JP2009509349A - 取り外し可能な縁部延長要素を有するマイクロ電子基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 マイクロ電子基板の加工処理中に使用可能な物品としてマイクロ電子基板を含む物品が提供される。こうした物品は、前面と、前面とは反対側の後面と、前面と後面の境界における周辺縁部とを有する。前面が物品の主要な面である。前面と、後面と、前面と後面の間を延びる内縁部とを有する取り外し可能な環状縁部延長要素は、マイクロ電子基板の周辺縁部に接合される内縁部を有する。このようにして、縁部延長要素の前面とマイクロ電子基板の前面とを含む連続面が形成され、この連続面は、周辺縁部が内縁部に接合される場所において実質的に同一平面で平坦となる。
【選択図】 図1
Description
(式1)
W=kiλ/NA
式中、kiは分解能係数であり、λは露光放射の波長であり、NAは界面媒体の開口数であり、露光用放射はその界面を通してプリント中の機能部に伝達される。
この装置は、マイクロ電子基板の周辺縁部を縁部延長要素の内縁部に接合する取り外し可能な層を含むことが好ましい。この取り外し可能な層は、少なくとも実質的に水に不溶であり、水以外の溶媒に少なくとも実質的に可溶であることが好ましい。
マイクロ電子基板の実質的に全ての後面は、露出することが好ましい。
金型の空洞に隣接する、内面とは反対側の金型の少なくとも後部は、紫外光を少なくとも部分的に透過させるように適合させることが好ましく、ポリマーを硬化させるステップは、ポリマーをキャビティ内で硬化させるために、金型の後部を通して紫外光の少なくとも一部を透過させるステップを含むことが好ましい。
紫外光を透過させるステップの間、マイクロ電子基板は、紫外光がマイクロ電子基板の前面に到達するのを少なくとも実質的に妨げることが好ましい。
取り外し可能な層は、少なくとも実質的に水に不溶であることが好ましい。マイクロ電子基板は、半導体ウェハを含むことが好ましい。
裸のウェハを研磨面と接触した状態で保持する代りに、縁部延長要素が貼付された延長ウェハを研磨することによって、半導体ウェハの周辺縁部において改善された研磨の結果を得ることができる。
101:光学的投影システム
102:固定ベース
104:ステージ
106、200、400、720:延長ウェハ
108、206、510、610、700:縁部延長要素
110、122、124:チャック
111:浸漬液
114、214、706:ウェハの周辺縁部
116:クランプ
120、220:縁部延長要素の前面
126:リム
128:縁部延長要素の外縁部
130、210、712:半導体ウェハの前面
202、710:半導体ウェハ(マイクロ電子基板)
205:取り外し可能な層
212、722:延長ウェハの後面(半導体ウェハの後面)
216:縁部延長要素の内縁部
222、422、614:縁部延長要素の後面
250、410、550:金型の前部要素
300:空洞
310:金型
320、420:金型の前部要素の内面
350:金型の後部要素
430:硬化ポリマー
435:非硬化ポリマー
440:UV光照射
509:ダム
512:環状トレンチ
515:高さ
609:可撓性シート
612:可撓性シートの縁部
616:縁部延長要素の側面
Claims (24)
- 前面と、前記前面とは反対側の後面と、前記前面と前記後面の境界における周辺縁部とを有し、前記前面が主要な面である、マイクロ電子基板と、
前面と、後面と、前記前面と前記後面の間を延びる内縁部とを有する取り外し可能な環状の縁部延長要素であって、前記内縁部は、前記マイクロ電子基板の前記周辺縁部に接合して前記縁部延長要素の前記前面と前記マイクロ電子基板の前記前面とを含む連続面を形成し、前記連続面は、前記周辺縁部が前記内縁部に接合する場所において実質的に同一平面で平坦となる、縁部延長要素と
を備える装置。 - 前記マイクロ電子基板の前記周辺縁部を前記縁部延長要素の前記内縁部に接合する取り外し可能な層をさらに含む、請求項1に記載の装置。
- 前記取り外し可能な層は、少なくとも実質的に水に不溶であり、水以外の溶媒に少なくとも実質的に可溶である、請求項2に記載の装置。
- 前記マイクロ電子基板は半導体ウェハを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、及び、ポリビニルアルコールとメラミンとの組合せからなる群から選択された本質的に少なくとも1つの材料からなる、請求項1に記載の装置。
- 前記縁部延長要素はポリマーを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記ポリマーは熱硬化ポリマーである、請求項6に記載の装置。
