JP2009510779A5

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Publication number: JP2009510779A5
Application number: JP2008533451A
Authority: JP
Filing date: 2006-09-21
Publication date: 2009-08-27
Anticipated expiration: 2026-09-21

Claims

（ａ）０．０１重量％〜２０重量％のα−アルミナ粒子；ここで、当該α−アルミナ粒子は、２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして当該α−アルミナ粒子の８０％は、５００ｎｍ以下の直径を有する、
（ｂ）有機酸；
（ｃ）腐食抑制剤；及び
（ｄ）水：
を含む、表面のところに銅含有膜を有する基板を研磨するための化学的機械的研磨組成物。
前記腐食抑制剤が、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、及びそれらの混合物から成る群から選択される、請求項１に記載の研磨組成物。
（ａ）０．０１重量％〜２０重量％のα−アルミナ粒子；
（ｂ）有機酸；
（ｃ）トリアゾール及びベンゾトリアゾールの２成分の腐食抑制剤；ここで、トリアゾールの、ベンゾトリアゾールに対する重量％比が、０．１〜４．８である、及び
（ｄ）水：
を含む、表面のところに銅含有膜を有する基板を研磨するための化学的機械的研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の８０％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項３に記載の研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９０％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項１又は４に記載の研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が１００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９５％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項５に記載の研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が１００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９０％が２００ｎｍ以下の直径を有する、請求項６に記載の研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が、０．１重量％〜５重量％の量で存在する、請求項１又は３に記載の研磨組成物。
前記α−アルミナ粒子が、０．３重量％〜１重量％の量で存在する、請求項８に記載の研磨組成物。
前記研磨組成物が３〜１０のｐＨを有する、請求項１又は３に記載の研磨組成物。
前記有機酸が、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、グリシン、アスパラギン酸、酒石酸、グルコン酸、イミノ二酢酸及びフマル酸から成る群から選択される、請求項１又は３に記載の研磨組成物。
前記有機酸が酒石酸である、請求項１１に記載の研磨組成物。
臭素酸塩、亜臭素酸塩、塩素酸塩、亜塩素酸塩、過酸化水素、次亜塩素酸塩、ヨウ素酸塩、モノパーオキシ硫酸塩、モノパーオキシ亜硫酸塩、モノパーオキシリン酸塩、モノパーオキシ次リン酸塩、モノパーオキシピロリン酸塩、オルガノ−ハロ−オキシ化合物、過ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、パーオキシ酢酸、及びそれらの混合物から成る群から選択される酸化剤をさらに含む、請求項１又は３に記載の研磨組成物。
トリアゾールの、ベンゾトリアゾールに対する重量％比が、０．１〜４．４である、請求項３に記載の研磨組成物。
次の各ステップを含む、表面のところに銅含有膜を有する基板を化学的機械的研磨する方法；
（ｉ）基板を、研磨パッド及び下記を含む化学的機械的研磨組成物と接触させるステップ；
（ａ）０．０１重量％〜２０重量％のα−アルミナ粒子；ここで、前記α−アルミナ粒子は、２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の８０％は、５００ｎｍ以下の直径を有する、
（ｂ）有機酸；
（ｃ）腐食抑制剤；
（ｄ）酸化剤；及び
（ｅ）水；
（ｉｉ）前記研磨パッドを前記基板に対して、それらの間の化学的機械的研磨組成物と共に動かすステップ：そして
（ｉｉｉ）前記基板を研磨するために、前記基板の少なくとも一部を研磨するステップ。
前記腐食抑制剤が、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、及びそれらの混合物から成る群から選択される、請求項１５に記載の方法。
次の各ステップを含む、表面のところに銅含有膜を有する基板を化学的機械的研磨する方法；
（ｉ）基板を、研磨パッド及び下記の化学的機械的研磨組成物と接触させるステップ；
（ａ）０．０１重量％〜２０重量％のα−アルミナ粒子；
（ｂ）有機酸；
（ｃ）トリアゾール及びベンゾトリアゾールの２成分の腐食抑制剤；ここで、トリアゾールの、ベンゾトリアゾールに対する重量％比が、０．１〜４．８である、
（ｄ）酸化剤；及び
（ｅ）水；
（ｉｉ）前記研磨パッドを前記基板に対して、それらの間の化学的機械的研磨組成物と共に動かすステップ：そして
（ｉｉｉ）前記基板を研磨するために、前記基板の少なくとも一部を研磨するステップ。
前記α−アルミナ粒子が２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の８０％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項１７に記載の方法。
前記α−アルミナ粒子が２００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９０％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項１５又は１７に記載の方法。
前記α−アルミナ粒子が１００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９５％が５００ｎｍ以下の直径を有する、請求項１９に記載の方法。
前記α−アルミナ粒子が１００ｎｍ以下の平均直径を有し、そして前記α−アルミナ粒子の９０％が２００ｎｍ以下の直径を有する、請求項２０に記載の方法。
前記研磨パッドを、３ｋＰａ〜２１ｋＰａのダウンフォース圧力を用いて、前記基板に対して動かす、請求項１５又は１７に記載の方法。
前記α−アルミナ粒子が、０．１重量％〜５重量％の量で存在する、請求項１５又は１７に記載の方法。
前記α−アルミナ粒子が、０．３重量％〜１重量％の量で存在する、請求項２３に記載の方法。
前記研磨組成物が、３〜１０のｐＨを有する、請求項１５又は１７に記載の方法。
前記有機酸が、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、グリシン、アスパラギン酸、酒石酸、グルコン酸、イミノ二酢酸及びフマル酸から成る群から選択される、請求項１５又は１７に記載の方法。
前記有機酸が酒石酸である、請求項２６に記載の方法。
前記酸化剤が、臭素酸塩、亜臭素酸塩、塩素酸塩、亜塩素酸塩、過酸化水素、次亜塩素酸塩、ヨウ素酸塩、モノパーオキシ硫酸塩、モノパーオキシ亜硫酸塩、モノパーオキシリン酸塩、モノパーオキシ次リン酸塩、モノパーオキシピロリン酸塩、オルガノ−ハロ−オキシ化合物、過ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、パーオキシ酢酸、及びそれらの混合物から成る群から選択される、請求項１５又は１７に記載の方法。
トリアゾールの、ベンゾトリアゾールに対する重量％比が、０．１〜４．４である、請求項１７に記載の方法。