ペーストをカバーする工程、リブシート上に蛍光体ペーストをスクリーン印刷する工程等を簡略化することが可能である。
また、未焼結リブ上にインクジェットで蛍光体ペーストを印刷したり、オフセット印刷で電極を印刷した上に誘電体層をスクリーン印刷したりする等、異なる印刷法を組み合わせるときにも応用することができる。例えば、サンドブラストレジストパターンをフォトリソ工程で描く工程をスクリーン印刷に置き換える等が挙げられる。
更に、極めて優れた耐サンドブラスト性を有することから、ガラスリブ層を乾燥させた後、焼成せずにサンドブラスト処理を行い、切削を行っても、誘電体層が破壊されることがない。これにより、脱脂、焼成工程を複数回行う必要がなく、製造工程を簡略化することができる。
(ポリウレタン樹脂Aの合成)
攪拌機、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、表1に記載したジイソシアネートと、溶剤としてエチルメチルケトンを導入し、その後表1に記載したポリオールを導入した。30分間バブリングすることで窒素ガスを充填し、攪拌させながら液温85℃に保ち、イソシアネート基の残留量が一定濃度になるまで反応させた。イソシアネート基の残留量はFTIR(「Nicolet 6700」、Nicolet社製、KBr法)にて確認した。
得られた反応液を冷却しながら、イソプロピルアルコール300重量部とモノエタノールアミン5重量部とを徐々に投入し、最終的に40℃でイソシアネートに起因するピークが消失するまで反応させ、ポリウレタン樹脂Aのエチルメチルケトン−アルコール溶液を得た。ポリウレタン樹脂Aの固形分は30%、カラムとしてSHOKO社製、カラムLF−804を用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定したポリスチレン換算による重量平均分子量は15000、Tgは−10℃であった。
(ポリウレタン樹脂B〜Eの合成)
表1に記載のポリオール、ジイソシアネート、エチルメチルケトン、イソプロピルアルコール及びモノエタノールアミンを表1に記載の割合で用いた以外は、合成例1と同様の操作でポリウレタン樹脂B〜Eの合成を行った。また、重量平均分子量及びTgを表1に記載した。
(熱架橋性材料(エポキシ(メタ)アクリレート)の合成)
撹拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた5つ口フラスコに、エポキシ樹脂(油化シェル社製、エピコート1007)1000重量部、メタクリル酸460重量部、ハイドロキノン0.3重量部、触媒としてイミダゾール2.9重量部を添加し、窒素ガスを導入しながら、150℃で1時間反応させ、エポキシ(メタ)アクリレートを得た。
(熱架橋性材料(ウレタン(メタ)アクリレート)の合成)
攪拌機、温度計、冷却器、滴下漏斗及びガス導入管を備えた5つ口フラスコに、予め乾燥空気を流入させて系内を乾燥させた後、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン447重量部を添加した。次いで、ジブチル錫ジラウレート1重量部、ハイドロキノン2重量部を添加し、乾燥空気気流下で、発熱に注意しながら、ヒドロキシエチルアクリレート550重量部を40〜70℃で1時間かけて徐々に滴下し、ウレタン化反応を行った。その後、90℃で3時間の熟成を行い、ウレタン(メタ)アクリレートを得た。
(熱架橋性材料(ブロック化イソシアネート)の合成)
滴下ロート、攪拌機、還流冷却器を装置した4つ口フラスコに、ε−カプロラクタム(東京化成社製)20g、脱水トルエン(関東化学社製、水分量分析値0.001%以下)35ccを入れ、反応混合物の温度を60℃にして溶解させ均一溶液とする。滴下ロートにヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)17gと脱水トルエン35ccを混合した溶液を入れ、4つ口フラスコ内の反応液温度を60℃に保ち30分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに3時間反応液温度60℃で反応させた。その後、反応液を氷浴下10℃以下に冷却し、この粉末を蒸留水(150cc×5回)で洗浄して過剰のε−カプロラクタムを除去した。粉末を通気乾燥して、ε−カプロラクタムブロック化HDIを得た。
ε−カプロラクタムブロック化HDIを脱水トルエン200gに50℃で加えた後、メタノール30gを加えて65℃、メタノール還流下加熱し、無色透明の均一溶液としたのち、1時間撹拌した。その後、容器を氷冷して反応液温度を10℃以下に冷却したのち、溶媒を半分量減圧下除去し有機固形分比を高めた。得られた物質を赤外分光分析KBr法により測定したところ、2280cm−1にみられる芳香族イソシアナート基による吸収バンドは検出されなかった。
このようにして得られたポリウレタン樹脂AのMEKアルコール溶液について、高沸点溶剤であるブチルカルビトールにて溶剤置換を行った後、表2の組成比となるように、熱反応性架橋剤、架橋助剤を配合し、高速分散機で分散させてビヒクル組成物を作製した。なお、ビスフェノールFエポキシとしては、エポコート4004P(ジャパンエポキシレジン社製)を用いた。
各成分の混合比を表2のように変更したこと以外は実施例1と同じ方法にてビヒクル組成物及びガラスペースト組成物を作製した。
実施例及び比較例で得られたガラスペースト組成物について以下の評価を行った。結果を表3に示した。
(評価用基板の作製)
