JP7384132B2 - 物品収容装置 - Google Patents

Description

本発明は、物品収容装置に関する。

ウェハ等の板状の物品を載せて支持可能な支持体を複数有し、これら支持体を上下方向に重ねることにより、内部に上下の支持体間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるガス充填可能部を構成する収容容器と、支持体同士を上下方向に離して、支持体に支持された物品を取り出すための取り出し空間を形成する開閉装置とを有する物品収容装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特許第５５６４１７８号公報

特許文献１に記載の物品収容装置では、開閉装置により持体同士を上下方向に離して取り出し空間を形成するので、物品を出し入れする際、収容容器に充填されていた不活性ガスが取り出し空間から漏れ出てしまい、外気が収容容器の内部に入り込む場合がある。その結果、収容容器内の物品が外気に触れて物品の劣化を招く可能性がある。

本発明は、収容容器に取り出し空間を形成させた場合であっても、収容容器内の物品の劣化を防止することが可能な物品収容装置を提供することを目的とする。

本発明の態様に係る物品収容装置は、板状の物品を載せて支持可能な支持体を複数有し、これら支持体を上下方向に重ねることにより、内部に上下の支持体間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるガス充填可能部を構成する収容容器と、収容容器を構成する重ねられた複数の支持体のうちの１つの支持体と、その上側の支持体とを上下方向に離し、１つの支持体に支持された物品を取り出すための取り出し空間を形成する開閉装置と、取り出し空間に向けて不活性ガスを噴出するガス噴出装置と、前記収容容器を昇降させる昇降装置と、を備え、ガス噴出装置は、不活性ガスが入れられていたガス充填可能部から開閉装置により形成された取り出し空間を介して収容容器外に漏れ出ることを抑制する、又は、取り出し空間を介して、不活性ガスが入れられているガス充填可能部に不活性ガスを補填し、前記開閉装置は、前記昇降装置により昇降される前記収容容器に対して所定高さで前記取り出し空間を形成させ、前記ガス噴出装置は、前記所定高さに対応した不活性ガスの噴出口を備える。
また、本発明の態様に係る物品収容装置は、板状の物品を載せて支持可能な支持体を複数有し、これら前記支持体を上下方向に重ねることにより、内部に上下の前記支持体間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるガス充填可能部を構成する収容容器と、前記収容容器を構成する重ねられた複数の前記支持体のうちの１つの前記支持体と、その上側の前記支持体とを上下方向に離し、前記１つの支持体に支持された物品を取り出すための取り出し空間を形成する開閉装置と、前記取り出し空間に向けて不活性ガスを噴出するガス噴出装置と、を備え、前記ガス噴出装置は、不活性ガスが入れられていた前記ガス充填可能部から前記開閉装置により形成された前記取り出し空間を介して前記収容容器外に漏れ出ることを抑制する、又は、前記取り出し空間を介して、不活性ガスが入れられている前記ガス充填可能部に不活性ガスを補填し、前記ガス噴出装置は、前記収容容器を構成する重ねられた複数の前記支持体のうちの最上部の前記支持体と、その上側の蓋体とを上下方向に離して形成された第３空間に向けて不活性ガスを噴出する。

上記態様に係る物品収容装置によれば、開閉装置により収容容器に取り出し空間が形成される際に取り出し空間に向けて不活性ガスが供給されるので、収容容器に充填されていた不活性ガスが取り出し空間から漏れ出るのを抑制することができる。また、収容容器に形成された取り出し空間からガス充填可能部に不活性ガスを補填することができる。その結果、収容容器内の物品が外気に触れにくくなるため、物品が劣化することを防止できる。

また、収容容器を昇降させる昇降装置を備え、開閉装置は、昇降装置により昇降される収容容器に対して所定高さで取り出し空間を形成させ、ガス噴出装置は、所定高さに対応した不活性ガスの噴出口を備えてもよい。この構成によれば、不活性ガスの噴出口を所定高さに配置すればよいので、不活性ガスが無駄に噴出されることを回避し、不活性ガスの無駄な消費を抑制できる。また、開閉装置が、複数の支持体の間に対して進退可能な爪部を備え、さらに、収容容器を昇降させる昇降装置を備え、昇降装置は、爪部が進出して上側の支持体を支持した状態で１つの支持体を下降させることにより、１つの支持体と、爪部に支持された上側の支持体とを離して、取り出し空間を形成させてもよい。この構成によれば、爪部で上側の支持体を支持して１つの支持体を下降させるといった簡単な操作で容易に取り出し空間を形成することができる。また、噴出口が、取り出し空間の上下寸法に対応して上下方向に複数配設されてもよい。この構成によれば、取り出し空間に向けて広く不活性ガスを噴出することができる。

また、開閉装置が、取り出し空間とは別に１つの支持体と、その下側の支持体とを上下方向に離した第２空間を形成させ、噴出口は、第２空間にも対応して設けられてもよい。この構成によれば、第２空間の高さに合わせて不活性ガスを噴出させるので、不活性ガスの無駄な噴出を防止できる。また、ガス噴出装置が、取り出し空間が形成されているときに第１流量で不活性ガスを噴出させ、取り出し空間が形成されていないときに第１流量よりも小さい第２流量で不活性ガスを噴出させる流量調整部を有してもよい。この構成によれば、取り出し空間が形成されていないときにおいても第２流量で不活性ガスを噴出させるので、噴出口へのパーティクルの付着を防止できる。さらに、第２流量が第１流量よりも小さいので、不活性ガスの消費を抑えることができる。また、流量調整部が、昇降装置により収容容器を昇降させる際にも第１流量で不活性ガスを噴出させてもよい。この構成によれば、収容容器に取り出し空間が形成される前の昇降するタイミングで不活性ガスを噴出させるので、取り出し空間が形成された際に確実に不活性ガスを供給することができる。

また、昇降装置が、収容容器を載せて昇降する昇降台を備え、昇降台は、昇降台に載置されている収容容器に、この収容容器の底部から不活性ガスを供給するノズルを有してもよい。収容容器内にノズルを介して不活性ガスを供給するので、収容容器に取り出し空間が形成された場合でもガス充填可能部に不活性ガスを供給できる。また、ガス噴出装置が、収容容器を構成する重ねられた複数の支持体のうちの最上部の支持体と、その上側の蓋体とを上下方向に離して形成された第３空間に向けて不活性ガスを噴出させてもよい。この構成によれば、蓋体と支持体との間に形成された第３空間から不活性ガスが漏れ出るのを抑制できる。

