JP2000254933A - 半導体ウェハーの樹脂被覆方法及び金型 - Google Patents

半導体ウェハーの樹脂被覆方法及び金型

Info

Publication number
JP2000254933A
JP2000254933A JP11064086A JP6408699A JP2000254933A JP 2000254933 A JP2000254933 A JP 2000254933A JP 11064086 A JP11064086 A JP 11064086A JP 6408699 A JP6408699 A JP 6408699A JP 2000254933 A JP2000254933 A JP 2000254933A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
resin
semiconductor wafer
bump
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11064086A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4253393B2 (ja
Inventor
Keiji Maeda
啓司 前田
Shigeru Miyagawa
茂 宮川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP06408699A priority Critical patent/JP4253393B2/ja
Priority to SG200001259A priority patent/SG92685A1/en
Priority to EP00301890A priority patent/EP1035572A3/en
Priority to KR1020000011433A priority patent/KR100357362B1/ko
Priority to TW089104272A priority patent/TW460989B/zh
Priority to MYPI20000901A priority patent/MY120473A/en
Priority to US09/523,420 priority patent/US6346433B1/en
Publication of JP2000254933A publication Critical patent/JP2000254933A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4253393B2 publication Critical patent/JP4253393B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 樹脂被覆用金型(上下両型1・2)を用いて
半導体ウェーハ4のバンプ3の装着面を樹脂11で被覆
して樹脂被覆ウェーハ12を形成する場合に、前記樹脂
被覆ウェーハ12の生産性を向上させる。 【解決手段】 まず、上型面にバンプ露出用フィルム7
を張設して下型キャビティ5内の所定位置に前記半導体
ウェーハ4をそのバンプ装着面を上面にして供給セット
すると共に、前記バンプ装着面上に樹脂材料6を所要量
供給し、更に、前記両型1・2を型締めして前記キャビ
ティ5内に供給された樹脂材料を加熱溶融化し、次に、
前記フィルム7を押圧部材8で押圧することによって、
前記フィルム7を前記バンプ3先端部に当接し、且つ、
前記キャビティ5内の樹脂を前記フィルム7を介して加
圧することにより、前記キャビティ5内で前記半導体ウ
ェーハ4のバンプ装着面を樹脂で被覆して樹脂被覆ウェ
ーハ12を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、半田バ
ンプ(突起電極)等が装着された半導体ウェーハのバン
プ装着面を樹脂で被覆する半導体ウェハーの樹脂被覆方
法とその樹脂被覆用金型の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば、チップサイズパッケ
ージ(CPS)等における半導体チップのバンプ装着面
を樹脂で被覆することによって柔らかくて損傷し易いバ
ンプを保護・補強することが行われているが、このチッ
プに対する樹脂被覆は半導体ウェーハの段階(ウェーハ
レベル)で行われている。例えば、図5(1)・図5
(2)に示す樹脂被覆用金型を用いて、まず、前記した
半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂被覆して樹脂被覆
