JP2009540556A - 基板を輸送し、貯蔵しかつ移送するための装置 - Google Patents

基板を輸送し、貯蔵しかつ移送するための装置 Download PDF

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Abstract

本発明によれば、輸送ボックス(1)は、インターフェース(2)に接続することができ、かつ基板(4)を中に配置することができるバスケット(3)を収容することができる。このバスケット(3)は、交互に積み重ねられかつ個々に交換可能な1セットのプレート(3a〜3f)からなる。このバスケット(3)は、インターフェース(2)の内部に完全に移動させられ、次いで移動手段が選択されたプレートを、隣接するプレートを移動させることによって分離させ、ロボット(5)が来てこの選択された基板を抽出するのを可能にする。輸送位置にあるとき、このプレート(3a〜3f)は互いに接触しており、したがって、基板(4)によって占められる空間の量を減少させる。

Description

本発明は、特に超小型電子構成部品を製造する、例えば超小型電子機械システム(MEMS)または超小型光学電子機械システム(MOEMS)を製造するステップ間での基板の輸送、貯蔵および移送に関する。より詳しくは、本発明は、基板を輸送しかつ貯蔵するためのポッド、およびこれらの基板を移送するためのインターフェースに関する。
この基板は、主としてシリコンなどの半導体材料から作られる正方形の形状のマスクまたは円形のウエハーの形態である。
現行使用される装置では、半導体を製造する様々なステップの間で、基板は、コールド・サイト(貯蔵庫)の雰囲気内に存在する微粒子による汚染からそれらを保護する輸送ポッド内に輸送されかつ貯蔵される。通常この輸送ポッドは、1つの基板または複数の基板を収容する。基板は、例えば直径200mmまたは直径300mmのマスクまたはシリコンウエハーであることができる。現行では、一般的に使用される輸送ポッドは、1から25枚の基板を収容する。
輸送ポッドの内側で、基板は、カセットまたはバスケットとしても知られている一種の単一部片のラック内で互いの近づき積載されている。
輸送ポッドは、扉によって閉鎖することができる開口部を有するポッド・ケーシングと中に基板を貯蔵できるバスケットとを備える。
この輸送ポッドは、半導体製造設備の入出力インターフェースと連結することができる。それらはロボット化された固定装置を使用して連結される。第1のロボットが、輸送ポッドから移送チャンバまたはロードロックであり得る中間固定装置に、各基板を個々に輸送する。この移送チャンバまたはロードロックは低圧状態にある。次に、この移送チャンバのロボットが基板をロードロックからプロセス・チャンバに輸送する。ロボットが取り扱うべき基板の下の使用可能な空間は、第1にロボットのアームがその基板の下に嵌合できるのに十分でなければならない。第2に、このロボット・アームは、基板が最早その搭載部に載っておらず、むしろ、次いで基板をプロセス・チャンバに移動させることができるであろうロボットのアーム上にのみ載っているように、十分に基板を上昇させ、移動させることができなければならない。
この方式では、輸送ポッドのバスケットは、バスケットが収容する隣接する基板がロボット・アームが間に嵌合できるのに十分な距離だけ持続的に引き離されるように、十分なサイズでなければならない。結果として、バスケットを収容しなければならない輸送ポッドは比較的嵩張ったものになり、多数の基板を収容することができない。
さらに、コールド・サイトに貯蔵するために使用できる空間は、それが示すその構築および維持コストに起因して、切り詰められている。そこに貯蔵できる輸送ポッドの合計容積は限られており、したがってこれが貯蔵できる基板の数の上限を制定する。
この輸送ポッドは、大気圧雰囲気を収容するように、あるいは低圧雰囲気または真空を収容するようにのいずれかで設計することができる。後者の場合、ポッドの壁は、かなり歪んだり劣化したりせずに外側の圧力を機械的に支持できるように補強されなければならない。この結果はより重い壁になり、このポッドのサイズが大きくされる場合、ポッドの重量は取り扱うのに大きくなりすぎる可能性がある。
したがって、コールド・サイトの容積を最良に使用し、ポッドを容易に取り扱うことを確実にできるようにするために、輸送ポッドの形状因子および重量を低減し、かつ/またはそれらの各々が収容できる基板の数を増加させることが求められている。
この輸送ポッドは一般に、中に汚染物が存在することをできるだけ避けられる制御された雰囲気を基板周りに維持することができる利点を有する。
頭文字SMIF(Standardized Mechanical Interface)によって知られている第1の型式の輸送ポッドが現行使用されている。そのような輸送ポッドは、その下側開口部を閉鎖しかつ扉を構成するベース・プレート上に置かれているベル形状のポッド・ケーシングを備える。このバスケットは一般に、ベース・プレートの上に配置され、または保持される。基板はバスケット内で水平に積み重ねられる。
SMIF輸送ポッドの詳細な説明は、他の場所にもあるが、米国特許第4,532,970号に見ることができる。
基板をSMIF輸送ポッドからプロセス・チャンバに移送するために、この輸送ポッドは、その下側扉を開けそれが収容する全てのバスケットおよび基板をインターフェース・チャンバ内に降ろす、インターフェース表面上に配置される。次いで基板は、それらをプロセス・チャンバ内に挿入できるように、ロボットによって1つずつバスケットから取り外される。
側面開口ポッド・ケーシングを備える、頭文字FOUP(Front−Opening Universal Pod)によって知られている、第2の型式の輸送ポッドも現行使用されている。
両方の状況下で、バスケット内で係合する基板は、選択された基板がロボット・アームによって掴まれ、バスケット内のその搭載部から離して移動され得るように、十分に引き離されなければならない。
米国特許第4,532,970号
本発明は特に、輸送ポッドが使用されるコールド・サイト内で占有される空間を最適化するために、輸送ポッドの形態因子を減少させる、あるいは逆に言えば、同じ所与の容積に対してそれらが収容できる基板の数の点から見てそれらの能力を増加させることを目的とする。
本発明の別の目的は、移送を減少させることによって、かつできるだけ移送チャンバまたはロードロックをなくすことによって、設備を単純化することである。
本発明の別の目的は、基板が輸送ポッド内で移動するとき、およびそれらが輸送ポッド内にまたは輸送ポッドから外に移送されるとき、基板が汚染されるリスクを減少させることである。この目的のために本発明は、そのような輸送ポッドが使用されるとき、基板に影響を及ぼす可能性のある汚染源の徹底した観察から結果として生じている。
さらに本発明は、使用期間の間で輸送ポッドおよびバスケットを除染するのを容易にすることを意図している。
これらの目的ならびに他の目的を達成するために本発明は第1に、壁を備えるポッド・ケーシングを有し、開口部をシール方式で閉鎖する扉を有する開口部、および中に基板を貯蔵することができる、ポッド・ケーシング内に格納されるバスケットを装備する、半導体基板などの基板用の輸送ポッドを開示する。
このバスケットは、ポッド・ケーシング内に挿入できかつポッド・ケーシングから取り外すことができるように、開口部を通り移動させることができる。このバスケットは、各自が基板を支持する積み重ねられた一連の平行なプレートから作られ、このバスケットがポッド・ケーシングの内側にあるとき、このプレートは互いにオーバーラップし、このバスケットがポッド・ケーシングの外側にあるとき、このプレートは、基板の平面に対して直角な移動方向に沿って、互いから離して移動させることができる。