エチルセルロース(シグマアルドリッチ社製、STD100)をテルピネオール溶液中に溶解させ、樹脂固形分が16%のエチルセルロース含有ビヒクル組成物を作製した。次いで、軟化点が約550℃のガラスフリットとエチルセルロース含有ビヒクル組成物とをガラスフリットが50重量%、エチルセルロース含有ビヒクル組成物が50重量%となるよう混合した後、高速攪拌機で混練し、3本ロールミルを用いて滑らかになるまで処理することで、エチルセルロース含有ガラスペーストを作製した。
次いで、実施例及び比較例で得られたガラスペースト組成物をスクリーン印刷機を用いて10cm×10cmの像を15cm×15cmのソーダガラス基板に塗工し、150℃オーブンにて30分乾燥させた。
その後、エチルセルロース含有ガラスペーストをその上からアプリケータを用い5ミルの設定で塗工し、120℃オーブンにて30分間乾燥させ、ガラス誘電体層が形成された評価用基板を作製した。
○ ガラス誘電体層の亀裂が無く、周辺の緻密な乾燥膜に変化がなかった
× エチルセルロース含有ガラスペーストからの溶剤の溶出により、ガラス誘電体層が破壊されていたり、断面観察にて樹脂の相互拡散が見られたりしていた
「(1)耐シートアタック性」で得られた評価用基板のガラス誘電体層上に、サンドブラスト用ドライフィルム(「オーディルBF603」、東京応化社製)を、ラミネート機(「VA−700」、大成ラミネーター株式会社製)を用いてラミネートした。次いで、該ガラス誘電体層上を遮光フィルム(マスク)で被覆し、該遮光フィルムを介して露光、現像した。その後、得られたドライフィルムの開口部を、サンドブラスト機(「ニューマブラスターSMC−1ADE−401」、不二製作所株式会社製)を用いて、圧力:0.04Mpa、噴射量:200g/minにてサンドブラスト処理し、リブ隔壁を形成した。なお、研磨剤としては、PDP用サンドブラストメディア(「S9#1200」、不二製作所社製)を用いた。
得られたガラス誘電体表面を顕微鏡を用いて観察し、以下の基準で評価した。
○ 傷が生じなかった
× 傷が生じた
(2−2)耐サンドブラスト性(評価2)
サンドブラストに対するガラス誘電体層の強靱性を評価するため、以下の方法によって数値化を行った。
スライドグラス上の中央に直径300μmの真鍮線を設置し、セロハンテープにて浮きの無いように両端を固定した。その後、実施例及び比較例で得られたガラスペースト組成物を、6ミルの設定で塗工し、オーブンにて150℃、60分間乾燥させ溶剤を除去、加熱することで、乾燥させ、真鍮線を埋め込んだ硬化ガラス積層体を得た。
その後、引張試験機にて真鍮の剥離角度を90°になるスライドジグを用いて真鍮線を引張速度200mm/分で剥離する試験を行い、溝を形成する際に必要な抵抗値を定量し以下の基準で評価した。
○ 剥離抵抗値が0.9N以上
× 剥離抵抗値が0.9N未満
実施例及び比較例で得られたガラスペースト組成物をガラス基板に、アプリケータを用いて5ミルの設定にて塗工し、150℃設定の送風オーブンで30分間乾燥させ、積層ガラス基板を作製した。得られた積層ガラス基板を600℃設定の電気炉にて30分間焼成し、焼き色を目視することにより有機物残渣状態を確認し、以下の基準で評価した。
○ 無色であった
△ 淡黄色の色が付いた
× 茶色く焼き色が付いた
Claims (6)
- プラズマディスプレイパネルの製造に用いるガラスペースト組成物であって、
ポリウレタン樹脂、熱反応性架橋剤、ガラス微粒子、及び、高沸点溶剤を含有し、
前記ポリウレタン樹脂は、重量平均分子量が1万以上であり、かつ、ガラス転移温度が−10℃以下である
ことを特徴とするガラスペースト組成物。 - 熱反応性架橋剤は、ポリ(メタ)アクリレート化合物、ブロック化イソシアネート化合物、及び、グリシジル化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載のガラスペースト組成物。
- ポリウレタン樹脂100重量部に対し、熱反応性架橋剤を20〜200重量部含有することを特徴とする請求項1又は2記載のガラスペースト組成物。
- 更に、アミノ化合物、チオール化合物、及び、アジリジン化合物からなる群より選択される少なくとも1種の架橋助剤を含有することを特徴とする請求項1、2又は3記載のガラスペースト組成物。
- 請求項1、2、3又は4記載のガラスペースト組成物を塗工し、乾燥させることにより、誘電体前駆体層を形成する工程、
前記誘電体前駆体層上に凹型形状のガラスリブ前駆体を形成する工程、及び、
前記誘電体前駆体層及びガラスリブ前駆体を加熱して脱脂、焼成する工程を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項5記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて得られることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2242030A2 (en) | 2009-04-14 | 2010-10-20 | Sony Corporation | Information processing apparatus, method and program |
WO2021038906A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 無鉛低融点ガラス組成物並びにこれを含む無鉛ガラス複合材料、無鉛ガラスペースト及び封止構造体 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10334793A (ja) * | 1996-11-07 | 1998-12-18 | Hitachi Chem Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用背面板の製造法 |