ウェーハを形成し、次に、前記樹脂被覆ウェーハを切断
分離して多数の樹脂被覆チップを形成することが行われ
ている。
【0003】即ち、図5(1)・図5(2)に示す金型
には、上型81と、下型82とが対向配置して設けられ
ると共に、前記上型81の型面にはバンプ露出用のフィ
ルム83が張設されるように構成され、前記下型82に
は、前記バンプ88が装着された半導体ウェーハ84を
供給セットする樹脂被覆用のキャビティ85と、前記キ
ャビティ85を含む嵌合孔86と、前記嵌合孔86内を
上下摺動する前記キャビティ85の底面を含む底面部材
87とが設けられて構成されている。従って、図5
(1)に示すように、まず、前記上型81の型面に前記
フィルム83を張設すると共に、前記キャビティ85内
に前記半導体ウェーハ84をそのバンプ装着面を上面側
にした状態で供給セットし且つ前記バンプ装着面上に所
要量の樹脂材料89を供給し、前記上下両型81・82
を型締めすると共に、前記キャビティ85内の樹脂材料
89を加熱溶融化する。次に、図5(2)に示すよう
に、前記キャビティにおいて、前記底面部材87に前記
半導体ウェーハ84を載置した状態で前記底面部材87
を上動することにより、前記フィルム83に前記バンプ
88の先端部を当接させる。このとき、少なくとも前記
ウェーハ84のバンプ装着面が樹脂で被覆されることと
になるので、前記キャビティ85内で形成される樹脂被
覆ウェーハ90の樹脂被覆面(バンプ装着面)におい
て、前記バンプ88におけるフィルム83と当接した部
分(バンプ先端部)が樹脂表面に露出することになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た嵌合孔と底面部材との隙間(摺動部)に溶融樹脂材料
が浸入して硬化することにより、前記隙間に樹脂ばり
(硬化物)が発生して前記底面部材に摺動不良が発生し
易い。従って、前記隙間に発生する樹脂ばりを頻繁に除
去しなければならず、前記樹脂被覆ウェーハの生産性が
低下すると云う弊害がある。また、前記摺動不良の発生
によって、前記底面部材で前記キャビティ内の樹脂に充
分な樹脂圧を加えることができなくなるので、前記フィ
ルムに前記バンプを当接することができず、前記バンプ
が樹脂内に完全に埋没して前記バンプが外部接続用とし
ての機能を果たさなくなる等、高品質性・高信頼性の樹
脂被覆ウェーハ(樹脂被覆チップ)を得ることができな
いと云う弊害がある。
【0005】そこで、本発明は、樹脂被覆ウェーハの生
産性を向上させることができる半導体ウェハーの樹脂被
覆方法とその樹脂被覆用金型を提供することを目的とす
るものである。また、本発明は、高品質性・高信頼性の
樹脂被覆ウェーハを得ることができる半導体ウェハーの
樹脂被覆方法とその樹脂被覆用金型を提供することを目
的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記した技術的課題を解
決するための本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆方
法は、バンプを装着した半導体ウェーハのバンプ装着面
を樹脂で被覆する樹脂被覆用金型の一方の型面に設けた
樹脂被覆用金型キャビティの底面の所定位置に前記半導
体ウェーハを、前記バンプ装着面を前記金型キャビティ
底面とは反対側にした状態で、載置供給する半導体ウェ
ーハの供給工程と、前記金型キャビティ内に樹脂材料を
所要量供給する樹脂材料の供給工程と、前記金型の他方
の型面にバンプ露出用フィルムを張設するフィルムの張
設工程と、前記金型を型締めする金型の型締工程と、前
記金型キャビティ内で前記樹脂材料を加熱溶融化する樹
脂材料の加熱溶融化工程と、前記金型の他方の型面に設
けた押圧部材で前記フィルムを前記金型キャビティ方向
に押圧する押圧部材による押圧工程と、前記押圧部材に
よる押圧工程時に、前記金型キャビティ内で前記バンプ
先端部に前記フィルムを当接するフィルムの当接工程
と、前記押圧部材による押圧工程時に、前記フィルムを
介して前記金型キャビティ内の樹脂を加圧することによ
って前記した半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被
覆する半導体ウェーハの樹脂被覆成形工程とを備えたこ
とを特徴とする。
【0007】また、前記した技術的課題を解決するため
の本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆方法は、前記
した半導体ウェーハの樹脂被覆成形工程時に、少なくと
も金型キャビティ内を所定の真空状態にして前記半導体
ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被覆することを特徴と
する。
【0008】また、前記した技術的課題を解決するため
の本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆用金型は、バ
ンプを装着した半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で
被覆する半導体ウェハーの樹脂被覆用金型であって、固
定型と、該固定型に対向配置した可動型と、前記両型の
一方の型面に設けた樹脂被覆用金型キャビティと、前記
金型キャビティ内の樹脂材料を加熱溶融化する加熱手段
と、前記両型の他方の型面に張設したバンプ露出用フィ
ルムと、前記張設フィルムを前記キャビティ方向に押圧
する前記他方の型面に設けた押圧部材とを設けて構成し
たことを特徴とする。
【0009】また、前記した技術的課題を解決するため
の本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆用金型は、前
記した金型キャビティ底面に載置した半導体ウェーハの
バンプ装着面を水平面に調整する水平調整手段を設けた
ことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】即ち、半導体ウェーハの樹脂被覆
用金型(上下両型)を用いて、まず、上型面にバンプ露
出用フィルムを張設すると共に、下型キャビティ内の所
定位置に前記半導体ウェーハをそのバンプ装着面を上面
にして供給セットし、前記バンプ装着面上に樹脂材料を
所要量供給する。次に、前記両型を型締めすると共に、
前記キャビティ内に供給された樹脂材料を加熱溶融化す
る。また、次に、前記押圧部材で前記フィルムを押圧す
ることによって、前記フィルムを前記バンプの先端部に
当接すると共に、前記キャビティ内の樹脂を前記フィル
ムを介して所定の樹脂圧で加圧する。即ち、前記フィル
ムを前記バンプ先端部に当接することによって少なくと
も前記バンプ先端部を樹脂と接触しないように構成する
ことができる。従って、前記ウェーハに装着されたバン
プの先端部を樹脂表面に露出した状態で樹脂被覆ウェー
ハを形成することができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明を実施例図に基づいて詳細に説
明する。図1(1)は、バンプが装着された半導体ウェ
ーハのバンプ装着面を樹脂で被覆する樹脂被覆方法に用
いられる樹脂被覆金型であって、金型の型開状態を示し
ている。図1(2)は、図1(1)に示す金型の型締状
態を示している。図2(1)は、図1(2)に示す金型
において、金型キャビティ内のバンプ先端部にバンプ露
出用フィルムを当接した状態を示している。図2(2)
は、図2(1)に示す金型を型開きして樹脂被覆ウェー
ハを離型した状態を示している。図3(1)は、図1
(2)の金型要部を拡大した図である。図3(2)は、
図2(1)の金型要部を拡大した図である。図4(1)
及び図4(2)は、樹脂被覆ウェーハである。図4
(3)は、樹脂被覆チップである。
【0012】即ち、図例に示す金型は、固定上型1と、
該固定上型1に対向配置した可動下型2とから構成され
ている。また、前記下型2の型面にはバンプ突起電極3
が装着された半導体ウェーハ4を前記バンプ装着面を上
面(型面側)にした状態で供給セットする樹脂被覆用キ
ャビティ5が設けられて構成されると共に、前記キャビ
ティ5の底面の所定位置に載置供給されたウェーハ4の
バンプ装着面上に、例えば、粉末状或いは顆粒状の樹脂
材料6を所要量供給することができるように構成されて
いる。また、前記上型1の型面にはバンプ露出用のフィ
ルム7(離型フィルム)が張設されると共に、該上型1
には、前記下型キャビティ5の下型面形状に対応した押
圧面(上型面)を備えた押圧部材8と、前記押圧部材8
を上下動する上下動機構9とが設けられている。従っ
て、前記上下動機構9で前記押圧部材8を下動させるこ
とによって、前記バンプ3の先端部に前記フィルム7に
当接させることができるように構成されると共に、前記
キャビティ5内の樹脂を前記フィルム7を介して所定の
樹脂圧で加圧することができるように構成されている。
また、前記キャビティ5の外周囲(下型面)には、前記
フィルム7を型面に係止して固定する係止部材10(環状
突起)が設けられると共に、前記両型の型締時1・2
に、前記フィルム7を前記両型面間に挟持固定して下型
キャビティ面に張設することができるように構成されて
いる。また、図示はしていないが、前記金型には樹脂成
形温度にまで加熱する加熱手段が設けられて構成される