プレートが互いに対して移動する能力のお陰で、プレートが積み重ねられるとき、基板はそれらが小さな容積しか占めないように互いに対して相対的に近接しており、一方ロボットによって移送されるとき、ロボット・アームが嵌合するための余地ができるように、プレートは互いから引き離され得るように構成することができる。したがって、輸送中、基板は互いに対してより近接していることができるので、この輸送ポッドはより少ない容積またはより多数の数の基板を収容することができる。
さらに、輸送ポッドが輸送されているとき、およびバスケットが輸送ポッド内にまたは輸送ポッドから移動するときの両方で、基板が互いに極めて近接しているお陰で、基板は互いに保護し合い、それが基板の作動表面上の微粒子汚染のリスクを相当に減少させる。
プレートが積み重ねられた位置にあるとき、ポッド・ケーシング内に挿入されるバスケットは、前記ポッド・ケーシング内で密接に嵌合することが優先される。このようにすると、プレートを取り囲む雰囲気の容積が減少し、それが同時にこの雰囲気内に存在するガスまたは微粒子による汚染のリスクを減少させる。
このプレートは、それらが積み重ねられた位置にあるとき、隣接する基板が互いの直近にあるように設計されるであろうことが優先される。これが輸送ポッドの容積の減少を最適化する。例えば、プレートが積み重ねられた位置にあるとき、隣接する基板間の距離は有利に約5mm未満であることができる。
有利な一実施形態では、このバスケットは扉と一体であり、かつ扉によって移動させられる。このようにすると、バスケットをポッド・ケーシング内にまたはポッド・ケーシングから外に移送するために、輸送ポッドの扉を動作させるだけで十分になる。
第1の適用例では、この輸送ポッドは底部開口SMIFであることができる。この場合、バスケットは扉によって優先的に支持される。
別の適用例では、この輸送ポッドは前面開口FOUPであることができ、バスケットは扉と一体である。
プレートが積み重ねられた位置にあるとき、隣接するプレートの周囲領域は、基板の縁部のうちの少なくとも一部分の上で直ぐそばにあり、基板がバスケット内に少なくとも部分的に閉じ込められるのを確実にすることが優先される。このようにすると、基板は、輸送ポッド内でバスケットを取り囲む雰囲気から少なくとも部分的に分離され、それが基板の周りの雰囲気の容積をさらに減少させ、汚染のリスクがさらに減少する。
ケーシングが扉によって閉じられるときは何時でも、ポッド・ケーシング内でプレートを互いに対し圧縮するための手段を輸送ポッドが備えることが優先される。これが、摩擦またはガス変位によって汚染が作り出される可能性のある、バスケットがポッド・ケーシングに対して移動するリスクを減少させる。
その上、プレートが輸送中2つの隣接するプレートの間で基板を掴むことができるように設計されるのが有利である。これが、基板が極めて効果的に所定の位置に維持され、輸送ポッドが取り扱われる間に衝撃を被った場合、基板が劣化する可能性のあるリスクを確実に減少させる。これが、基板が汚染される可能性のあるリスクをさらに減少させる。
有利な一実施形態では、各プレートは、
−プレート固定システムを受けることができる、外側に開いた側面凹部と、
−隣接するプレートと協働し、かつプレートが基板の平面に対し平行な相対的な横断方向移動を確実に防止するための、輪郭嵌合形状を有する対向する主表面と、
−基板の周囲部分の第1の表面を受けるための支持表面と、
−別の基板の周囲部分の第2の表面に当接するための保持表面と、
−2つの隣接するプレートの間の基板の周囲部分を掴むように設計される支持および保持表面とを備える。
優先的に、この保持表面は、基板の対応する表面に対してより害の少ない領域を構成し、かつ基板を中心に維持する丸くされた縁部を備える。
この保持表面は、基板の対応する表面に対する損傷をさらに妨げる、弾性的に柔軟なストリップなどの弾性緩衝材を有利に備えることができる。
別法として、基板をプレート上に静電気的に保持する手段を設けることができる。
有利な一実施形態では、このプレートはそれらの平面内で、それらが担持する基板の位置合わせを修正するのを可能にするある角度範囲に沿って、互いに対して相対的に回転できるように設計される。
別の態様によれば、本発明は、
−ガスケットを使用して優先的にシール方式で輸送ポッドに連結するためのアクセス孔、および設備と接触している貫通孔とを備えるインターフェース・チャンバと、
−輸送ポッドの扉がアクセス孔に対面する状態で、輸送ポッドを受けかつ保持するための受け手段と、
−基板を収容するバスケットを、輸送ポッドとインターフェース・チャンバとの間で移動させるためのバスケット制御手段と、
−基板を掴み、かつインターフェース・チャンバの内側のバスケットと設備との間で基板を移送するためのロボットと、
−ロボットが選択的にある基板を取り、それを選ばれたプレートに向かってまたはプレートから離れて移動させることができるように、選ばれたプレートを1つまたは複数の隣接するプレートから、それらの移動方向に沿って、選択的に引き離すように設計されるプレート制御手段とを備える、輸送ポッドが基板処理設備の一部片と連結され得るように、少なくとも1つの輸送ポッドと協働することを目的とするインターフェースを開示する。
優先的に、このインターフェースは、輸送ポッド扉を開閉するための扉制御手段をさらに備える。
バスケットが輸送ポッドの扉と連結される場合には、扉制御手段はバスケット制御手段としても働くことができる。
このインターフェースは、基板を掴み、かつインターフェース・チャンバ内に配置されるバスケットと設備の間で基板を移送するためのロボットをさらに備えることができる。
SMIFなどの水平プレートを有する輸送ポッドが使用される場合には、このプレート制御手段は、選ばれたプレートをその下の隣接するプレートから引き離すために、この選ばれたプレートの下向きの移動を選択的に防止するように設計されるプレート固定手段を備えることができる。
別法として、このプレート固定手段は、選ばれたプレートをその上の隣接するプレートから離して維持するために、この選ばれたプレート上の隣接するプレートの下向きの移動を選択的に阻止するようにさらに設計される。
このプレート固定手段が、選ばれたプレートを両方の隣接するプレートから引き離して維持するために、選ばれたプレートの下向きの移動およびその上の隣接するプレートの下向きの移動を選択的に阻止するようにさらに設計されるのが有利である。
このインターフェースの有利な一実施形態によれば、このプレート固定手段は、プレートによって支持される基板の位置合わせを他の積み重ねられた基板に対して修正するのを可能にするように、それらが保持するプレートをその平面内で、ある角度範囲に沿って枢動させるようにさらに設計することができる。
水平プレートを有するこの輸送ポッドは、特に有利な使用を考え出すことをさらに可能にし、それによって輸送ポッド自体がインターフェースの延長部を構成し、結果としてインターフェースの容積を減少させることが可能になる。
インターフェースの高さは、直ぐそばに積み重ねられた基板を有するバスケットを受けるのに丁度十分に減少させることができ、上側プレートと上側基板の間にそれが掴まれ得るように空間を残すための追加の高さのみ必要とされる。このバスケットが輸送ポッド内で部分的に係合している間に、下側基板を掴むことができる。
このインターフェースの小さなサイズのお陰で、かつ本発明によれば、超小型電子構成部品製造施設に現行見られるように、このインターフェースを設備移送チャンバそれ自体の内部と一体化することが提供される可能性がある。
これは場所を節約し、真空発生手段を簡素化する。
本発明の他の目的、特徴および利点は、添付の図を参照して行う具体的な実施形態の以下の説明から明らかになるであろう。