本実施形態に係る物品収容容器の一例を示す図である。 収容容器の一例を示す概略斜視図である。 支持体の一例を示す平面図であり、（Ａ）は第１支持体を示す図であり、（Ｂ）は第２支持体を示す図である。 支持体の一例を示す側面図であり、（Ａ）は第１支持体を示す図であり、（Ｂ）は第２支持体を示す図である。 開閉装置の一例を示す正面図である。 開閉装置の一例を示す概略斜視図である。 第１爪部と支持体との位置関係の一例を示す図である。 第１爪部と支持体との位置関係の一例を示す図である。 収容容器に取り出し空間及び第２空間が形成された状態の一例を示す図である。 昇降台に収容容器を載置した状態の一例を示す平面図である。 収容容器のガス充填可能部に不活性ガスを供給する一例を示す図である。 収容容器に第３空間が形成された状態の一例を示す図である。

以下、実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されない。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きく又は強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現しており、実際の製品とは形状、寸法等が異なる場合がある。図１は、本実施形態に係る物品収容装置３０の一例を示す図である。物品収容装置３０は、例えば、ウェハ貯蔵システム１００に含まれる。図１に示すように、ウェハ貯蔵システム１００は、ロードポート１０と、ウェハ搬送装置２０と、物品収容装置３０と、ストッカ４０と、制御部５０とを備える。

ロードポート１０は、例えば、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）２が載置され、搬送車等の搬送装置との間でＦＯＵＰ２の受け渡しを行うために用いられる。搬送車は、例えば半導体工場の天井等に設けられた軌道に沿って走行し、ＦＯＵＰ２を搬送する。ＦＯＵＰ２は、開口部を有する箱状の筐体と、開口部を覆う蓋部とを有する。蓋部は、筐体に対し取り外し可能に設けられている。ＦＯＵＰ２には、１又は複数のウェハ（物品）Ｗが収容される。

ウェハ搬送装置２０は、ＦＯＵＰ２と後述する収容容器５との間でウェハＷを搬送する。ウェハ搬送装置２０は、ウェハＷの搬送動作を行う不図示のロボットアームを有する。なお、ロボットアームは、収容容器５を構成する重ねられた複数の支持体７のうち、１つの支持体７に対してウェハＷの受け渡しを行う。ロボットアームは、ウェハＷをすくい上げて移載するスライドフォークを有する。ロボットアームは、開閉装置６０とロードポート１０とに隣接して配置されている（図１参照）。ロボットアームは、例えば、ＥＦＥＭ（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｆｒｏｎｔ Ｅｎｄ Ｍｏｄｕｌｅ）である。

物品収容装置３０は、ストッカ４０に設けられ、ストッカ４０に保管されている複数の収容容器５のうち、後述する容器搬送装置４２によって搬送された１つの収容容器５が配置される。物品収容装置３０は、図１に示すように開閉装置６０と、ガス噴出装置７０とを備えている。

図２は、収容容器５の一例を示す概略斜視図である。収容容器５は、図２示すように、複数の支持体７が上下方向に重ねられて構成される。各支持体７は、それぞれウェハＷを載せて支持可能である。収容容器５は、上下方向に複数の支持体７が重ねられることにより、内部にガス充填可能部５ｇを備える。ガス充填可能部５ｇは、収容容器５の内部において上下の支持体７間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるように形成される。不活性ガスとは、収容する物品に対して不活性なガスを意味し、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどである。ガス充填可能部５ｇは、閉じた空間であるため、不活性ガスの濃度を維持する機能を有する。

支持体７は、複数の第１支持体７Ａと、複数の第２支持体７Ｂと、を含む。第１支持体７Ａと第２支持体７Ｂとは、上下方向に交互に積み重ねられている。第１支持体７Ａと第２支持体７Ｂとは、平面視において外縁形状が同一又はほぼ同一である。第１支持体７Ａと第２支持体７Ｂとの外縁形状は、１８０°回転（点対象）させた関係にある。なお、平面視とは、上方又は下方（Ｚ方向）から見た場合と同義である。また、支持体７は、例えば、セルリング、リング、セルと称される場合がある。

収容容器５は、側面をできる限り気密にするため、複数の支持体７がほぼ隙間なく積み重ねられている。収容容器５は、最下層の支持体７が載置される底部５ａと、最上層の支持体７に載置される蓋部５ｂと、を備える。底部５ａ及び蓋部５ｂは、例えば矩形状の板状体である。底部５ａには、後述するノズル６８が接続されるノズル挿入孔５ｃ（図１１参照）が設けられる。複数の支持体７は、蓋部５ｂの重さを利用して下方へ押さえ付けられている。蓋部５ｂには、収容容器５の内部のガスを排出する排気孔５ｄが設けられる。排気孔５ｄは、ガス充填可能部５ｇと連通している。なお、収容容器５が排気孔５ｄを備えるか否かは任意であり、排気孔５ｄは設けられなくてもよい。

図３（Ａ）は、第１支持体７Ａを示す平面図、図３（Ｂ）は、第２支持体７Ｂを示す平面図である。図４（Ａ）は、第１支持体７Ａを示す側面図、図４（Ｂ）は、第２支持体７Ｂを示す側面図である。図３（Ａ）に示すように、第１支持体７Ａは、枠体１１、第１被支持部１２、第１保持部１３、係合凸部１４及び係合孔１５を有する。枠体１１は、平面視で矩形の枠状である。枠体１１は、一対の辺部１１ａと、これら一対の辺部１１ａと直交する一対の辺部１１ｂと、により構成されている。

第１被支持部１２は、開閉装置６０で支持される部分である。第１被支持部１２は、一対の辺部１１ａのそれぞれの外側の側面において、平面視で外側へ突き出る（出っ張る）ように設けられた凸部分である。第１被支持部１２は、一対の辺部１１ａのそれぞれの両端部に、２つずつ（合計４つ）設けられている。第１被支持部１２は、一方の辺部１１ａにおいては、角部に設けられている。第１被支持部１２は、他方の辺部１１ａにおいては、角部から離れて設けられている。以下、平面視において、第１支持体７Ａの第１被支持部１２の位置を「第１位置」とする。