と共に、前記キャビティ5内に供給された樹脂材料6を
加熱溶融化することができるように構成されている。
【0013】即ち、図1(1)に示すように、まず、前
記上型1の型面に前記フィルム7を張設すると共に、前
記下型キャビティ5内における底面の所定位置に前記半
導体ウェーハ4を前記バンプ3の装着面を上面にした状
態で供給セットし、且つ、前記バンプ装着面上に前記樹
脂材料6を所要量供給する。次に、図1(2)及び図3
(1)に示すように、前記両型1・2を型締めすること
により、前記係止部材10で前記フィルム7を前記両型
面間に係止(挟持)固定して前記下型キャビティ5空間
部(下型面)に張設すると共に、前記キャビティ5内に
供給された樹脂材料6を加熱溶融化する。また、次に、
図2(1)及び図3(2)に示すように、前記上下動機
構9で前記した押圧部材8(の押圧面)を(前記キャビ
ティ5内における下型面の下方位置方向に)下動して前
記フィルム7を前記キャビティ5内に押圧伸張させるこ
とによって、前記フィルム7を前記バンプ3の先端部に
当接すると共に、前記押圧部材8で前記キャビティ5内
の樹脂を前記フィルム7を介して所定の樹脂圧で加圧す
る。このとき、前記フィルム7で少なくとも前記バンプ
3の先端部を樹脂と接触しない状態に構成することがで
きる。また、このとき、前記フィルム7に発生するフィ
ルムのしわを伸張して(伸ばして)除去することができ
ると共に、前記キャビティ5内を前記フィルム7でシー
ルすることによって前記キャビティ5内に樹脂を密封す
ることができる。硬化に必要な所要時間の経過後、図2
(2)に示すように、前記両型1・2を型開きすると共
に、前記両型間に樹脂被覆ウェーハ12を前記フィルム
7に付着した状態で離型することができる。即ち、前記
ウェーハ4に装着されたバンプ3の先端部を樹脂11の
表面に露出した状態で前記樹脂被覆ウェーハ12を形成
することができるので、従来例に示すような弊害をなく
して、樹脂被覆ウェーハの生産性を向上させることがで
きると共に、高品質性・高信頼性の樹脂被覆ウェーハを
得ることができる。
【0014】なお、図4(1)・図4(2)に示す樹脂
被覆ウェーハ12は、図4(2)に示すチップ13毎に
切断分離され、図4(3)に示す樹脂被覆チップ14が
形成されると共に、前記した樹脂被覆チップ14の樹脂
11の表面に露出したバンプ3の先端部を、例えば、基
板等と電気的に接続することができるように構成されて
いる。
【0015】また、前記した実施例において、前記した
押圧部材8にて前記フィルム7を介して樹脂を加圧する
ことによって前記半導体ウェーハ4のバンプ3装着面を
樹脂で被覆する場合、少なくとも前記金型キャビティ5
内を所定の真空状態にして前記半導体ウェーハ4のバン
プ3装着面を樹脂で被覆する構成を採用することができ
る。この場合、前記金型キャビティ5内において、前記
半導体ウェーハ4のバンプ3装着面を被覆する樹脂11
に発生する気泡(ボイド)及び欠損部を効率良く防止す
ることができる。
【0016】また、前記した実施例において、前記半導
体ウェーハ4の厚さに偏りがある場合があり、この場合
には、前記キャビティ5の底面に載置された半導体ウェ
ーハ4のバンプ装着面側が傾斜して水平面ではなく斜面
になることになる。従って、前記キャビティ5底面側
に、前記キャビティ5底面を適宜に傾斜して前記バンプ
装着面を水平面に調整する水平調整手段を設ける構成を
採用することができる。例えば、円柱の一方の円を斜面
(テーパ面)とし且つ他方の円を水平面とした斜面部材
(テーパプレート)を二つ用いる構成を採用することが
できる。即ち、前記したような水平調整手段21(テー
パプレート機構)を、上部斜面部材22と、下部斜面部
材23と、前記両斜面部材22・23を円の中心を回転
軸として各別に回転させる回転機構24とから構成し、
前記した両斜面部材22・23における互いの斜面側を
摺合わせて前記両斜面部材22・23における一方或い
は両方を前記回転機構24で適宜に回転させる構成を採
用することができる〔図1(1)・図1(2)参照〕。
即ち、前記回転機構24で前記各斜面部材22・23を
各別に適宜に回転させることによって前記水平調整手段
21のキャビティ5の底面側を傾斜させ、半導体ウェー
ハ4のバンプ装着面(斜面)を水平面に設定することが
できる。従って、前記ウェーハ4のバンプ3の先端部に
前記フィルム7を効率良く当接することができる。
【0017】なお、前記した水平調整手段21(テーパ
プレート機構)を前記上型1側(前記押圧部材8)に設
ける構成を採用することができる。例えば、前記押圧部
材8(押圧面)に前記水平調整手段(21)を設けて構