貯蔵位置にある、本発明の一実施形態による輸送および貯蔵ポッドの部分横断面概略図である。 基板ウエハーを支持するためのプレートの部分横断面概略図である。 基板をプロセス・チャンバ内に移送できるように、本発明の輸送ポッドから基板を取り外す2つのステップを示す部分横断面概略図であり、基板の側面開口部を見ることができる前面図である。 基板をプロセス・チャンバ内に移送できるように、本発明の輸送ポッドから基板を取り外す2つのステップを示す部分横断面概略図であり、基板の後面開口部を示す、図3に対して90°角度回転後の側面図である。 本発明の一実施形態による基板支持プレートの上面図である。
これらの図に示す実施形態では、本発明の輸送ポッド1はSMIFである。図1で、この輸送ポッド1は、閉鎖された位置で分離されて示されており、図3では、この輸送ポッド1は、インターフェース2と連結されて閉位置にある。図4では、この輸送ポッド1は、インターフェース2と連結されて開位置に示されている。
この実施形態では、輸送ポッド1は扉1cによって閉鎖することができる底部開口部1b(図4)を有するポッド・ケーシング1aを備える。
機能的な輸送位置では、この輸送ポッド1は輸送される予定の基板4を中に貯蔵することができるバスケット3を収容する。
このバスケット3は、各々が基板4を貯蔵するように設計される一連の平行なプレートを備える。したがって、図ではプレート3a、3b、3c、3d、3e、および3fを見ることができる。本発明は図示のように6枚のプレートを有するバスケットに限定されず、むしろこの輸送ポッド1は、その容積および各プレートによって占められる容積に応じて異なる枚数のプレートを収容できることを理解されたい。
そのようなSMIFポッドでは、このポッド・ケーシング1aは、ポッド・ケーシングの側面部分および水平上側部分を有するほぼベル形状を形成する壁を備える。下側開口部1bをシール方式1dで覆うポッド扉1cは、ガスケットおよびポッド扉固定手段1eを伴う。
開閉のために、ポッド扉1cは、図1および3に示す閉位置と図4に示す開位置の間を垂直に移動する。
このポッド扉固定手段1eは、例えば、ポッド扉1cによって支持され、図に示されるようにそれら自体インターフェース2から作動され、ポッド・ケーシング1aの周囲壁内に設けられる凹部内に係合する連結手段1fによって、半径方向摺動を介して作動される、掛け金を備えることができる。
一実施形態によればこの連結手段1fは、固定部内に係合する機械的連結手段のキーであることができる。
しかしながら、機械的連結のこのモードは、キーとその凹部の間に機械的な摩擦を発生させる欠点を示し、この摩擦は最終的に基板上に行き着く汚染微粒子を生じさせる可能性がある。したがって、汚染のこのリスクを減少させるために、磁気的連結手段1fを想定することができる。
図1および3に示すようにこのポッドが閉じられているとき、プレート3a〜3fは互いの上に積み重ねられている。各プレート3a〜3fは一枚の基板4を支持する。この位置で、プレート3aおよび3bなどの隣接するプレートは、互いに直接接触している。
このプレート3a〜3fは、プラスチック材料から作ることができる。
図1および3に示すように、プレートが積み重ねられた位置にあり、輸送ポッド1が閉じられているとき、ポッド・ケーシング1a内に挿入されたバスケット3は、ポッド・ケーシング1aによってぴったりと覆われる。このようにすると、バスケット3の縁部はポッド・ケーシング1aの側壁の直ぐ隣に近接して存在し、それらの間に非常に小さな周囲空間1gしか残さない。下側プレート3aは、ポッド扉1cと直接接触している。上側プレート3fは、ポッド・ケーシング1aの上壁と直接接触しており、やはりそれらの間に非常に少ない容積を有する上側と下側空間しか残さない。
さらに、バスケット3のプレート3a〜3fが互いの上に積み重ねられ、輸送ポッド1内に収容されるとき、ポッド扉1cが閉じられ、プレート3a〜3fのスタックは、ポッド扉1cによって閉じられるポッド・ケーシングの内側で互いに対してプレートを圧縮するための手段によって圧縮されて維持される。図に示す実施形態では、プレート3a〜3fのスタックは、例えば耐化学性のあるポリマーまたはパーフロロエラストマーなどの弾性材料から作られるリング・シールであり得る、弾性の停止部1hおよび1iによって圧縮される。
プレート3a〜3fは、扉1cが開かれるとき、かつバスケット3が少なくとも部分的にインターフェース2内に収容されるとき、基板4の平面に直角な移動方向に沿って互いから引き離すことができる。図4は移動のこの可能性を示し、見れば分かるように、中央のプレート3cはポッド扉1c上にある下側プレート3aおよび3bに対して上昇しており、そして上側プレート3d、3e、および3fはそれら自体中央プレート3cに対して上昇している。相対的な移動は、基板4がそれに沿って配設される水平平面に対して直角な、垂直軸に沿って起きる。この垂直移動の可能性は、ロボット・アーム5が最初に通ることができ(図4)、次いで中央基板4aをプレート3cの上方に持ち上げ、次いでそれがバスケット3から離れて水平に移動できるために十分な空間を、中央プレート3cの両側に残すのを可能にする。
逆に、図1および3に示すようにプレート3a〜3fがもう1つの上に積み重ねられているとき、2つの隣接する基板の間の空間は、ロボット・アーム5が水平に移動する前に通ることを可能にし、かつ基板の垂直移動を可能にするのに必要な空間よりずっと小さい可能性がある。
図1および3を見れば分かるように、プレート3a〜3fが積み重ねられた位置にあるとき、隣接するプレートの周囲領域は基板4の縁部のうちの少なくとも一部分上で互いに近接しており、基板4が確実に少なくとも部分的にバスケット3内に閉じ込められるようにしている。
図2および5により詳細に示す実施形態では、プレート3aなどの各プレートは、図5の上面図では大雑把に言って馬蹄(形)形状の構造であり、その第1の端部は横棒33aで結合され、その第2の端部はロボット・アーム5が移動できるようにする前面通路37aを可能にするように互いから引き離される、2つの対向する横枝31aおよび32aを有する。この横枝31aおよび32aは、担持される予定の基板4の輪郭に適した外形を有する。例えば、それは円盤形状の基板4を保持するように曲がっていることができ、あるいはそれらは、長方形の基板を保持するように直線であることができる。
図2に示す横断面では、プレート3aが外側に開口する側面凹部34aを備えることが分かる。この側面凹部34aは、図4を参照して説明するように、プレート固定システムを受けることができる。プレート3aは、隣接するプレートと協働し、プレートが基板4の平面に対して平行に横断方向に移動するのを確実に防止するための、輪郭嵌合形状を有する対向する主表面35aおよび36aをさらに備える。実際には、この表面35aはショルダ135aを備え、表面36aはショルダ136aを備え、このショルダ135aおよび136aは、2つの積み重ねられたプレートの相対的なオーバーラップを可能にするような方式で位置決めされる。
上側表面36aは、基板4の周囲部分の第1の表面を受けるように設計される支持表面236aを備える。下側表面35aは、別の基板の周囲部分の第2の表面と当接する保持表面235aを備える。支持表面236aおよび保持表面235aは、図1および3を見れば分かるように、2つの隣接するプレートの間の基板4の周囲部分をそれらの間で掴むように設計される。
図2に示す実施形態では、この保持表面235aは、掴み部内に含まれかつプレート3aによって保持される基板4が相対的に中央に置かれるのを確実にする、丸くされた縁部335aを備える。
有利な一実施形態によれば、この保持表面235aは、図に示されない弾性緩衝材を備えることができる。そのような弾性緩衝体は、例えばその第1の端部がこの保持表面235aと一体であり、かつ曲げを介して動作し、その対向する端部領域が弾性的に基板4と当接する弾性的に柔軟なストリップであることができる。
使用のとき、基板4はプレートの平らな支持表面236a上にある。これらの支持表面236aは、完全に清浄でかつ汚染微粒子がない状態でなければならない。