JP2000067750A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Taiyo Ink Mfg Ltd | ブラックマトリックス層−誘電体層積層構造形成用のガラスペースト組成物組合せ材料 |
JP2003331650A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-11-21 | Toray Ind Inc | 誘電体ペーストおよびプラズマディスプレイの製造方法 |
JP2003331737A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Nippon Paper Industries Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用誘電体層形成材料 |
JP2004111187A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイの製造方法 |
JP2004126073A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性樹脂組成物およびそれを用いたサンドブラスト用感光性フィルム |
JP2004327122A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Nitto Denko Corp | 無機粉体含有樹脂組成物、転写シート、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板 |
JP2008185949A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及び積層体 |
JP2009249608A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-10-29 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ペースト組成物、焼成体およびフラットパネルディスプレイ用部品 |
-
2008
- 2008-07-22 JP JP2008188991A patent/JP5249660B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10334793A (ja) * | 1996-11-07 | 1998-12-18 | Hitachi Chem Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用背面板の製造法 |
JP2000067750A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Taiyo Ink Mfg Ltd | ブラックマトリックス層−誘電体層積層構造形成用のガラスペースト組成物組合せ材料 |
JP2003331650A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-11-21 | Toray Ind Inc | 誘電体ペーストおよびプラズマディスプレイの製造方法 |
JP2003331737A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Nippon Paper Industries Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用誘電体層形成材料 |
JP2004111187A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイの製造方法 |
JP2004126073A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性樹脂組成物およびそれを用いたサンドブラスト用感光性フィルム |
JP2004327122A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Nitto Denko Corp | 無機粉体含有樹脂組成物、転写シート、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板 |
JP2008185949A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及び積層体 |
JP2009249608A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-10-29 | Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc | ペースト組成物、焼成体およびフラットパネルディスプレイ用部品 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2242030A2 (en) | 2009-04-14 | 2010-10-20 | Sony Corporation | Information processing apparatus, method and program |
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