成すると共に、前記押圧部材8の下動時に、前記水平調
整手段(21)で前記キャビティ5内のバンプ装着面
(斜面)のバンプ3の先端部の傾斜した状態に対応して
前記押圧面を適宜に傾斜調整させて押圧斜面とし、前記
キャビティ5内の前記傾斜バンプ3先端部に前記フィル
ム7を押圧伸張して当接することができる。従って、こ
の場合において、前記ウェーハ4のバンプ3の先端部に
前記フィルム7を効率良く当接することができる。
【0018】また、前記した実施例においては、金型に
単数個のキャビティを設ける構成を例示したが、金型に
複数個のキャビティを設ける構成を採用してもよい。
【0019】また、前記した実施例では、粉末状或いは
顆粒状樹脂材料を用いる構成を例示したが、例えば、樹
脂タブレット等の種々の形状の樹脂材料を用いることが
できる。また、前記した実施例では、熱硬化性樹脂材料
を用いる構成を例示したが、例えば、熱可塑性樹脂材料
等を採用することができる。
【0020】また、前記実施例において、前記上型面に
設けた吸引孔から強制的に吸引することによって前記フ
ィルム7を前記上型面に固定して張設する構成を採用す
ることができる。このとき、前記上型面に吸着固定した
フィルムにおけるしわを効率良く除去することができ
る。
【0021】本発明は、上述した各実施例に限定される
ものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必
要に応じて、任意に且つ適宜に変更・選択して採用でき
るものである。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、樹脂被覆ウェーハの生
産性を向上させることができる半導体ウェハーの樹脂被
覆方法とその樹脂被覆用金型を提供することができると
云った優れた効果を奏するものである。
【0023】また、本発明によれば、高品質性・高信頼
性の樹脂被覆ウェーハを得ることができる半導体ウェハ
ーの樹脂被覆方法とその樹脂被覆用金型を提供すること
ができると云う優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(1)・図1(2)は本発明に係る半導体
ウェーハの樹脂被覆金型を概略的に示す概略縦断面図で
あって、図1(1)は金型の型開状態を示し、図1
(2)は金型の型締状態を示している。
【図2】図2(1)・図2(2)は本発明に係る半導体
ウェーハの樹脂被覆金型を概略的に示す概略縦断面図で
あって、図2(1)は半導体ウェーハのバンプ先端部に
フィルムを当接した状態を示し、図2(2)は金型を型
開きして樹脂被覆ウェーハを離型した状態を示してい
る。
【図3】図3(1)は図1(2)に示す金型の要部を拡
大して概略的に示す概略拡大縦断面図であり、図3
(2)は図2(1)に示す金型の要部を拡大して概略的
に示す概略拡大縦断面図である。
【図4】図4(1)は樹脂被覆ウェーハを概略的に示す
一部切欠概略側面図であり、図4(2)は図4(1)に
示す樹脂被覆ウェーハの概略底面図であり、図4(3)
は前記樹脂被覆ウェーハを切断分離して形成した樹脂被
覆チップを概略的に示す概略縦断面図である。
【図5】図5(1)・図5(2)は従来の樹脂被覆金型
を概略的に示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
1 固定上型 2 可動下型 3 バンプ 4 半導体ウェーハ 5 キャビティ 6 樹脂材料 7 フィルム 8 押圧部材 9 上下動機構 10 係止部材 11 樹脂 12 樹脂被覆ウェーハ 13 チップ 14 樹脂被覆チップ 21 水平調整手段 22 上部斜面部材 23 下部斜面部材 24 回転機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/56 H01L 21/56 T // B29L 31:34 Fターム(参考) 4F202 CA09 CB01 CB12 CB17 CB20 CK12 CK59 CK67 CL02 CL12 CN01 CP01 CP06 CQ01 4F204 AA36 AC01 AC04 AD03 AD05 AD08 AD21 AD24 AG02 AG03 AH37 AM32 AR12 FA01 FB01 FB12 FB17 FB20 FF01 FG01 FH18 FN08 FN12 FN15 FQ01 FQ15 FQ40 5F061 AA01 BA03 CA21 DA06 DA16 EA01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バンプを装着した半導体ウェーハのバン
    プ装着面を樹脂で被覆する樹脂被覆用金型の一方の型面