- 前記ポリマーは光により硬化可能である、請求項6に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、0.25cmと2.5cmの間の範囲の幅を有する、請求項6に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、前記縁部延長要素の前記前面と前記縁部延長要素の前記後面との間の厚さを有し、前記縁部延長要素の前記厚さは、前記マイクロ電子基板の前記前面と前記後面の間の前記マイクロ電子基板の厚さよりも大きい、請求項1に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、前記縁部延長要素の前記前面と前記縁部延長要素の前記後面との間の厚さを有し、前記縁部延長要素の前記厚さは、前記マイクロ電子基板の前記前面と前記マイクロ電子基板の前記後面との間の厚さと実質的に同じである、請求項1に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、前記縁部延長要素の前記前面から上向きに延びるダムを含み、前記ダムは前記ポリマーを含む、請求項6に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は、前記縁部延長要素の前記前面よりも上の高さまで上向きに延びる可撓性シートを含み、前記可撓性シートは、液体が前記物品の前記連続面から流出するのを防止するように適合されている、請求項6に記載の装置。
- 前記縁部延長要素は前記マイクロ電子基板の前記周辺縁部に直接接触し、前記縁部延長要素は本質的に1つ又は複数の材料からなり、前記1つ又は複数の材料は、少なくとも実質的に水に不溶であり、水以外の溶媒に少なくとも実質的に可溶である、請求項1に記載の装置。
- 前記マイクロ電子基板の実質的に全ての前記後面は露出される、請求項1に記載の装置。
- マイクロ電子基板の前面を金型の実質的に平面の内面に配置して前記前面を前記内面に平らに接触させるステップであって、前記マイクロ電子基板は、前記前面とは反対側の後面と、前記前面と前記後面の間を延びる周辺縁部とを有する、ステップと、
前記金型内の空洞の中にポリマーを堆積させるステップであって、前記空洞は前記内面の少なくとも片側に隣接する、ステップと、
前記ポリマーを硬化させて、前記マイクロ電子基板の前記周辺縁部から横方向に延びる前面を有する取り外し可能な環状の縁部延長要素を形成するステップであって、前記マイクロ電子基板の前記前面と前記縁部延長要素の前記前面とは連続した実質的に同一平面の平坦な面を形成する、ステップと
を含む方法。 - 前記空洞に隣接する、前記内面とは反対側の、前記金型の少なくとも後部は、紫外光を少なくとも部分的に透過するように適合され、前記ポリマーを前記硬化させるステップは、前記空洞内の前記ポリマーを硬化させるために、前記金型の前記後部を通して前記紫外光の少なくとも一部分を透過させるステップを含む、請求項16に記載の方法。
- 前記紫外光を前記透過させるステップの間、前記マイクロ電子基板は、前記紫外光が前記マイクロ電子基板の前記前面に到達するのを少なくとも実質的に妨げる、請求項17に記載の方法。
- 取り外し可能な縁部延長要素を形成するために前記ポリマーを前記硬化させるステップは、前駆体層を前記マイクロ電子基板の前記周辺縁部に接触するように堆積させるステップと、前記ポリマーを前記前駆体層の縁部に接触するように塗布するステップと、前記ポリマーを硬化させるときに前記前駆体層を同時に硬化させて取り外し可能な層を形成するステップとを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記取り外し可能な層は少なくとも実質的に水に不溶である、請求項19に記載の方法。
- 前記マイクロ電子基板は半導体ウェハを含む、請求項16に記載の方法。
- 前記縁部延長層は、前記縁部延長要素の前記前面と前記縁部延長要素の前記後面との間の厚さを有するように形成され、前記縁部延長要素の前記厚さは、前記マイクロ電子基板の前記前面と前記後面の間の前記マイクロ電子基板の厚さよりも大きい、請求項16に記載の方法。
- 前記金型の前記内面は、前記前面を画定する平面を実質的に横切る垂直方向に延びる環状トレンチを含み、前記ポリマーを前記堆積させるステップは、前記トレンチを前記ポリマーで少なくとも部分的に充填するステップを含み、前記ポリマーを前記硬化させるステップは、前記縁部延長要素の前記前面から突き出るダムを生ずる、請求項16に記載の方法。
- 前記縁部延長要素の前記前面よりも上の高さまで上向きに延びる可撓性シートを接合するステップをさらに含み、前記可撓性シートは、液体が前記縁部延長要素の前記前面から流出するのを防止するように適合されている、請求項16に記載の方法。
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