図３（Ａ）及び図４（Ａ）に示すように、第１保持部１３は、第１被支持部１２よりも上方でウェハＷを保持する。第１保持部１３は、一対の辺部１１ｂのそれぞれの内側に接続されたアーム１３ａの先端に設けられている。アーム１３ａは、一対の辺部１１ｂのそれぞれの内側に２つずつ（合計４つ）設けられている。アーム１３ａは、それぞれ平面視で第１支持体７Ａの中心に向かうように延びている。アーム１３ａは、第１支持体７Ａの中心に向かうに連れて、上方へ向かうように延びた後に下方へ向かうように湾曲して延びる。第１保持部１３は、アーム１３ａの先端から水平に延びる。ウェハＷは、４つの第１保持部１３上に架け渡されるように載置される。また、ウェハＷは、４つのアーム１３ａにおける湾曲部分によって水平方向に位置決めされる。

図３（Ａ）に示すように、係合凸部１４は、枠体１１の上面における対角となる一対の角部のそれぞれに、上方に突出するように設けられている。係合凸部１４は、上側に重ねられた第２支持体７Ｂの係合孔２５に挿入される。係合孔１５は、枠体１１の係合凸部１４の周辺に設けられた貫通孔である。なお、枠体１１の内側には、開口部１６が形成されている。

図３（Ｂ）に示すように、第２支持体７Ｂは、枠体２１、第２被支持部２２、第２保持部２３、係合凸部２４及び係合孔２５を有する。枠体２１は、平面視で矩形の枠状である。枠体２１は、一対の辺部２１ａと、これら一対の辺部２１ａと直交する一対の辺部２１ｂと、により構成されている。

第２被支持部２２は、開閉装置６０で支持される部分である。第２被支持部２２は、一対の辺部２１ａのそれぞれの外側の側面において、平面視で外側へ突き出るように設けられた凸部分である。第２被支持部２２は、一対の辺部２１ａのそれぞれの両端部に、２つずつ（合計４つ）設けられている。第２被支持部２２は、一方の辺部２１ａにおいては、角部から離れて設けられている。第２被支持部２２は、他方の辺部２１ａにおいては、角部の領域に設けられている。以下、平面視において、第２支持体７Ｂの第２被支持部２２の位置を「第２位置」とする。第１支持体７Ａと第２支持体７Ｂとを重ねたとき（以下、単に「積層時」という場合がある。）に、第２被支持部２２は、平面視における第１位置とは異なる第２位置となるように形成されている。

第２保持部２３は、第２被支持部２２よりも上方でウェハＷを保持する。第２保持部２３は、一対の辺部２１ｂのそれぞれの内側に接続されたアーム２３ａの先端に設けられている。アーム２３ａは、一対の辺部２１ｂのそれぞれの内側に２つずつ（合計４つ）設けられている。アーム２３ａは、それぞれ平面視で第２支持体７Ｂの中心に向かうように延びている。アーム２３ａは、第２支持体７Ｂの中心に向かうに連れて、上方へ向かうように延びた後に下方へ向かうように湾曲して延びる。第２保持部２３は、アーム２３ａの先端から水平に延びる。ウェハＷは、４つの第２保持部２３上に架け渡されるように載置される。また、ウェハＷは、４つのアーム２３ａにおける湾曲部分によって水平方向に位置決めされる。積層時において、第２保持部２３及びアーム２３ａは、平面視における第１保持部１３及びアーム１３ａとは重ならない位置に設けられている。

図３（Ｂ）に示すように、係合凸部２４は、枠体２１の上面における対角となる一対の角部のそれぞれに、上方に突出するように設けられている。係合凸部２４は、上側に重ねられた第１支持体７Ａの係合孔１５に挿入される。係合孔２５は、枠体２１の係合凸部２４の周辺に設けられた貫通孔である。第１支持体７Ａの係合凸部１４が第２支持体７Ｂの係合孔２５に挿入され、第２支持体７Ｂの係合凸部２４が第１支持体７Ａの係合孔１５に挿入されることで、第１支持体７Ａと第２支持体７Ｂとが水平方向にズレないように係合されて位置決めされる。なお、枠体２１の内側には、第１支持体７Ａの開口部１６と上下方向に連通する開口部２６が形成されている。

積層時には、第１支持体７Ａの第１保持部１３及びアーム１３ａは、この第１支持体７Ａの上側に重ねられた第２支持体７Ｂの枠体２１を貫通している。積層時には、第１支持体７Ａの第１保持部１３は、この第１支持体７Ａの上側に重ねられた第２支持体７Ｂの枠体２１よりも上方に位置する。同様に、積層時には、第２支持体７Ｂの第２保持部２３及びアーム２３ａは、この第２支持体７Ｂの上側に重ねられた第１支持体７Ａの枠体１１を貫通している。積層時には、第２支持体７Ｂの第２保持部２３は、この第２支持体７Ｂの上側に重ねられた第１支持体７Ａの枠体１１よりも上方に位置する。

開閉装置６０は、収容容器５に設けられる複数の支持体７のうちの１つの支持体７と、その上側の支持体７とを上下方向に離し、その１つの支持体７に支持されたウェハＷを取り出すための取り出し空間Ｄ１を形成する。取り出し空間Ｄ１が形成されることにより、ウェハ搬送装置２０のロボットアームによるウェハＷの受け渡しが可能な状態となる。また、開閉装置６０は、取り出し空間Ｄ１を介して収容容器５にウェハＷが格納された後、１つの支持体７と、その上側の支持体７とを重ねて（取り出し空間Ｄ１をなくして）、ガス充填可能部５ｇを閉じた空間とする。

図５は、開閉装置６０の一例を示す正面図である。図６は、開閉装置６０の一例を示す概略斜視図である。図５及び図６に示すように、開閉装置６０は、ベース６１と、昇降装置６２と、を備える。ベース６１は、開閉装置６０の下部側に設置される。ベース６１は、各種の機構を収容する。

昇降装置６２は、収容容器５を昇降させる。昇降装置６２は、昇降台６５と、一対のボールねじ６６と、リニアガイド６７とを有する。昇降台６５は、ベース６１の上方において、収容容器５を載せて昇降する。昇降台６５には、後述するストッカ４０の容器搬送装置４２（図１参照）によって棚４１から搬送された収容容器５が載置される。昇降台６５には、予め定められた位置に収容容器５が位置決めされて配置される。昇降台６５は、収容容器５が置かれた際に収容容器５を位置決めする位置決め部が設けられてもよい。