    に設けた樹脂被覆用金型キャビティの底面の所定位置に
    前記半導体ウェーハを、前記バンプ装着面を前記金型キ
    ャビティ底面とは反対側にした状態で、載置供給する半
    導体ウェーハの供給工程と、 前記金型キャビティ内に樹脂材料を所要量供給する樹脂
    材料の供給工程と、 前記金型の他方の型面にバンプ露出用フィルムを張設す
    るフィルムの張設工程と、 前記金型を型締めする金型の型締工程と、 前記金型キャビティ内で前記樹脂材料を加熱溶融化する
    樹脂材料の加熱溶融化工程と、 前記金型の他方の型面に設けた押圧部材で前記フィルム
    を前記金型キャビティ方向に押圧する押圧部材による押
    圧工程と、 前記押圧部材による押圧工程時に、前記金型キャビティ
    内で前記バンプ先端部に前記フィルムを当接するフィル
    ムの当接工程と、 前記押圧部材による押圧工程時に、前記フィルムを介し
    て前記金型キャビティ内の樹脂を加圧することによって
    前記した半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被覆す
    る半導体ウェーハの樹脂被覆成形工程とを備えたことを
    特徴とする半導体ウェハーの樹脂被覆方法。
  2. 【請求項2】 半導体ウェーハの樹脂被覆成形工程時
    に、少なくとも金型キャビティ内を所定の真空状態にし
    て前記半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被覆する
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェハーの樹
    脂被覆方法。
  3. 【請求項3】 バンプを装着した半導体ウェーハのバン
    プ装着面を樹脂で被覆する半導体ウェハーの樹脂被覆用
    金型であって、固定型と、該固定型に対向配置した可動
    型と、前記両型の一方の型面に設けた樹脂被覆用金型キ
    ャビティと、前記金型キャビティ内の樹脂材料を加熱溶
    融化する加熱手段と、前記両型の他方の型面に張設した
    バンプ露出用フィルムと、前記張設フィルムを前記キャ
    ビティ方向に押圧する前記他方の型面に設けた押圧部材
    とを設けて構成したことを特徴とする半導体ウェハーの
    樹脂被覆用金型。
  4. 【請求項4】 金型キャビティ底面に載置した半導体ウ
    ェーハのバンプ装着面を水平面に調整する水平調整手段
    を設けたことを特徴とする請求項3に記載の半導体ウェ
    ハーの樹脂被覆用金型。
JP06408699A 1999-03-10 1999-03-10 半導体ウェーハの樹脂被覆方法及び金型 Expired - Fee Related JP4253393B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06408699A JP4253393B2 (ja) 1999-03-10 1999-03-10 半導体ウェーハの樹脂被覆方法及び金型
SG200001259A SG92685A1 (en) 1999-03-10 2000-03-07 Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor
KR1020000011433A KR100357362B1 (ko) 1999-03-10 2000-03-08 반도체 웨이퍼의 수지 피복 방법 및 이에 사용되는 금형
EP00301890A EP1035572A3 (en) 1999-03-10 2000-03-08 Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor
TW089104272A TW460989B (en) 1999-03-10 2000-03-09 Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor
MYPI20000901A MY120473A (en) 1999-03-10 2000-03-09 Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor
US09/523,420 US6346433B1 (en) 1999-03-10 2000-03-10 Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06408699A JP4253393B2 (ja) 1999-03-10 1999-03-10 半導体ウェーハの樹脂被覆方法及び金型