保持表面235aの丸くされた形状は、基板を案内し、かつその上側縁部に押し付けて基板を挟むことを可能にし、そのことが保持表面が基板の作動表面と接触するのを防止し、汚染の追加のリスクを避けさせる。
輸送ポッド1が貯蔵または輸送のために閉じられるとき、保持表面235aがプレート3aの直下の基板に当接しており、輸送ポッド1が移動している間に基板ウエハーが損傷を受けるのを防止するために、基板ウエハーを固定位置に保持する。全ての基板4はそれらの縁部に沿って挟まれて維持され、かつ全てのプレート3a〜3fは、ポッド・ケーシング1aの上壁とポッド扉1cの間で、圧縮手段1h〜1iを圧縮することによって固定される。次いで輸送ポッド1は、基板4がバスケット3内で移動するどのような可能性もなく全ての方向に取り扱うことができる。この基板4は、輸送ポッド1が基板4で完全にまたは部分的に満たされているかにかかわらず、定位置に信頼性高く保持される。実際、プレートのうちのいくつかが基板を支持しない場合でさえ、全てのプレート3a〜3fが互いに圧縮され、2つの連続するプレートの各対が基板をそれらの間に挟んでいるということによって、そこにある全ての基板を輸送ポッド1に対して定位置に維持することが可能になる。
図1を見ると、プレート3a〜3fが互いの上に積み重ねられるとき、2つの連続する基板の間の空間Eは、知られている輸送ポッドに現行必要とされる10mmまたはそれ位のmmの代わりに、2または3mmまで減少させられる。他のプレートに対するこのプレートの相対的な移動によって可能になるこの配設によって、単一の基板を輸送するために設計された現行の輸送ポッドが、本発明によって、輸送ポッドのケーシングの形状を改変する必要なく、5枚までの基板を収容するために使用できるようになる。
次に、本発明の一実施形態によるインターフェース2に連結される輸送ポッド1を示す図3および4を考えよう。
この実施形態ではこのインターフェース2は、図3に概略的に示すように輸送ポッド1を基板処理設備200の一部片と連結するのを可能にする。この目的は、インターフェース2を使用して基板を輸送ポッド1と設備200の間で移送させることである。
ポッド・ケーシング1aは、脱着可能なフランジなどの受け手段2kによってインターフェース2によって保持される。
このインターフェース2は、輸送ポッド1の開口部1bに対応する上側アクセス孔2b、および設備扉200aによって閉鎖することができる、設備200に対応する側面貫通孔2cとを有するインターフェース・チャンバ2aを備える。
インターフェース扉2dは、アクセス孔2bを選択的に閉鎖し、かつそうするために、シリンダ2eの作動を介して垂直に移動できるように設計される。
輸送ポッド1がインターフェース2上に搭載されるとき、輸送ポッドの扉1cは、連結手段1fによってインターフェース扉2dに接合される。このようにすると、シリンダ2eは、輸送ポッド1の扉1cを開閉するための扉制御手段を構成し、同時に基板4を収容するバスケット3を輸送ポッド1とインターフェース2のチャンバ2aの間を移動させるためのバスケット制御手段を構成する。
ポッド扉1c内の固定部内にキー係合される、インターフェース扉2dの機械的連結手段1fを使用する連結に対して、摩擦から結果として生じる汚染微粒子は輸送ポッド1とインターフェース2の内側真空雰囲気内に逃れる、何故ならばポッド扉1c/インターフェース扉2dアセンブリは、それ自体処理する予定の基板4を収容するより低圧の雰囲気内に配置されているからである。したがって、磁気連結手段1fが好ましいであろう。
図示の実施形態では、設備200は、基板4を掴み、水平なインターフェース2a内に配置されるバスケット3と設備200との間を基板4を移送するためのロボット5を備える。このロボットは、図4および5に示すように基板の下で係合するように、矢印5aに沿った水平移動を確実にすることが分かるであろう。別法として、このロボットはインターフェース2の一部をなすことができる。
インターフェース2は、ロボットが選択的に基板4を受け取りそれを選ばれたプレートに向かってまたはプレートから離れて移動させることができるように、選ばれたプレートを1つまたは複数の隣接するプレートから、それらの移動の方向(図に示す実施形態では、垂直方向)に沿って選択的に引き離すのに適したプレート制御手段をさらに備える。
図に示すこの実施形態では、このプレート制御手段は特定の選ばれたプレートの垂直移動を選択的に防止するプレート固定手段を備える。
実際にはこのプレート固定手段は、プレートに向かってまたはプレートから離れて半径方向に移動させるための、固定ピン2fのシリンダ2jなどの、対応するモータまたはシリンダによって制御される固定ピン2f、2g、2hおよび2iである。各固定ピンの端部は、シリンダの作動を介して対応するプレートの凹部内に係合することができる。
例えば、取り外しのために選択された基板4aを支承するプレート3cの直ぐ上に配置されるプレート3dを考えてみよう。このプレート3dが所望の高さにあるとき、プレート3cの降下がシリンダ2eの作動によって実施されている間、固定ピン2fおよび2hはプレート3dが降下するのを防止する。最後に、基板4aが所望の高さにあるとき、プレート3bおよび3aの降下がシリンダ2eの作動によって実施されている間、固定ピン2gおよび2iはプレート3cが降下するのを防止する。このようにすると、ロボット5が基板4aの下で係合し、それをプレート3cから取り外すために上昇させることができるように、図4に示すように基板4aの下方および上方の両方に十分な空間が残される。
この固定ピン2f〜2iはプレート3a〜3fのそれぞれの側面凹部34a内に係合することを理解されたい。
ピン2fなどの固定ピンが、より良好な安定性のために2つの支持点を備えるのが有利である。
微粒子生成によって生じる汚染をさらに制限するための、有利な一可能性によれば、このプレート固定手段は、インターフェース2の外側上に配設される1つまたは複数の電磁石を備えることができ、かつ各プレート3a〜3fは、プレートを垂直位置に選択的に固定するために電磁石によって制御することができる磁気要素を備えることができる。
固定ピン2f〜2iの高さは、基板4aがロボット5によって上昇させられるのを可能にし、次いで設備200に移動されることができるように、選択された基板4aの上方の自由空間が十分であるような方式で選ばれる。
固定ピンの高さも、選択された基板4aの下方の自由空間が、ロボット5が基板4aの下に嵌合するのを可能にするのに十分であるような方式で選ばれる。
この固定ピン2f〜2iは、設備200に繋がる貫通孔2cを有する側面に対して直角である、インターフェース2の側面に配置される。この固定ピンは、設備200に向かうまたは設備200から離れる基板4の移動の方向のいずれかの側面で、プレート3a〜3fの側面部分に作用する。このようにすると、固定ピン2f〜2iは、ロボット5および基板4がインターフェース2と設備200の間を移動するのを妨げない。
設備200内の基板4の処理は、各基板4がプロセス・チャンバ内で正確に向きが合わされていることを必要とする。位置合わせは、輸送ポッド1内で、あるいは少なくともインターフェース2内でそれが既に実施されているとき、より容易になる。そうするために本発明によれば、互いに対するプレートの制御される枢動を介してこの位置合わせを実施する、または少なくとも修正するための手段を設けることができ、プレート3cを支持する固定ピン2gおよび2i(図4)は、それらが保持するプレート3cをその平面内で、プレート3cの位置合わせの修正を可能にするある適切な範囲の角度に沿って枢動できるようにモータ化される。この位置合わせは、基板4aの縁部上に設けられる刻み目40(図5)または他の印などの、検出部の位置に注目することによって検出される。
別法として、この位置合わせは、インターフェース2の、または設備200のロボット5内に埋め込まれた回転手段によって修正することができる。
次に、輸送ポッド1と設備200の一部片間で基板4を移送するための動作ステップ中の本発明の装置の一連の状態を考えよう。
輸送ポッド1は、扉1cおよび2dが閉じられた状態でインターフェース2に連結される。受け手段2kは、図3に示すように、本体ケーシング1aをインターフェース2に締結する。脱着可能な連結手段1fは、ポッド扉1cをインターフェース・ポッド2dに接合し、このポッド扉1cをポッド・ケーシング1aから解除するために固定手段1eを動作させる。
次いでシリンダ2eから構成されるドア作動手段は、扉1cと2dの両方の扉の間の閉鎖部を、本体ケーシング1aから離してインターフェース2のインターフェース・チャンバ2a内に垂直に移動させる。
図4では、扉が開かれた状態で、シリンダ2eはバスケット3内の基板4を上側アクセス孔2bを通りインターフェース2内に貫通させている。次いでこのプレートは、互いから離れて移動するのに必要な空間を有する。固定ピン2f〜2iがそれらが担持するプレート3cおよび基板4aを分離させたとき、次いでロボット5は基板4aを持ち上げ、それをインターフェース2の側面貫通孔2cを通り設備200まで水平に移動させることができる。
別の基板、例えばプレート3dによって担持される基板を選択すべき場合は、シリンダ2eは、扉1cと2dを逆に上向きに移動させ、それが下側プレート3aおよび3bのスタックをプレート3cの高さまで上昇させ、固定ピン2gおよび2iは後退することができる。シリンダ2eは、3枚のプレート3a、3bおよび3cのスタックをプレート3dの高さまで持ち上げる。固定ピン2fおよび2hは、後退することができる。次にシリンダ2eは、プレートのスタックを1段下向きに移動させ、固定ピン2fおよび2hはプレート3eを固定し、シリンダ2eは下降を続け、固定ピン2gおよび2iはプレート3dを固定し、シリンダ2eは、プレート3dが担持する基板が受け取られ得るように、次いでプレート3dが分離されるように下降を続ける。
基板の移送が完了した後、シリンダ2eは、図3に示すように輸送ポッド1とインターフェース2が閉じるまで扉1cおよび2dを上昇させる。輸送ポッド扉1cは、その固定手段1eによって固定され、受け手段2kは輸送ポッド1をインターフェース2から引き離すように、解除することができる。
図に示されていない本発明の別の実施形態によれば、この輸送ポッド1はFOUP、すなわち側面開口ポッドであることができる。そのような場合、それはインターフェース2にその側面の1つで連結する。次いで2つの連続する動き、ポッド扉およびインターフェース扉の開を伴う第1の水平な動きと後に続く図4に示すような選ばれたプレートの分離のための第2の垂直な動きでのバスケット3の移動が設けられなければならない。
有利な一実施形態によれば、本発明の輸送ポッド1によって、簡単な、低コストな方法で十分なシールを確実にすることによって、輸送および貯蔵ステップ中に基板4が汚染されることを防止するために、基板4の周りに制御される雰囲気を維持することが可能になる。この制御される内側雰囲気はより低い圧力であることが優先される。
これを達成するために、ポッド・ケーシング1aの周囲壁がシールされ、かつ図に示すようにガスケット1dをポッド扉1cとポッド・ケーシング1aの間に配置することによって、ポッド扉1cがポッド・ケーシング1a上に嵌合されることを有利に提供することができる。このポッド扉1c固定手段は、ポッド扉1cが閉じられるとき、ポッド扉1cのガスケット1dが弾性的に圧縮されて維持されるように優先的に設計しなければならない。
輸送ポッド1の閉動作では、インターフェース2のシリンダ2eは、ポッド扉1cおよびインターフェース扉2dを輸送ポッド1に向かって軸方向に押し、ポッド扉固定手段1eが摩擦がほとんどまたは全くなしに自由に摺動可能にすることができるように、扉ガスケット1dをわずかに過度に圧縮し、汚染微粒子の発生を防止する。この過度な押し移動は、プレート3のスタックによって停止させられることなく、ポッド扉1cの輸送ポッド1内への過度の移動を可能にする、弾性停止部1iおよび1hによって可能になる。固定後、弾性停止部1hおよび1iによって、かつポッド扉1cのガスケット1dによって弾性的に押されているこのポッド扉は解放される。
インターフェース2のアクセス孔2bを取り囲む壁内の輸送ポッド1との間で、それらがアクセス孔2bおよび輸送ポッド1の開口部1bの周りの外側雰囲気から確実にシールされるように、インターフェース前面ガスケット2mが、輸送ポッド1とインターフェース2の間に配置される。
脱着可能フランジを有する受け手段2kが、輸送ポッド1をインターフェース2に向かって押し、インターフェース前面ガスケット2mを圧縮し、それが図示のように撓むことができることを理解されたい。
このインターフェース前面ガスケット2mは、輸送ポッド1のそれぞれの前面と輸送ポッド1の開口部1bの周りのインターフェース2およびインターフェース2のアクセス孔2bとの間の連結領域6を外側雰囲気から隔離する周囲シーリング手段を構成する。この連結領域6は、ポッド扉1c、インターフェース扉2d、ポッド・ガスケット1d、インターフェース前面ガスケット2mおよびインターフェース扉ガスケット2nとの間の、図3に示す位置内の閉じ込められたガス容積である。ポッド扉1cおよびインターフェース扉2dが開かれるとき、この容積は輸送ポッド1およびインターフェース2の内部空洞と直接連通する。最初に、この連結領域6の容積は、それが無視できない量のガスを有することを意味する大気圧力であり、そしてこの連結領域6内に真空を作り出すポンプ輸送手段を設け、それによってそれが含む可能性のある汚染要素の大部分を取り除くことが有用であるように思われる。そうするために、接続ポンプ輸送手段が設けられる。
図3および4に示す実施形態では、この接続ポンプ輸送手段は、その入り口23aが連結領域6の容積と連通し、その出口が挿入される接続ポンプ輸送制御弁24を伴ってポンプ22などの真空ポンプ輸送装置に接続される、接続ポンプ輸送チューブ23を備える。
この真空ポンプ輸送装置は、インターフェース・ポンプ輸送チューブ25を介して、挿入される接続ポンプ輸送制御弁26を伴ってインターフェース2の内部空間にも接続される。
この接続ポンプ輸送手段は、連結領域6の容積内に、装置の外側の取り囲む圧力とおおよそ等しい圧力を選択的に形成するようにさらに設計される。これを達成するために、平衡弁28を装備する平衡チューブ27が、接続ポンプ輸送チューブ23および/または連結領域6の容積を窒素などのパージ・ガスの吹込部と、または装置の外側と接続する。隔離弁29を真空解放段階中、ポンプ22を分離するために使用することができる。
この接続ポンプ輸送手段は、図示されない様々なセンサから受け取る信号に基づいて、かつ保存されたプログラムに基づいて、ポンプ22ならびに弁24、26、28および29を制御することによって、インターフェース2内に、かつ連結領域6の容積内にあるガス圧力を制御するためのマイクロプロセッサまたはマイクロコントローラなどの制御手段をさらに備える。
このようにして、接続ポンプ輸送手段は、様々な動作段階中圧力平衡を形成するように設計される。
例えば、輸送ポッド1をインターフェース2に連結するステップ中、連結領域6の容積ははじめに大気圧であり、一方輸送ポッド1の内部雰囲気は低い当初の圧力であり、インターフェース2は、可能性として輸送ポッド1の圧力と異なる第2の低い圧力である可能性がある。ポッド扉1cおよびインターフェース扉2dが開かれる前に、接続ポンプ輸送手段22〜29は、連結領域6の容積内に、輸送ポッド1内の圧力にほぼ等しいガス圧力を形成することができる。
必要な場合、この接続ポンプ輸送手段22〜29は、設備扉がインターフェース2の側面貫通孔2cを閉鎖している状態で、インターフェース2内に輸送ポッド1内の圧力とほぼ等しいガス圧力を形成する。次いでポッド扉1cおよびインターフェース扉2dを開くことができる。次に、接続ポンプ輸送手段は、インターフェース2内にかつ輸送ポッド1内に設備200内の圧力にほぼ等しいガス圧力を選択的に形成する。次いで側面貫通孔2cを閉鎖する設備扉200aは、基板を輸送ポッド1と設備200の間を移送するために開くことができる。
後者のステップ中、例えば基板が輸送された後で、次いで設備扉200aは側面貫通孔2cを閉鎖するために閉じることができ、次いで接続ポンプ輸送手段22〜29は、インターフェース2内に、かつ輸送ポッド1内に輸送ポッド1内に所望される圧力にほぼ等しいガス圧力を選択的に形成するように設計することができる。次いでポッド扉1cおよびインターフェース扉2dが閉じられ、接続ポンプ輸送手段22〜29は、輸送ポッド1をインターフェース2から切り離すことができるように、連結領域の容積を大気圧に戻す。
使用期間の間で、輸送ポッド1がインターフェース2に適合させられ、ポッド扉1cが開かれた後、インターフェース2内に真空を作り出すことができ、それはポッド内に真空を作り出し、それによって脱ガスを介して輸送ポッド1の除染を行うことも可能になる。
本発明は、明示的に説明してきた実施形態に限定されず、むしろ当業者が想定することができる多くの変形形態および一般化を含む。

Claims (15)

  1. バスケット(3)をポッド・ケーシング(1a)内に挿入でき、かつポッド・ケーシング(1a)から取り外すことができるように、前記バスケット(3)が開口部(1b)を通り移動させることができ、
    前記バスケット(3)が、各自が基板(4)を支持する平行なプレート(3a〜3f)の一連の積み重ねから構成され、扉(1c)が閉じられるとき前記プレート(3a〜3f)は互いの上に積み重ねられ、前記扉(1c)が開かれるとき、前記プレートは、前記基板(4)の平面に対して直角な移動方向に沿って、互いから離れて移動可能であることを特徴とする、壁を備える前記ポッド・ケーシング(1a)を有し、かつ前記開口部(1b)、シール方式で前記開口部(1b)を閉鎖する前記扉(1c)、および前記基板(4)を中に貯蔵することができる前記ポッド・ケーシング(1a)内に挿入される前記バスケット(3)を備える、半導体基板などの基板(4)用の輸送ポッド(1)。
  2. 前記プレート(3a〜3f)が積み重ねられた位置にあるとき、前記隣接する基板(4)の間の距離(E)が約5mm未満である、請求項1に記載の輸送ポッド。
  3. 前記バスケット(3)が前記扉(1c)と一体である、請求項1および2のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  4. 前記プレート(3a〜3f)が積み重ねられた位置にあるとき、前記隣接するプレートの周囲領域が、前記基板(4)の縁部のうちの少なくとも1つの部分の上で直ぐそばにある、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  5. 前記ポッド・ケーシングが前記扉(1c)によって閉じられるとき、前記プレート(3a〜3f)を前記ポッド・ケーシング(1a)内で互いに対し圧縮するための手段(1c、1h、1i)をさらに備える、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  6. 各プレート(3a〜3f)が、
    プレート固定システム(2f〜2i)を受けることができる、外側に開いた側面凹部(34a)と、
    前記隣接するプレートと協働し、かつ前記プレートが前記基板(4)の平面に対し平行な相対的な横断方向移動を確実に防止するように互いに噛み合う形状を有する対向する主表面(35a、36a)と、
    基板(4)の周囲部分の第1の表面を受けるための支持表面(236a)と、
    別の基板の周囲部分の第2の表面を押すための保持表面(235a)と、
    2つの隣接するプレートの間で基板(4)の周囲部分を固定するように設計される前記支持表面(236a)と前記保持表面(235a)とを備える、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  7. 前記保持表面(235a)が丸くされた縁部(335a)を備える、請求項6に記載の輸送ポッド。
  8. 前記保持表面(235a)が弾性緩衝材(335)を備える、請求項6または7のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  9. 前記プレート(3a〜3f)が、それらの平面内で、それらが担持する前記基板(4)の位置合わせを修正するのを可能にするある角度範囲に沿って、それらが互いに対して相対的に回転できるように設計される、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の輸送ポッド。
  10. ガスケット(2m)を使用して優先的にシール方式で前記輸送ポッド(1)に連結するためのアクセス孔(2b)と、前記設備(200)と協働する貫通孔(2c)とを備えるインターフェース・チャンバ(2a)と、
    前記輸送ポッドの扉(1c)が前記アクセス孔(2b)に対面した状態で、前記輸送ポッド(1)を受けかつ保持するための受け手段(2k)と、
    前記基板(4)を収容する前記バスケット(3)を、前記輸送ポッド(1)と前記インターフェース・チャンバ(2a)との間で移動させるためのバスケット制御手段と、
    前記基板(4)を掴み、かつ前記インターフェース(2)の前記チャンバ(2a)の内側の前記バスケット(3)と前記設備(200)との間で前記基板(4)を移送するためのロボット(5)と、
    前記ロボット(5)が選択的に基板(4a)を取り、それを選ばれたプレート(3c)に向かってまたはプレート(3c)から離れて移動させることができるように、前記選ばれたプレート(3c)を1つまたは複数の隣接するプレート(3b、3d)から、それらの移動方向に沿って、選択的に引き離すように設計されるプレート制御手段(2e、2f〜2i)とを備える、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の少なくとも1つの輸送ポッド(1)と基板処理設備(200)の一部片との間のインターフェース(2)。
  11. 前記輸送ポッド(1)の前記扉(1c)を開閉するための扉制御手段(2e)をさらに備える、請求項10に記載のインターフェース。
  12. 前記プレート制御手段が、選ばれたプレート(3c)をその下の隣接するプレート(3b)から引き離すために、前記選ばれたプレート(3c)の下向きの移動を選択的に防止するように設計されるプレート固定手段(2f〜2i)、および/または前記選ばれたプレート(3c)をその上の隣接するプレート(3d)から引き離すために、前記選ばれたプレート(3c)の上の前記隣接するプレート(3d)の下向きの移動を選択的に防止するように設計されるプレート固定手段(2f〜2i)を備える、水平プレートを有する少なくとも1つの輸送ポッドと協働することを目的とする、請求項10または11のいずれか1項に記載のインターフェース。
  13. 前記プレート固定手段(2f〜2i)が、シリンダ(2j)の作動によって対応するプレート(3a)の凹部(34a)内にピンの端部が係合する固定ピンを備える、請求項12に記載のインターフェース。
  14. 前記プレート固定手段がモータ化された固定ピン(2f〜2i)を備える、請求項12に記載のインターフェース。
  15. 前記プレート固定手段(2f〜2i)が、固定を確実にするために前記プレート(3a〜3f)の磁気部分に作用する1つまたは複数の電磁石を備える、請求項12に記載のインターフェース。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014067770A (ja) * 2012-09-25 2014-04-17 Dainippon Printing Co Ltd 基板保持用枠体と基板保持用枠体の搬送方法
KR101409687B1 (ko) 2011-07-04 2014-06-19 실트로닉 아게 다수의 웨이퍼형 가공물을 완충 보관하기 위한 장치 및 방법
JPWO2016084882A1 (ja) * 2014-11-27 2017-09-07 アキレス株式会社 リングスペーサー
JP2019057612A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 アキレス株式会社 リングスペーサー
WO2019073823A1 (ja) * 2017-10-11 2019-04-18 ローツェ株式会社 ポッドオープナー
JP2020021795A (ja) * 2018-07-31 2020-02-06 日本電産サンキョー株式会社 搬送システム
JP2020021853A (ja) * 2018-08-01 2020-02-06 平田機工株式会社 搬送装置及び搬送システム
JP2022043645A (ja) * 2020-09-04 2022-03-16 村田機械株式会社 物品収容装置

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140091768A (ko) * 2005-11-07 2014-07-22 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 반도체 작업대상물 공정처리 시스템
US8267634B2 (en) 2005-11-07 2012-09-18 Brooks Automation, Inc. Reduced capacity carrier, transport, load port, buffer system
US20080107507A1 (en) * 2005-11-07 2008-05-08 Bufano Michael L Reduced capacity carrier, transport, load port, buffer system
KR101707925B1 (ko) 2006-08-18 2017-02-17 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 용량이 축소된 캐리어, 이송, 로드 포트, 버퍼 시스템
FR2915831B1 (fr) * 2007-05-04 2009-09-25 Alcatel Lucent Sas Interface d'enceinte de transport
FR2933812B1 (fr) * 2008-07-11 2010-09-10 Alcatel Lucent Dispositif de chargement/dechargement de substrats
US9296560B2 (en) * 2011-06-28 2016-03-29 Murata Machinery, Ltd. Storage device and storage method
JP5993252B2 (ja) * 2012-09-06 2016-09-14 東京エレクトロン株式会社 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法
CN103715121B (zh) * 2012-09-29 2016-07-06 无锡华润上华半导体有限公司 一种晶圆装载方法
TWI765789B (zh) * 2013-01-22 2022-05-21 美商布魯克斯自動機械美國公司 基材運送
JP6451453B2 (ja) * 2015-03-31 2019-01-16 Tdk株式会社 ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
JP6744709B2 (ja) * 2015-11-30 2020-08-19 キヤノン株式会社 情報処理装置、情報処理方法
US10361108B2 (en) 2015-12-14 2019-07-23 Solarcity Corporation Ambidextrous cassette and methods of using same
US10832927B2 (en) * 2015-12-18 2020-11-10 Texas Instruments Incorporated Interlocking nest wafer protector
CN108780769B (zh) * 2016-02-09 2023-07-18 恩特格里斯公司 衬底载运器
WO2017139490A1 (en) * 2016-02-09 2017-08-17 Entegris, Inc. Substrate shipper
JP6649157B2 (ja) * 2016-03-30 2020-02-19 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
KR102597446B1 (ko) * 2016-12-01 2023-11-03 에스케이하이닉스 주식회사 웨이퍼 보관 용기, 이를 포함하는 클러스터 시스템 및 클러스터 시스템의 구동 방법
US10153282B1 (en) * 2017-08-11 2018-12-11 Lam Research Corporation Ultra-high vacuum transport and storage
WO2019046477A1 (en) * 2017-08-29 2019-03-07 Daewon Semiconductor Packaging Industrial Company SEPARATORS FOR HANDLING, TRANSPORTING OR STORING SEMICONDUCTOR WAFERS
US11469124B2 (en) 2019-03-05 2022-10-11 Applied Materials, Inc. Contactless latch and coupling for vacuum wafer transfer cassette
JP2022534738A (ja) * 2019-06-06 2022-08-03 ラム リサーチ コーポレーション 回転アライメントを必要とするエッジリングの自動搬送
CN116368605A (zh) * 2020-10-02 2023-06-30 恩特格里斯公司 晶片容器及其尺寸调适系统
CN115148651B (zh) * 2022-08-01 2023-05-02 弥费科技(上海)股份有限公司 晶圆盒交换传输设备及其驱动装置、存储库

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08340043A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Shinko Electric Co Ltd ウエハ保管装置
JP2004241705A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Daifuku Co Ltd 被支持体積層支持装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4431404A (en) * 1982-08-26 1984-02-14 Whirlpool Corporation Method and apparatus for heating plastic sheet material
US4532970A (en) * 1983-09-28 1985-08-06 Hewlett-Packard Company Particle-free dockable interface for integrated circuit processing
US5255797A (en) * 1992-02-26 1993-10-26 Fluoroware, Inc. Wafer carrier with wafer retaining cushions
FR2697004B1 (fr) * 1992-10-16 1994-11-18 Commissariat Energie Atomique Système de stockage et de transport d'objets plats tels que des boîtes extra-plates et son ratelier portatif.
JP3543987B2 (ja) * 1993-12-03 2004-07-21 東京エレクトロン株式会社 処理装置
US5562387A (en) * 1993-10-04 1996-10-08 Tokyo Electron Limited Device for transferring plate-like objects
JP2850279B2 (ja) * 1994-02-22 1999-01-27 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法及び装置
US5586585A (en) * 1995-02-27 1996-12-24 Asyst Technologies, Inc. Direct loadlock interface
US6224312B1 (en) * 1996-11-18 2001-05-01 Applied Materials, Inc. Optimal trajectory robot motion
JPH1187459A (ja) * 1997-07-09 1999-03-30 Canon Inc 基板搬送装置、半導体製造システムおよびデバイス製造方法
GB2349204B (en) * 1999-04-19 2004-03-03 Applied Materials Inc A method of detecting the position of a wafer
JP2001298068A (ja) * 2000-04-18 2001-10-26 Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti 局所清浄化法及び局所清浄化加工処理装置
JP2002305239A (ja) * 2001-04-06 2002-10-18 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器及びその製造方法
US20020159864A1 (en) * 2001-04-30 2002-10-31 Applied Materials, Inc. Triple chamber load lock
US6663333B2 (en) * 2001-07-13 2003-12-16 Axcelis Technologies, Inc. Wafer transport apparatus
WO2003042073A1 (en) * 2001-11-14 2003-05-22 Entegris, Inc. Wafer support attachment for a semi-conductor wafer transport container
KR100491161B1 (ko) * 2002-11-26 2005-05-24 주식회사 테라세미콘 반도체 제조장치
KR101229132B1 (ko) * 2003-07-11 2013-02-01 테크-셈 아크티엔게젤샤프트 전자부품들을 제조하는 동안 판형상의 기질들을 저장하고 전달하기 위한 장치
US20060105498A1 (en) * 2004-08-13 2006-05-18 Cheng-Chung Huang Wafer stack separator
TWI399823B (zh) * 2005-07-09 2013-06-21 Tec Sem Ag 用以存放基板之裝置
US7748542B2 (en) * 2005-08-31 2010-07-06 Applied Materials, Inc. Batch deposition tool and compressed boat

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08340043A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Shinko Electric Co Ltd ウエハ保管装置
JP2004241705A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Daifuku Co Ltd 被支持体積層支持装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101409687B1 (ko) 2011-07-04 2014-06-19 실트로닉 아게 다수의 웨이퍼형 가공물을 완충 보관하기 위한 장치 및 방법
JP2014067770A (ja) * 2012-09-25 2014-04-17 Dainippon Printing Co Ltd 基板保持用枠体と基板保持用枠体の搬送方法
US10658212B2 (en) 2014-11-27 2020-05-19 Achilles Corporation Ring spacer
JPWO2016084882A1 (ja) * 2014-11-27 2017-09-07 アキレス株式会社 リングスペーサー
JP7061857B2 (ja) 2017-09-21 2022-05-02 アキレス株式会社 リングスペーサー
JP2019057612A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 アキレス株式会社 リングスペーサー
CN111164745B (zh) * 2017-10-11 2023-09-12 日商乐华股份有限公司 盒开启器
CN111164745A (zh) * 2017-10-11 2020-05-15 日商乐华股份有限公司 盒开启器
WO2019073823A1 (ja) * 2017-10-11 2019-04-18 ローツェ株式会社 ポッドオープナー
JPWO2019073823A1 (ja) * 2017-10-11 2020-11-19 ローツェ株式会社 ポッドオープナー
US11232964B2 (en) 2017-10-11 2022-01-25 Rorze Corporation Pod opener
JP7321095B2 (ja) 2017-10-11 2023-08-04 ローツェ株式会社 ポッドオープナー
JP7195080B2 (ja) 2018-07-31 2022-12-23 日本電産サンキョー株式会社 搬送システム
JP2020021795A (ja) * 2018-07-31 2020-02-06 日本電産サンキョー株式会社 搬送システム
JP7174560B2 (ja) 2018-08-01 2022-11-17 平田機工株式会社 搬送装置
JP2020021853A (ja) * 2018-08-01 2020-02-06 平田機工株式会社 搬送装置及び搬送システム
JP2022043645A (ja) * 2020-09-04 2022-03-16 村田機械株式会社 物品収容装置
JP7384132B2 (ja) 2020-09-04 2023-11-21 村田機械株式会社 物品収容装置

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