昇降台６５には、ノズル６８が設けられる。ノズル６８は、昇降台６５から上方に向けて突出して設けられる。ノズル６８は、昇降台６５に収容容器５が置かれた際に収容容器５の底部５ａのノズル挿入孔５ｃ（図１１参照）に接続される。ノズル６８は、ガス充填可能部５ｇに不活性ガスを供給する。なお、昇降台６５がノズル６８を備えるか否かは任意であり、昇降台６５がノズル６８を備えなくてもよい。

ボールねじ６６は、昇降台６５を駆動する駆動装置である。ボールねじ６６は、ベース６１上において昇降台６５を挟んだ両側に配置される。ボールねじ６６は、例えば電動モータ等の不図示の駆動源により軸心まわりに回転する。この駆動源は、例えば、ベース６１に設けられている。昇降台６５は、不図示の雌ネジ部を備えており、ボールねじ６６とネジ結合している。ボールねじ６６を回転させることで、ボールねじ６６にネジ結合している雌ネジ部が昇降し、この雌ネジ部と一体の昇降台６５が昇降する。なお、ボールねじ６６（ボールねじ機構）を用いて昇降台６５を昇降させることに限定されず、例えば、シリンダ装置、リニアモータ等の駆動装置が用いられてもよい。また、昇降台６５は、例えば、２本のタイミングベルトによって吊り下げられて配置される形態であってもよい。この形態の場合、２本のタイミングベルトを電動モータ等によって巻き取り又は送り出すことにより昇降台６５を昇降させる。昇降台６５の高さ位置は、２本のタイミングベルトの巻き取り量又は送り出し量によって設定される。

リニアガイド６７は、ボールねじ６６の回転によって昇降する昇降台６５をガイドする。リニアガイド６７は、昇降台６５の側方において上下方向に延びて配置される。リニアガイドは、ベース６１に固定される。

開閉装置６０は、第１支持片８１と、第２支持片８２と、第３支持片８３と、第４支持片８４と、回転軸８５と、第１駆動機構８６と、第２駆動機構８７と、第３駆動機構８８と、第４駆動機構８９と、を有する。なお、図６では、第１支持片８１、第２支持片８２、第３支持片８３、及び第４支持片８４をまとめて箱状の一点鎖線で表している。第１支持片８１、第２支持片８２、第３支持片８３、及び第４支持片８４（以下、これらを第１支持片８１等と称する場合がある。）は、それぞれ第１支持体７Ａ又は第２支持体７Ｂの何れか一方を支持する。第１支持片８１等は、同一水平面上において複数配置され、上下方向に延びる回転軸８５の軸まわりに回転可能に設けられている。第１支持片８１等は、それぞれ支持体７の枠体１１の厚さよりも薄い板状である。

第１支持片８１等は、回転軸８５において上方から第１支持片８１、第２支持片８２、第３支持片８３、第４支持片８４の順でそれぞれ間隔をあけて上下方向に並んで配置されている。第１支持片８１等は、上下方向の位置が固定されている。第１支持片８１は、ウェハＷの受け渡し対象である１つの支持体７の上側の支持体７を支持する。第２支持片８２は、ウェハＷの受け渡し対象である１つの支持体７を支持する。第１支持片８１と第２支持片８２との間隔は、支持体７に対してウェハ搬送装置２０のロボットアームによるウェハＷの受け渡しを行うための取り出し空間Ｄ１を形成させる間隔に設定される。

第３支持片８３は、ウェハＷの受け渡し対象である１つの支持体７の上側の支持体７を支持する。第４支持片８４は、ウェハＷの受け渡し対象である１つの支持体７を支持する。第３支持片８３と第４支持片８４との間隔は、支持体７に対してウェハ搬送装置２０のロボットアームによるウェハＷの受け渡しを行うための取り出し空間Ｄ２（図９参照）を形成させる間隔に設定される。なお、第２支持片８２と第３支持片８３との間隔は任意に設定可能である。

開閉装置６０は、第１支持片８１を回転させる第１駆動機構８６と、第２支持片８２を回転させる第２駆動機構８７と、第３支持片８３を回転させる第３駆動機構８８と、第４支持片８４を回転させる第４駆動機構８９と、を備えている。第１駆動機構８６、第２駆動機構８７、第３駆動機構８８、及び第４駆動機構８９は、例えば、ベース６１に設けられる。第１駆動機構８６は、電動モータ又はシリンダ装置等の不図示の駆動源と、この駆動源の駆動力を伝達する伝達機構とを有する。この伝達機構は、例えば、複数の第１支持片８１を同期して回転させるようなすリンク機構が用いられる。

同様に、第１駆動機構８６は、不図示の駆動源と伝達機構とを有し、複数の第２支持片８２を同期して回転させる。第３駆動機構８８は、不図示の駆動源と伝達機構とを有し、複数の第３支持片８３を同期して回転させる。第４駆動機構８９は、不図示の駆動源と伝達機構とを有し、複数の第４支持片８４を同期して回転させる。なお、第１支持片８１等を回転させる構成は任意であり、例えば、第１支持片８１等をそれぞれ電動モータで回転させる構成であってもよい。

開閉装置６０は、第１支持片８１、第２支持片８２、第１駆動機構８６、及び第２駆動機構８７により、収容容器５において１つの取り出し空間Ｄ１を形成させるための１つの開閉モジュールを構成し、第３支持片８３、第４支持片８４、第３駆動機構８８、及び第４駆動機構８９により、収容容器５において取り出し空間Ｄ１とは異なる１つの取り出し空間Ｄ２を形成させるための１つの開閉モジュールを構成する。本実施形態では、開閉装置６０が２つの開閉モジュールを備える構成を例に挙げて説明している。ただし、開閉装置６０が２つの開閉モジュールを備えることに限定されず、いずれか１つの開閉モジュールを備える形態であってもよい。

図７及び図８は、第１支持片８１と第１支持体７Ａとの位置関係を示す図である。第１支持片８１は、図７及び図８に示すように、第１爪部８１ａと、第２爪部８１ｂと、基部８１ｃとを有する。基部８１ｃは、回転軸８５に対して回転可能に取り付けられている。第１爪部８１ａ、第２爪部８１ｂ及び基部８１ｃは、一体に形成されて回転軸８５を基軸に回転可能に支持されている。平面視において、第１爪部８１ａ及び第２爪部８１ｂは、基部８１ｃから突出するように設けられている。なお、第２支持片８２、第３支持片８３、及び第４支持片８４についても同一の形状である。

第１支持片８１等は、それぞれ昇降台６５の周囲を囲む（平面視における４つの角部にあたる）４箇所に配置されている。第１支持片８１等は、それぞれ昇降台６５に載置された収容容器５の支持体７に近接する位置に設けられている。具体的には、第１支持片８１等は、平面視において支持体７の４つの角部のそれぞれに近接する位置に設けられている。第１支持片８１等は、回転軸８５まわりに回転することで、支持体７に対して第１爪部８１ａ（８２ａ、８３ａ、８４ａ）を進退させ、又は第２爪部８１ｂ（８２ｂ、８３ｂ、８４ｂ）を進退させる。

図７及び図８に示すように、第１支持片８１は、第１駆動機構８６により平面視でそれぞれ時計回りに回転することで、第１爪部８１ａが第１支持体７Ａにおける第１被支持部１２の側方に位置した状態となる。この状態は、この第１支持体７Ａの上側に重ねられている第２支持体７Ｂの第２被支持部２２（第２位置、図３（Ｂ）参照）と第１爪部８１ａとが平面視で重なっている。その結果、第１支持体７Ａの上側に重ねられている第２支持体７Ｂを第１爪部８１ａによって支持可能となる。この状態で、第１爪部８１ａと収容容器５の底部５ａとを相対的に上下方向に離すことで、第１支持体７Ａと上側の第２支持体７Ｂとが上下方向に離れる。

また、図示していないが、第１支持片８１が反時計回りに回転することで、第２爪部８１ｂが第２支持体７Ｂにおける第２被支持部２２の側方に位置した状態となる。この状態は、この第２支持体７Ｂの上側に重ねられている第１支持体７Ａの第１被支持部１２（第１位置）と第２爪部８１ｂとが平面視で重なっている。その結果、第２支持体７Ｂの上側に重ねられている第１支持体７Ａを第２爪部８１ｂによって支持可能となる。この状態で、第２爪部８１ｂと収容容器５の底部５ａとを相対的に上下方向に離すことで、第２支持体７Ｂと上側の第１支持体７Ａとが上下方向に離れることになる。

第２支持片８２、第３支持片８３、第４支持片８４についても第１支持片８１と同様に、第２駆動機構８７、第３駆動機構８８、第４駆動機構８９により時計回りに回転することで、第１爪部８２ａ、８３ａ、８４ａを突出させて第２支持体７Ｂを支持することができる。また、第２支持片８２、第３支持片８３、第４支持片８４が反時計回りに回転することで、第２爪部８２ｂ、８３ｂ、８４ｂを突出させて第１支持体７Ａを支持することができる。なお、第１支持片８１等は、第１爪部８２ａ等及び第２爪部８２ｂ等の双方を突出させない中立状態にすることもできる。中立状態は、第１支持片８１等が平面視で第１位置及び第２位置の双方と重ならない状態である。

図９は、開閉装置６０により収容容器５に取り出し空間Ｄ１、Ｄ２が形成された状態の一例を示す図である。開閉装置６０は、２つの支持体７を上下方向に離すことにより、収容容器５に対して所定高さで取り出し空間Ｄ１、Ｄ２を形成する。図９に示すように、開閉装置６０は、ウェハＷの受け渡し対象となる第１支持体７Ａ（複数の支持体７のうちの１つの支持体７）の上側の第２支持体７Ｂを第１支持片８１で支持させ、昇降台６５を下降させることで第１支持体７Ａを下降させ、上側の第２支持体７Ｂとの間にウェハＷの取り出し空間Ｄ１を形成させる。また、開閉装置６０は、ウェハＷの受け渡し対象となる第１支持体７Ａを第２支持片８２で支持させ、昇降台６５を下降させることで第１支持体７Ａの下側の第２支持体７Ｂを下降させ、下側の第２支持体７Ｂとの間に第２空間Ｄ３を形成させる。上記したように第１支持片８１及び第２支持片８２は上下方向に移動しない。従って、取り出し空間Ｄ１及び第２空間Ｄ３が形成される高さは変動せず、固定された高さに設定されている。

また、開閉装置６０は、ウェハＷの受け渡し対象となる第１支持体７Ａの上側の第２支持体７Ｂを第３支持片８３で支持させ、昇降台６５を下降させることで第１支持体７Ａを下降させ、上側の第２支持体７Ｂとの間にウェハＷの取り出し空間Ｄ２を形成させる。また、開閉装置６０は、ウェハＷの受け渡し対象となる第１支持体７Ａを第４支持片８４で支持させ、昇降台６５を下降させることで第１支持体７Ａの下側の第２支持体７Ｂを下降させ、下側の第２支持体７Ｂとの間に第２空間Ｄ４を形成させる。上記したように第３支持片８３及び第４支持片８４は上下方向に移動しない。従って、取り出し空間Ｄ２及び第２空間Ｄ４が形成される高さは変動せず、固定された高さに設定されている。

ガス噴出装置７０は、ガス供給部７１と、配管７２とを有する。ガス供給部７１は、不活性ガスを配管７２に供給する。ガス供給部７１は、例えば、工場等の建屋に設けられている窒素ガスの供給ライン等が用いられる。ガス供給部７１は、配管７２に供給する不活性ガスの流量を調整する流量調整部７４を有する。配管７２は、ガス供給部７１からの不活性ガスを流通させる。配管７２は、昇降台６５に対してウェハ搬送装置２０側に配置される（図１参照）。配管７２は、ウェハ搬送装置２０側の第１支持片８１等よりも外側において一対配置され、上下方向に延びている。配管７２は、不活性ガスを噴出する複数の噴出口７３を有する。

噴出口７３は、配管７２の上下方向に複数並んだ状態で設けられ、昇降台６５上の収容容器５側に向けられている（図７及び図８参照）。噴出口７３は、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４の上下寸法に対応して上下方向に複数配置される。開閉装置６０は、図９に示すように、高さＨ１と高さＨ２との間で取り出し空間Ｄ１及び第２空間Ｄ３を形成させる。従って、噴出口７３は、配管７２のうち高さＨ１と高さＨ２との間に対応する部分に設けられる。また、開閉装置６０は、図９に示すように、高さＨ３と高さＨ４との間で取り出し空間Ｄ２及び第２空間Ｄ４を形成させる。従って、噴出口７３は、配管７２のうち高さＨ３と高さＨ４との間に対応する部分に設けられる。この構成により、不活性ガスの無駄な噴射を防止できる。

ガス噴出装置７０は、開閉装置６０により形成された取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４を介して、ガス充填可能部５ｇから収容容器５外に漏れ出ることを抑制する、又は、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４を介して、ガス充填可能部５ｇに不活性ガスを補填する。

流量調整部７４は、噴出口７３から噴出される不活性ガスの流量を調整すれる。この場合、流量調整部７４は、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４が形成されているときに第１流量で噴出口７３から不活性ガスを噴出させ、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４が形成されていないときに第１流量よりも小さい第２流量で噴出口７３から不活性ガスを噴出させる。第１流量は、ガス充填可能部５ｇから不活性ガスが漏れ出ることを抑制することを目的とした単位時間あたりの流量、又は、ガス充填可能部５ｇに不活性ガスを補填することを目的とした単位時間当たりの流量に設定される。第２流量は、取り出し空間Ｄ１等を形成していない間に、噴出口７３へのパーティクルの付着を防止することを目的とした単位時間当たりの流量に設定される。この第２流量は第１流量よりも少ないので、不活性ガスの消費を抑えることができる。

また、流量調整部７４は、昇降装置６２により収容容器５を昇降させる際に第１流量で不活性ガスを噴出させてもよい。すなわち、取り出し空間Ｄ１等を形成する際に、昇降装置６２により収容容器５を昇降させるが、取り出し空間Ｄ１等が形成される前のタイミングから第１流量で不活性ガスを噴出させることで、取り出し空間Ｄ１等が形成された際に確実に不活性ガスの噴出を行うことができる。

ストッカ４０は、収容容器５を保管する。ストッカ４０は、複数の棚４１と、容器搬送装置４２とを有する。複数の棚４１は、例えば、ストッカ４０内において、上下方向及び水平方向にそれぞれ並んで配置されている。各棚４１は、収容容器５を載置可能であり、載置された収容容器５に対して不活性ガスを供給する不図示のガス供給機構を備えていてもよい。容器搬送装置４２は、例えばクレーン装置が用いられ、収容容器５の底部５ａの下面側を保持する不図示の搬送アームを備えている。容器搬送装置４２は、棚４１と物品収容装置３０の昇降台６５との間で収容容器５を搬送する。また、容器搬送装置４２は、棚４１と棚４１との間で収容容器５を搬送する。

制御部５０は、物品収容装置３０の各動作を制御する。制御部５０は、例えば開閉装置６０、ガス噴出装置７０の動作を制御する。また、制御部５０は、物品収容装置３０を含めたウェハ貯蔵システム１００の各動作を制御する。制御部５０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡＭ（Random Access Memory）等からなる電子制御ユニットである。制御部５０は、電子回路等によるハードウェアとして構成されてもよい。制御部５０は、一つの装置で構成されてもよいし、複数の装置で構成されてもよい。

次に、物品収容装置３０の動作の一例を説明する。以下の説明では収容容器５に収容されているウェハＷをウェハ搬送装置２０により取り出してＦＯＵＰ２に収容する動作について説明する。まず、ウェハ搬送装置２０の容器搬送装置４２により、収容容器５が棚４１から物品収容装置３０内の昇降台６５に載置される。

図１０は、昇降台６５に収容容器５を載置した状態の一例を示す平面図である。図１０に示すように、昇降台６５に収容容器５を載置されると、昇降台６５のノズル６８が、収容容器５の底部５ａに設けられているノズル挿入孔５ｃに挿入される。ノズル６８又は昇降台６５には、ノズル６８がノズル挿入孔５ｃに挿入されたこと、又は収容容器５が昇降台６５に載置されたことを検出するセンサが設けられている。このセンサによよって収容容器５が昇降台６５に載置されたことを検出すると、制御部５０は、ガス供給部７１を駆動させてノズル６８から不活性ガスを噴出させる。

収容容器５は、昇降台６５に載置されることで、ノズル６８からガス充填可能部５ｇに不活性ガスが供給される。すなわち、棚４１から昇降台６５まで搬送される間に不活性ガスが漏れ出たとしても再度ガス充填可能部５ｇに不活性ガスが補充される。ガス供給部７１は、上記した配管７２への不活性ガスの供給と、ノズル６８への不活性ガスの供給とを行っている。ただし、配管７２に不活性ガスを供給するガス供給部と、ノズル６８に不活性ガスを供給するガス供給部とが別に設けられてもよい。また、収容容器５が昇降台６５に載置されていない間は、ノズル６８へのパーティクルの付着を防止することを目的とした少ない流量でノズル６８から不活性ガスを噴出させてもよい。

図１１は、収容容器５のガス充填可能部５ｇに不活性ガスを供給する一例を示す図である。図１１に示すように、ノズル６８から噴出された不活性ガスは、ノズル挿入孔５ｃを介して収容容器５のガス充填可能部５ｇに入り、収容容器５の内部を循環した後、蓋部５ｂの排気孔５ｄから排出される。このように、収容容器５の内部は、ノズル６８から供給される新鮮な不活性ガスが循環する状態となる。このため、収容容器５に収容されるウェハＷが外気に触れにくくなり、ウェハＷの劣化を防止できる。

次に、制御部５０は、昇降装置６２を駆動させて昇降台６５を上昇させ、収容容器５を上昇させる。このとき、開閉装置６０の第１支持片８１等は中立状態となっている。また、制御部５０は、昇降台６５の上昇にともない、配管７２の噴出口７３から第１流量で不活性ガスを噴出させてもよい。制御部５０は、ウェハＷの取り出し対象となる第１支持体７Ａの高さが、第１支持片８１の高さに達した段階で昇降台６５の上昇を停止させる。次に、制御部５０は、第１支持片８１を回転させて第１爪部８１ａを突出させる。その結果、第１支持体７Ａの上側の第２支持体７Ｂが第１爪部８１ａによって支持された状態となる。

次に、制御部５０は、昇降台６５を下降させる。その結果、ウェハＷの取り出し対象となる第１支持体７Ａは、上側の第２支持体７Ｂから離れて下降する。制御部５０は、この第１支持体７Ａの下側の第２支持体７Ｂが第２支持片８２の高さに達した段階で昇降台６５の下降を停止させる。第１支持体７Ａと上側の第２支持体７Ｂとの間には取り出し空間Ｄ１が形成される（図９参照）。このとき、制御部５０は、流量調整部を制御して不活性ガスを第１流量で噴出口７３から噴出させる。取り出し空間Ｄ１から不活性ガスが収容容器５外に漏れ出すが、噴出口７３から噴出された第１流量の不活性ガスにより、取り出し空間Ｄ１からの不活性ガスの漏れ出しを抑制し、又はガス充填可能部５ｇに不活性ガスを充填する。

次に、制御部５０は、第２支持片８２を回転させて第２爪部８２ｂを突出させる。その結果、第１支持体７Ａが第２爪部８２ｂによって支持された状態となる。次に、制御部５０は、昇降台６５を下降させる。その結果、下側の第２支持体７Ｂは、第１支持体７Ａから離れて下降する。第１支持体７Ａと下側の第２支持体７Ｂとの間には第２空間Ｄ３が形成される（図９参照）。このとき、第２空間Ｄ３から不活性ガスが収容容器５外に漏れ出すが、噴出口７３から噴出された第１流量の不活性ガスにより、第２空間Ｄ３からの不活性ガスの漏れ出しを抑制し、又はガス充填可能部５ｇに不活性ガスを充填する。

制御部５０は、次のウェハＷの取り出し対象となる第１支持体７Ａの高さが、第３支持片８３の高さに達した段階で昇降台６５の下降を停止させる。次に、制御部５０は、第３支持片８３を回転させて第１爪部８３ａを突出させる。その結果、第１支持体７Ａの上側の第２支持体７Ｂが第１爪部８３ａによって支持された状態となる。次に、制御部５０は、昇降台６５を下降させる。その結果、ウェハＷの取り出し対象となる第１支持体７Ａは、上側の第２支持体７Ｂから離れて下降する。

制御部５０は、この第１支持体７Ａの下側の第２支持体７Ｂが第４支持片８４の高さに達した段階で昇降台６５の下降を停止させる。第１支持体７Ａと上側の第２支持体７Ｂとの間には取り出し空間Ｄ２が形成される（図９参照）。上記と同様に、取り出し空間Ｄ２から不活性ガスが収容容器５外に漏れ出すが、噴出口７３から噴出された第１流量の不活性ガスにより、取り出し空間Ｄ２からの不活性ガスの漏れ出しを抑制し、又はガス充填可能部５ｇに不活性ガスを充填する。

次に、制御部５０は、第４支持片８４を回転させて第２爪部８４ｂを突出させる。その結果、第１支持体７Ａが第２爪部８４ｂによって支持された状態となる。次に、制御部５０は、昇降台６５を下降させる。その結果、下側の第２支持体７Ｂは、第１支持体７Ａから離れて下降する。第１支持体７Ａと下側の第２支持体７Ｂとの間には第２空間Ｄ４が形成される（図９参照）。上記と同様に、第２空間Ｄ４から不活性ガスが収容容器５外に漏れ出すが、噴出口７３から噴出された第１流量の不活性ガスにより、第２空間Ｄ４からの不活性ガスの漏れ出しを抑制し、又はガス充填可能部５ｇに不活性ガスを充填する。

上記した取り出し空間Ｄ１、Ｄ２では、第１支持体７ＡのウェハＷが露出している。また、第１支持体７Ａのアーム１３ａによってウェハＷが持ち上げられており、ウェハ搬送装置２０のロボットアームをウェハＷの下側に差し込むことが可能な空間を確保している。また、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２の上下方向の寸法は、ウェハ搬送装置２０のロボットアームがウェハＷを掬い取ることができる寸法に設定されている。また、第２爪部８２ｂ、８４ｂは、それぞれ第１支持体７Ａの高さを位置決めしており、ウェハ搬送装置２０のロボットアームが正確にウェハＷを取り出すことができるようにしている。

上記のように取り出し空間Ｄ１、Ｄ２が形成された後、ウェハ搬送装置２０のロボットアームにより第１支持体７ＡのウェハＷが取り出される。制御部５０は、ウェハＷを取り出した後、昇降台６５を上昇させつつ順次第１支持片８１等を中立状態にさせることで、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４が閉じられ、ガス充填可能部５ｇが密封された元の状態に戻る。なお、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４が閉じられたタイミングで、制御部５０は、噴出口７３から噴出させる不活性ガスの流量を第１隆昌から第２流量に切り替える。なお、上記では第１支持体７ＡのウェハＷの取り出しについて説明しているが、第２支持体７ＢからウェハＷを取り出す場合も同様である。また、ウェハ搬送装置２０のロボットアームから空の第１支持体７Ａ又は第２支持体７ＢにウェハＷを搬入する場合も上記と同様に取り出し空間Ｄ１、Ｄ２及び第２空間Ｄ３、Ｄ４を形成することにより行うことができる。

上記した実施形態では、支持体７同士の間に取り出し空間を形成する場合について説明しているが、この形態に限定されない。収容容器５の蓋部５ｂと支持体７との間で取り出し空間が形成されてもよい。図１２は、収容容器５に取り出し空間としての第３空間Ｄ５が形成された状態の一例を示す図である。制御部５０は、蓋部５ｂの下側の第１支持体７Ａの高さが第１支持片８１に達するまで昇降台６５を上昇（下降）させ、昇降台６５を停止させた後、第１支持片８１を回転させて第１爪部８１ａを突出させてから、再度昇降台６５を下降させる。

その結果、第１支持体７Ａは、蓋部５ｂから離れて下降する。図１２に示すように、蓋部５ｂと第１支持体７Ａとの間には第３空間Ｄ５が形成される。このとき、制御部５０は、流量調整部を制御して不活性ガスを第１流量で噴出口７３から噴出させる。第３空間Ｄ５から不活性ガスが収容容器５外に漏れ出すが、噴出口７３から噴出された第１流量の不活性ガスにより、第３空間Ｄ５からの不活性ガスの漏れ出しを抑制し、又はガス充填可能部５ｇに不活性ガスを充填する。なお、上記と同様に第１支持体７Ａの下方に第２空間Ｄ６を形成する点は、上記と同様のため説明を省略する。

このように、本実施形態に係る物品収容装置３０によれば、開閉装置６０により収容容器５が開口される際に取り出し空間Ｄ１、Ｄ２に向けて不活性ガスが供給されるので、収容容器５内の不活性ガスが取り出し空間Ｄ１、Ｄ２から流出するのが抑制される。又は、取り出し空間Ｄ１、Ｄ２を介して、不活性ガスが入れられているガス充填可能部５ｇに不活性ガスを補填することができる。その結果、収容容器５内のウェハＷが外気に触れにくくなり、ウェハＷが劣化することを防止できる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術的範囲は、上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。また、上述した実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることは当業者において明らかである。また、そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。また、上述した実施形態等で説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上述した実施形態等で説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、本実施形態において示した各手順の実行順序は、前の手順の結果を後の手順で用いない限り、任意の順序で実現可能である。また、上述した実施形態における動作に関して、便宜上「まず」、「次に」、「続いて」等を用いて説明したとしても、この順序で実施することが必須ではない。

また、上記した実施形態では、不活性ガスの噴出口７３が配管７２において所定高さに配置された構成を例に挙げて説明したが、この構成に限定されない。例えば、噴出口７３は、配管７２の全長にわたって一定間隔で配置されてもよい。

また、上記した実施形態では、第１支持片８１等が上下方向に移動しない構成を例に挙げて説明したが、この構成に限定されない。例えば、第１支持片８１等を上下方向に移動させる機構を備えてもよい。この場合、開閉装置６０は、収容容器５を昇降させる昇降装置６２を含まずに構成することができる。ただし、物品収容装置３０は、第１支持片８１等を上下方向に移動させる機構と、昇降装置６２との双方を備える構成であってもよい。

また、上記した実施形態では、第１支持片８１等が回転することにより第１爪部８１ａ等と第２爪部８１ｂ等とを選択的に支持体７に対して進退させる構成を例挙げて説明しているが、この構成に限定されない。例えば、第１爪部８１ａ等又は第２爪部８１ｂ等が別体で形成され、それぞれがスライドすることで支持体７に対して進退する構成が適用されてもよい。

Ｄ１、Ｄ２・・・取り出し空間
Ｄ３、Ｄ４、Ｄ６・・・第２空間
Ｄ５・・・第３空間
Ｗ・・・ウェハ
５・・・収容容器
７・・・支持体
３０・・・物品収容装置
６０・・・開閉装置
６２・・・昇降装置
６５・・・昇降台
６８・・・ノズル
７０・・・ガス噴出装置
７１・・・ガス供給部
７２・・・配管
７３・・・噴出口
７４・・・流量調整部
８１ａ、８２ａ、８３ａ、８４ａ・・・第１爪部
８１ｂ、８２ｂ、８３ｂ、８４ｂ・・・第２爪部
１００・・・ウェハ貯蔵システム

Claims (8)

1. 板状の物品を載せて支持可能な支持体を複数有し、これら前記支持体を上下方向に重ねることにより、内部に上下の前記支持体間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるガス充填可能部を構成する収容容器と、
   前記収容容器を構成する重ねられた複数の前記支持体のうちの１つの前記支持体と、その上側の前記支持体とを上下方向に離し、前記１つの支持体に支持された物品を取り出すための取り出し空間を形成する開閉装置と、
   前記取り出し空間に向けて不活性ガスを噴出するガス噴出装置と、
   前記収容容器を昇降させる昇降装置と、を備え、
   前記ガス噴出装置は、不活性ガスが入れられていた前記ガス充填可能部から前記開閉装置により形成された前記取り出し空間を介して前記収容容器外に漏れ出ることを抑制する、又は、前記取り出し空間を介して、不活性ガスが入れられている前記ガス充填可能部に不活性ガスを補填し、
   前記開閉装置は、前記昇降装置により昇降される前記収容容器に対して所定高さで前記取り出し空間を形成させ、
   前記ガス噴出装置は、前記所定高さに対応した不活性ガスの噴出口を備える、
   物品収容装置。
2. 板状の物品を載せて支持可能な支持体を複数有し、これら前記支持体を上下方向に重ねることにより、内部に上下の前記支持体間に連なり、不活性ガスを充填可能な閉じた空間となるガス充填可能部を構成する収容容器と、
   前記収容容器を構成する重ねられた複数の前記支持体のうちの１つの前記支持体と、その上側の前記支持体とを上下方向に離し、前記１つの支持体に支持された物品を取り出すための取り出し空間を形成する開閉装置と、
   前記取り出し空間に向けて不活性ガスを噴出するガス噴出装置と、を備え、
   前記ガス噴出装置は、不活性ガスが入れられていた前記ガス充填可能部から前記開閉装置により形成された前記取り出し空間を介して前記収容容器外に漏れ出ることを抑制する、又は、前記取り出し空間を介して、不活性ガスが入れられている前記ガス充填可能部に不活性ガスを補填し、
   前記ガス噴出装置は、前記収容容器を構成する重ねられた複数の前記支持体のうちの最上部の前記支持体と、その上側の蓋体とを上下方向に離して形成された第３空間に向けて不活性ガスを噴出する、物品収容装置。
3. 前記開閉装置は、前記複数の支持体の間に対して進退可能な爪部と、前記収容容器を昇降させる昇降装置とを備え、
   前記昇降装置は、前記爪部が進出して前記上側の支持体を支持した状態で前記１つの支持体を下降させることにより、前記１つの支持体と、前記爪部に支持された前記上側の支持体とを離して、前記取り出し空間を形成させる、請求項２に記載の物品収容装置。
4. 前記噴出口は、前記取り出し空間の上下寸法に対応して上下方向に複数配設される、請求項１に記載の物品収容装置。
5. 前記開閉装置は、前記取り出し空間とは別に前記１つの支持体と、その下側の前記支持体とを上下方向に離した第２空間を形成させ、
   前記噴出口は、前記第２空間にも対応して設けられる、請求項１又は請求項４に記載の物品収容装置。
6. 前記ガス噴出装置は、前記取り出し空間が形成されているときに第１流量で不活性ガスを噴出させ、前記取り出し空間が形成されていないときに前記第１流量よりも小さい第２流量で不活性ガスを噴出させる流量調整部を有する、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の物品収容装置。
7. 前記ガス噴出装置は、前記取り出し空間が形成されているときに第１流量で不活性ガスを噴出させ、前記取り出し空間が形成されていないときに前記第１流量よりも小さい第２流量で不活性ガスを噴出させる流量調整部を有し、
   前記流量調整部は、前記昇降装置により前記収容容器を昇降させる際にも前記第１流量で不活性ガスを噴出させる、請求項１又は請求項３に記載の物品収容装置。
8. 前記昇降装置は、前記収容容器を載せて昇降する昇降台を備え、
   前記昇降台は、前記昇降台に載置されている前記収容容器に、この収容容器の底部から不活性ガスを供給するノズルを有する、請求項１又は請求項３に記載の物品収容装置。

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