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000254933A true JP2000254933A (ja) 2000-09-19
JP4253393B2 JP4253393B2 (ja) 2009-04-08

Family

ID=13247929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06408699A Expired - Fee Related JP4253393B2 (ja) 1999-03-10 1999-03-10 半導体ウェーハの樹脂被覆方法及び金型

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4253393B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002166449A (ja) * 2000-12-01 2002-06-11 Apic Yamada Corp 樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法
JP2005219297A (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Apic Yamada Corp 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置
JP2009509349A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 取り外し可能な縁部延長要素を有するマイクロ電子基板
JP2015101083A (ja) * 2013-11-28 2015-06-04 Towa株式会社 圧縮成形装置の樹脂材料供給方法及び供給装置
JP2016503241A (ja) * 2013-01-11 2016-02-01 マイクロン テクノロジー, インク. パッケージ貫通インタコネクト付き半導体デバイスアセンブリ並びに関連するシステム、デバイス、及び方法
JP2017108085A (ja) * 2015-12-11 2017-06-15 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
JP6304517B1 (ja) * 2017-02-14 2018-04-04 第一精工株式会社 樹脂封止方法及び樹脂封止装置
CN110271169A (zh) * 2018-03-13 2019-09-24 东和株式会社 树脂成形装置以及树脂成形品的制造方法
JP2020040369A (ja) * 2018-09-13 2020-03-19 日鉄日新製鋼株式会社 加熱圧着用治具及び複合体の製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114206619A (zh) 2019-08-09 2022-03-18 微技术株式会社 网版印刷装置以及网版印刷方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002166449A (ja) * 2000-12-01 2002-06-11 Apic Yamada Corp 樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法
JP2005219297A (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Apic Yamada Corp 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置
JP2009509349A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 取り外し可能な縁部延長要素を有するマイクロ電子基板
US8202460B2 (en) 2005-09-22 2012-06-19 International Business Machines Corporation Microelectronic substrate having removable edge extension element
US9978730B2 (en) 2013-01-11 2018-05-22 Micron Technology, Inc. Method of assembly semiconductor device with through-package interconnect
JP2016503241A (ja) * 2013-01-11 2016-02-01 マイクロン テクノロジー, インク. パッケージ貫通インタコネクト付き半導体デバイスアセンブリ並びに関連するシステム、デバイス、及び方法
US11456286B2 (en) 2013-01-11 2022-09-27 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assembly with through-package interconnect and associated systems, devices, and methods
US10615154B2 (en) 2013-01-11 2020-04-07 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assembly with through-package interconnect and associated systems, devices, and methods
JP2015101083A (ja) * 2013-11-28 2015-06-04 Towa株式会社 圧縮成形装置の樹脂材料供給方法及び供給装置
JP2017108085A (ja) * 2015-12-11 2017-06-15 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
JP2018133396A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 第一精工株式会社 樹脂封止方法及び樹脂封止装置
WO2018150670A1 (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 第一精工株式会社 樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JP6304517B1 (ja) * 2017-02-14 2018-04-04 第一精工株式会社 樹脂封止方法及び樹脂封止装置
CN110271169A (zh) * 2018-03-13 2019-09-24 东和株式会社 树脂成形装置以及树脂成形品的制造方法
JP2020040369A (ja) * 2018-09-13 2020-03-19 日鉄日新製鋼株式会社 加熱圧着用治具及び複合体の製造方法
JP7159730B2 (ja) 2018-09-13 2022-10-25 日本製鉄株式会社 複合体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4253393B2 (ja) 2009-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6977188B2 (en) Resin encapsulation molding method of electronic part and resin encapsulation molding apparatus used therefor
US6346433B1 (en) Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor
JP5382693B2 (ja) 圧縮成形方法
US20060186576A1 (en) Resin sealing method for electronic part and mold used for the method
JP4326786B2 (ja) 樹脂封止装置
TWI667119B (zh) Resin sealing method and resin sealing device
JP3207837B2 (ja) 半導体装置の製造方法および樹脂封止装置
JP4336499B2 (ja) 電子部品の樹脂封止成形方法及び装置
TW201320205A (zh) 用於模塑底膠填充之方法及裝置
JP2004179284A (ja) 樹脂封止方法、半導体装置の製造方法、及び樹脂材料
JP2000254933A (ja) 半導体ウェハーの樹脂被覆方法及び金型
JP2000299334A (ja) 樹脂封止装置
US20010013424A1 (en) Electronic component, method of sealing electronic component with resin, and apparatus therefor
JP4011781B2 (ja) 半導体ウェーハの樹脂被覆方法
JP2001223230A (ja) 電子部品、電子部品の樹脂封止方法、及び樹脂封止装置
JP5419070B2 (ja) 樹脂封止装置
JP2001176902A (ja) 樹脂封止方法
JP4358501B2 (ja) 電子部品の樹脂封止成形方法及び金型
WO2016125571A1 (ja) 樹脂成形金型、樹脂成形方法、および成形品の製造方法
JP7029342B2 (ja) モールド金型、樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法
JP6404734B2 (ja) 樹脂成形方法、樹脂成形金型、および成形品の製造方法
JP2014039065A (ja) 樹脂封止装置
TWI785738B (zh) 樹脂成形裝置及樹脂成形品的製造方法
TWI837581B (zh) 樹脂成型品的製造方法、成型模和樹脂成型裝置
JP4583020B2 (ja) 半導体チップの樹脂封止成形方法および樹脂封止成形用金型

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060222

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081014

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090126

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4253393

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130130

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140130

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees