JP2009501166A - アルキルスルホン酸オニウムの製造方法 - Google Patents

アルキルスルホン酸オニウムの製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、アルキルスルホン酸オニウムの製造方法であって、ハロゲン化オニウムまたはカルボン酸オニウムの、対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、または非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、50〜170℃の温度における反応による、前記方法に関する。

Description

本発明は、アルキルスルホン酸オニウムの製造方法であって、ハロゲン化オニウムまたはカルボン酸オニウムの、対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、または非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、50〜170℃の温度における反応による、前記方法、およびこの方法により製造されたアルキルスルホン酸塩類に関する。
多数のオニウム塩、例えばアルキルスルホン酸類は、イオン性液体である。これらの特性により、イオン性液体は、現代の研究において、有機合成のための伝統的な揮発性有機溶媒に対する有効な代替物である。イオン性液体を新規な反応媒体として用いることは、さらに溶媒排出およびまた触媒の再処理における問題の両方に対する実際的な解決法であり得る。
イオン性液体または液体塩は、有機カチオンおよび一般的に無機アニオンからなるイオン種である。これらは、いかなる中性分子も含まず、通常373Kより低い融点を有する。しかし、融点はまた、すべての適用領域における当該塩の有用性を制限せずに、一層高くてもよい。有機カチオンの例は、特に、テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキルホスホニウム、N−アルキルピリジニウム、1,3−ジアルキルイミダゾリウムまたはトリアルキルスルホニウムである。多数の好適なアニオンの中で、例えば、BF 、PF 、SbF 、NO 、CFSO 、(CFSO、アリールSO 、CFCO 、CHCO またはAlCl を挙げることができる。
アルキルスルホン酸オニウムの製造のための一般的な方法は、有機塩基、例えばアミン、ホスフィン、グアニジンまたは複素環式塩基の、アルカンスルホン酸のアルキルエステルを用いたアルキル化であり、これはまた、P. WasserscheidおよびTom Welton(編)による書物"Ionic Liquids in Synthesis"、WILEY-VCH Verlag, 2003中の刊行から知られている。この方法において、アルキル基を、エステル基から有機塩基に移動させて、対応する塩の生成を伴う。
前述の方法は、アルカンスルホン酸のメチルエステルが一般的に毒性であり、イオン性液体中に不純物として残留し得るという欠点を有する。さらに、対応するエステルへの接近手段が制限され、即ち、この群の物質の少数の代表例のみが、十分な量で入手可能であり、さらにこれらはまた、比較的高価である。
この方法のさらなる欠点は、生成するアルキルスルホン酸オニウムの置換基が常に、用いるアルカンスルホン酸アルキルエステルの対応するアルキル基に一致することである。このように、カチオン中に自由に選択可能なアルキル基を含むアルキルスルホン酸オニウムの製造は、アルキル基が常にエステル基からカチオンに移動するため、制限される。これによりさらに、このタイプのイオン性液体の合成の可能性が制限される。
WO 2003/074494には、硫酸塩およびスルホン酸塩に基づくイオン性液体が記載されているが、対応するスルホン酸塩を製造するための方法が述べられていない。
したがって、本発明の目的は、カチオンおよびアニオン中で自由に選択可能な置換パターンを有するアルキルスルホン酸塩類を生成するアルキルスルホン酸オニウムを製造するための代替の方法を提供することにあった。
この目的は、本発明の方法により達成される。したがって、本発明は、アルキルスルホン酸オニウムの製造方法であって、ハロゲン化オニウムまたはカルボン酸オニウムの、対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、または非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、50〜170℃の温度における反応による、前記方法に関する。驚異的なことに、この反応において、ハロゲン化物またはカルボン酸塩の影響により、ハロゲン化物またはカルボン酸アニオンの交換が起こるのみならず、スルホン酸塩単位を生成するための亜硫酸塩単位の異性化もまた起こることが、見出された。
本発明の方法は、アルキル基が、用いる亜硫酸塩からカチオンに移動せず、従ってカチオン中の置換パターンが、アルカンスルホン酸アニオンの選択には依存しないという利点を有する。さらに、用いる亜硫酸ジアルキルは、硫酸アルキルエステルよりも毒性が低い。本発明の方法において得られる副産物は、ハロゲン化アルキルまたはエステルであり、これら自体を、有用な試薬として用いることができる。ハロゲン化オニウムを用いる際に副産物として生成するハロゲン化アルキルは、さらに、一般的にはガスまたは容易に揮発するの化合物であり、これを、主要なプロセス工学的試行を伴わずに反応混合物から除去することができる。
1〜10個のC原子を有する対称的に置換された亜硫酸ジアルキル、または1〜10個のC原子を有する非対称的に置換された亜硫酸ジアルキル、またはさらには一層高度にアルキル化された出発物質を共に本発明の方法において用いることが当然可能である。
本発明の方法に適するハロゲン化オニウムは、ハロゲン化アンモニウム、ハロゲン化ホスホニウム、ハロゲン化チオウロニウム、ハロゲン化グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有するハロゲン化物であり、ここでハロゲン化物を、塩化物、臭化物またはヨウ化物の群から選択することができる。ハロゲン化ホスホニウム、チオウロニウム、グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有するハロゲン化物を、好ましくは本発明の方法において用いる。前述のカチオンに加えて、ヨウ化ウロニウムは、さらにまた好適である。
本発明の方法に適するカルボン酸オニウムは、カルボン酸アンモニウム、カルボン酸ホスホニウム、カルボン酸チオウロニウム、カルボン酸グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有するカルボン酸塩であり、ここでカルボン酸塩を、炭酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、プロピレートまたはブチレートの群から選択することができる。カルボン酸アンモニウム、ホスホニウム、グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有するカルボン酸塩、特に酢酸アンモニウム、ホスホニウム、グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有する酢酸塩を、好ましくは本発明の方法において用いる。
ハロゲン化オニウムを、好ましくは本発明の方法において用いる。
ハロゲン化オニウムまたはカルボン酸オニウムは、一般的に、商業的に入手できるか、または文献から、例えば標準的な学術書、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, StuttgartもしくはRichard C. Larock, Comprehensive Organic Transformations, 第2版、Wiley-VCH, New York, 1999において知られている合成方法により、製造することができる。またここで、それ自体公知であり、ここでは一層詳細に述べない変法を用いてもよい。
ハロゲン化アンモニウムまたはホスホニウムを、例えば式(1)
[XRHal (1)
により記載することができ、式中、
Xは、N、Pを示し、
Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
Rは、各々の場合において互いに独立して、
H(ここですべての置換基Rは、同時にはHであってはならない)、
1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
を示し、
ここで、1つまたは2つ以上のRは、Cl、Brおよび/またはCNにより部分的に、またはF、もしくはFおよびCl、もしくはFおよびBr、もしくはF、ClおよびBrにより部分的に、もしくは完全に置換されていてもよいが、ここで、4つすべてまたは3つのRは、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
またここで、αまたはω位にはないRの1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい。
したがって、4つすべて、または3つの置換基Rがハロゲンにより完全に置換されている、式(1)で表される化合物、例えば塩化トリス(トリフルオロメチル)メチルアンモニウム、塩化テトラ(トリフルオロメチル)アンモニウムまたは塩化テトラ(ノナフルオロブチル)ホスホニウムは除外される。
ハロゲン化グアニジニウムを、例えば式(2)
[C(NR)(NR)(NR)]Hal (2)
により記載することができ、式中、
Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
〜Rは、各々、互いに独立して、
水素またはCN、
1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
を示し、
ここで、置換基R〜Rの1つまたは2つ以上は、NO、CN、Clおよび/またはBrにより部分的に、F、またはFおよびCl、またはFおよびBrまたはF、ClおよびBrにより部分的にまたは完全に置換されていてもよいが、ここで、N原子上のすべての置換基は、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
ここで、置換基R〜Rは、単結合または二重結合により互いに対になって結合していてもよく、また
ここで、置換基R〜Rにおいて、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい。
ハロゲン化ウロニウムおよびチオウロニウムを、例えば式(3)
[(RN)−C(=YR)(NR)]Hal (3)
により記載することができ、式中、
Yは、O、Sを示し、
Halは、BrまたはIを示し、ただし、Y=Oである場合においては、Hal=Iであり、また
〜RおよびRは、各々、互いに独立して、
水素またはCN(ここで水素は、Rについては除外される)
1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
を示し、
ここで、置換基R〜RおよびRの1つまたは2つ以上は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にもしくは完全に、またはCNにより部分的に置換されていてもよいが、ここで、N原子上のすべての置換基は、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
ここで、置換基R〜RおよびRは、単結合または二重結合により互いに対になって結合していてもよく、またここで、置換基R〜RおよびRにおいて、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい。
複素環式カチオンを有するハロゲン化物を、例えば式(4)
[HetN]Hal (4)
により記載することができ、式中、
Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
HetNは、
Figure 2009501166
の群から選択される複素環式カチオンを示し、
ここで、置換基
1’〜R4’は、各々、互いに独立して、
水素もしくはCN、
1〜20個のC原子を有する直鎖状もしくは分枝状アルキル、
2〜20個のC原子および1つもしくは2つ以上の二重結合を有する直鎖状もしくは分枝状アルケニル、
2〜20個のC原子および1つもしくは2つ以上の三重結合を有する直鎖状もしくは分枝状アルキニル、
1〜4個のC原子を有し、しかしこれらは複素環のヘテロ原子に結合していないアルキル基を含むジアルキルアミノ、
3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にもしくは完全に不飽和のシクロアルキル
またはアリール−C〜Cアルキル
を示し、
ここで、置換基R1’およびR4’は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にまたは完全に置換されていてもよいが、ここで、R1’およびR4’は、同時にはCNではなく、または同時にはFもしくは他のハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
ここで、置換基R2’およびR3’は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にもしくは完全に、またはNOもしくはCNにより部分的に置換されていてもよく、またここで、置換基R1’〜R4’において、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい。
〜C20アルキル基は、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、sec−ブチルまたはtert−ブチル、さらにまたペンチル、1−、2−もしくは3−メチルブチル、1,1−、1,2−もしくは2,2−ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシルまたはテトラデシル、随意にフッ素化されたアルキル基、例えばジフルオロメチル、トリフルオロメチル、テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピルまたはノナフルオロブチルである。
2〜20個のC原子を有し、ここで複数の二重結合がまた存在してもよい直鎖状または分枝状アルケニルは、例えば、ビニル、アリル、2−もしくは3−ブテニル、イソブテニル、sec−ブテニル、さらに4−ペンテニル、イソペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、−C17、−C1019〜−C2039;好ましくはビニル、アリル、2−もしくは3−ブテニル、イソブテニル、sec−ブテニル、さらにまた好ましくは4−ペンテニル、イソペンテニルまたはヘキセニルである。
2〜20個のC原子を有し、ここで複数の三重結合がまた存在してもよい、直鎖状または分枝状アルキニルは、例えば、エチニル、1−もしくは2−プロピニル、2−もしくは3−ブチニル、さらに4−ペンチニル、3−ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、−C15、−C1017〜−C2037、好ましくはエチニル、1−もしくは2−プロピニル、2−もしくは3−ブチニル、4−ペンチニル、3−ペンチニルまたはヘキシニルである。
本発明の目的のために、完全に不飽和のシクロアルキルはまた、芳香族置換基を意味するものと解釈される。
したがって、3〜7個のC原子を有する非置換の飽和した、または部分的にもしくは完全に不飽和のシクロアルキル基は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロペンテニル、シクロペンタ−1,3−ジエニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサ−1,3−ジエニル、シクロヘキサ−1,4−ジエニル、フェニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタ−1,3−ジエニル、シクロヘプタ−1,4−ジエニルまたはシクロヘプタ−1,5−ジエニルであり、この各々は、C〜Cアルキル基により置換されていてもよく、ここでシクロアルキル基またはC〜Cアルキル基により置換されているシクロアルキル基は、次にまたFまたはFおよびClにより置換されていてもよい。しかし、シクロアルキル基は同様に、さらなる官能基により、例えばCN、SOR’、SOOR’、SONH、C(O)NHまたはC(O)OR’により置換されていてもよい。R’はここでは、以下に定義する意味を有する。
アリール−C〜Cアルキルは、例えばベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、フェニルペンチルまたはフェニルヘキシルを示し、ここでフェニル環およびまたアルキレン鎖は共に、上記のように、FまたはFおよびClにより部分的にまたは完全に置換されていてもよく、特に好ましくはベンジルまたはフェニルプロピルである。しかし、フェニル環またはアルキレン鎖もまた、同様に、他の官能基、例えばCN、SOR’、SOOR’、SONH、C(O)NHまたはC(O)OR’により置換されていてもよい。
R’は、フッ素化されていない、部分的にフッ素化されている、またはパーフルオロ化されているC〜Cアルキル、C〜Cシクロアルキル、非置換の、または置換されているフェニルを示す。R’において、C〜Cシクロアルキルは、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルである。
R’において、置換フェニルは、C〜Cアルキル、C〜Cアルケニル、NO、F、Cl、Br、I、C〜Cアルコキシ、SCF、SOCF、SOCH、COOR’’、SOX’、SONR’’またはSOR’’により置換されているフェニルを示し、ここでX’は、F、ClまたはBrを示し、R’’は、R’について定義したように、フッ素化されていない、または部分的にフッ素化されているC〜CアルキルまたはC〜Cシクロアルキル、例えばo−、m−もしくはp−メチルフェニル、o−、m−もしくはp−エチルフェニル、o−、m−もしくはp−プロピルフェニル、o−、m−もしくはp−イソプロピルフェニル、o−、m−もしくはp−ニトロフェニル、o−、m−もしくはp−メトキシフェニル、o−、m−もしくはp−エトキシフェニル、o−、m−、p−(トリフルオロメチル)フェニル、o−、m−、p−(トリフルオロメトキシ)フェニル、o−、m−、p−(トリフルオロメチルスルホニル)フェニル、o−、m−もしくはp−フルオロフェニル、o−、m−もしくはp−クロロフェニル、o−、m−もしくはp−ブロモフェニル、o−、m−もしくはp−ヨードフェニル、さらに好ましくは2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,5−ジメチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,5−ジフルオロフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,5−ジクロロフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,5−ジブロモフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−もしくは3,5−ジメトキシフェニル、5−フルオロ−2−メチルフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニルまたは2,4,5−トリメチルフェニルを示す。
置換基R、R〜RまたはR1’〜R4’において、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子はまた、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい。
一般性を限定せずに、このようにして改変された置換基R、R〜RおよびR1’〜R4’の例は、以下のものである:
−OCH、−OCH(CH、−CHOCH、−CH−CH−O−CH、−COCH(CH、−CSC、−CSCH(CH、−S(O)CH、−SOCH、−SO、−SO、−SOCH(CH、−SOCHCF、−CHSOCH、−O−C−O−C、−CF、−C、−C、−C、−CFCFH、−CFCHFCF、−CFCH(CF、−CN(C)C、−CHF、−CHCF、−C、−CFH、−CH、−CHC(O)OCH、−CHC(O)CH、−CHまたは−C(O)C
置換基R〜Rは、各々、互いに独立して、好ましくは1〜10個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基である。式(2)および(3)で表される化合物中の置換基RおよびR、RおよびRならびにRおよびRは、ここでは同一であっても異なっていてもよい。
〜Rは、特に好ましくは、各々、互いに独立して、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、フェニルまたはシクロヘキシル、極めて特に好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルまたはn−ブチルである。しかし、置換基RおよびR〜Rは同様に、他の官能基により、例えばCN、SOR’、SOOR’、SONH、SONR’、C(O)NH、C(O)NR’またはC(O)OR’により置換されていてもよい。R’はここで、上記で定義した意味を有する。
本発明において、式(4)で表される化合物の好適な置換基R1’〜R4’は、水素以外には、好ましくは以下のものである:CN、C〜C20、特にC〜C12アルキル基、および各々がC〜Cアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、または不飽和の、即ちまた芳香族のC〜Cシクロアルキル基、特にフェニルまたはアリール−C〜Cアルキル。
置換基R1’およびR4’は、各々、互いに独立して、特に好ましくはCN、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、sec−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、シクロヘキシル、フェニル、フェニルプロピルまたはベンジルである。これらは、極めて特に好ましくはメチル、CN、エチル、n−ブチルまたはヘキシルである。ピロリジニウムまたはピペリジニウム化合物において、2つの置換基R1’およびR4’は、好ましくは異なっている。
置換基R2’またはR3’は、各々の場合において、互いに独立して、特に水素、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、フェニルまたはベンジルである。R2’は、特に好ましくは水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、sec−ブチルまたはジメチルアミノである。R2’およびR3’は、極めて特に好ましくは水素である。
1つの態様において、式(4)で表される複素環式カチオンの置換基RならびにR〜RならびにR1’およびR4’としてのアルキル基は、アルキルスルホン酸オニウム中のアニオンのアルキル基とは異なる。
しかし、本発明に従って製造したアルキルスルホン酸オニウムはまた、アニオン中のアルキル基と同一であるが、本発明に従ってアルキル化により導入されていない、カチオン中のアルキル基を有していてもよい。
グアニジニウムカチオン[C(NR)(NR)(NR)]の4つまでの置換基はまた、単環式、二環式または多環式カチオンが生成するように、対になって結合していてもよい。
一般性を制限せずに、このタイプのグアニジニウムカチオンの例は、以下のものである:
Figure 2009501166
式中、置換基R〜RおよびRは、前述の、または特に好ましい意味を有することができる。
上記に示したグアニジニウムカチオンの炭素環または複素環はまた、随意に、C〜Cアルキル、C〜Cアルケニル、NO、F、Cl、Br、I、C〜Cアルコキシ、SCF、SOCF、SOCH、CN、COOR’’、SONR’’、SOX’もしくはSOR’’により置換されていてもよく、ここでX’は、F、ClもしくはBrを示し、R’’は、R’について定義したように、フッ素化されていない、もしくは部分的にフッ素化されているC〜CアルキルもしくはC〜Cシクロアルキルを示し、または置換もしくは非置換フェニルにより置換されていてもよい。
ウロニウムまたはチオウロニウムカチオン[(RN)−C(=YR)(NR)]の4つまでの置換基はまた、単環式、二環式または多環式カチオンが生成するように、対になって結合していてもよい。
一般性を制限せずに、このタイプのカチオンの例を以下に示す:
Figure 2009501166
式中、Yならびに置換基R、RおよびRは、前述の、または特に好ましい意味を有することができる。
上記に示したウロニウムまたはチオウロニウムカチオンの炭素環または複素環はまた、随意に、C〜Cアルキル、C〜Cアルケニル、NO、F、Cl、Br、I、C〜Cアルコキシ、SCF、SOCF、SOCH、COOR”、SONR”、SOX’もしくはSOR”により置換されていてもよく、ここでX’は、F、ClもしくはBrを示し、R”は、R’について定義したように、フッ素化されていない、部分的にフッ素化されている、もしくはパーフルオロ化されているC〜CアルキルもしくはC〜Cシクロアルキルを示し、または置換もしくは非置換フェニルにより置換されていてもよい。
しかし、置換基R1’〜R4’は、同様に、他の官能基により、例えばCN、SOR’、SOOR’またはCOOR’により置換されていてもよい。R’はここでは、上記で定義した意味を有する。
式(4)のHetNは、好ましくは、
Figure 2009501166
であり、ここで、置換基R1’〜R4’は、各々、互いに独立して、上記の意味を有する。
HetNは、特に好ましくは、上記で定義したように、イミダゾリウム、ピロリジニウムまたはピリジニウムであり、ここで、置換基R1’〜R4’は、各々、互いに独立して、上記の意味を有する。
上記の式(1)〜(4)において、Halは、上記で定義したように、本発明において、カルボン酸塩により置換されていてもよい。アニオンの選択により、カチオンの選択は制限されない。
本発明の方法において用いる対称的に置換された亜硫酸ジアルキルは、好ましくは、1〜10個のC原子を有する、好ましくは1〜4個のC原子を有する、特に好ましくは1〜2個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基を含む亜硫酸ジアルキルである。アルキル基は、好ましくは、1〜4個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、sec−ブチルまたはtert−ブチルである。アルキル基は、好ましくはメチルまたはエチルである。
対称的に置換された亜硫酸ジアルキルの例は、亜硫酸ジメチル、亜硫酸ジエチル、亜硫酸ジ(n−プロピル)、亜硫酸ジ(イソプロピル)、亜硫酸ジ(n−ブチル)または亜硫酸ジ(sec−ブチル)である。好ましいのは、亜硫酸ジメチルまたは亜硫酸ジエチルを用いることである。
用いる対称的な亜硫酸ジアルキルは、一般的には、商業的に入手できるか、あるいは文献から、例えば標準的な学術書、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, StuttgartもしくはRichard C. Larock, Comprehensive Organic Transformations, 第2版、Wiley-VCH, New York, 1999において、またはW. VossおよびE. Blanke, Justus Liebigs Ann. Chem., 485 (1931), 258〜279頁による記事から知られている合成方法により、製造することができる。またここで、それ自体公知であり、ここでは一層詳細に述べない変法を用いることができる。
用いる非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルは、好ましくは、1〜10個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基および第2のアルキル基としてメチルまたはエチル基を含む、好ましくは3〜8個のC原子を有するアルキル基を含む亜硫酸ジアルキルである。非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルの例は、亜硫酸メチルプロピル、亜硫酸メチルブチル、亜硫酸エチルブチル、亜硫酸メチルペンチル、亜硫酸エチルペンチル、亜硫酸メチルヘキシル、亜硫酸エチルヘキシル、亜硫酸メチルヘプチル、亜硫酸エチルヘプチル、亜硫酸メチルオクチルまたは亜硫酸エチルオクチルである。
用いる非対称的な亜硫酸ジアルキルは、文献から、例えば標準的な学術書、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, StuttgartもしくはRichard C. Larock, Comprehensive Organic Transformations, 第2版、Wiley-VCH, New York, 1999において、またはW. VossおよびE. Blanke, Justus Liebigs Ann. Chem., 485 (1931), 258〜279頁による、もしくはV.M. Pavlov, J. Gen. Chem. USSR (英訳)、41 (1971), 2559〜2561頁による記事から知られている合成方法により製造することができる。またここで、それ自体公知であり、ここでは一層詳細に述べない変法を用いることができる。
一般的なスキームが、本発明の方法を要約し、ここで生成するアルキル−ハロゲン化合物の場合における矢印は、化合物の揮発性についての記号を表す:
Figure 2009501166
式(1)〜(8)で表される化合物の置換基R、R〜RおよびHetNは、上記の意味に相当する。
亜硫酸ジアルキルとの反応は、50〜170℃の温度にて、好ましくは60〜130℃の温度にて、また特に好ましくは100〜120℃の温度にて行う。50℃からの温度は、ここでは加熱源、例えば油浴の温度に相当する。最適な反応温度の選択は、ここでは過剰の亜硫酸ジアルキルのレベルならびに用いるハロゲン化物および亜硫酸ジアルキルのタイプに依存する。ヨウ化物は、塩化物よりも反応性が高く、比較的長いアルキル鎖を含む亜硫酸ジアルキルの場合においては、一般的に一層高い温度および一層長い反応時間が必要である。
溶媒は必要ではない。しかし、溶媒、例えばジメトキシエタン、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、プロピオニトリル、ジクロロメタンまたは互いの混合物を用いることも可能である。
反応は、過剰の、または等モル量の亜硫酸ジアルキルを用いて、好ましくは過剰の亜硫酸ジアルキルを用いて行う。
あるいはまた、アルキルスルホン酸アニオンを有するオニウム塩を、有機塩基の亜硫酸ジアルキルを用いた直接のアルキル化により製造することができる。亜硫酸ジメチルを用いたアニリン、ジメチルアニリンおよびピリジンのアルキル化、これと共に対応するメチルスルホン酸塩の生成は、W. VossおよびE. Blanke, Justus Liebigs Ann. Chem., 485 (1931), 258〜279頁による記事中に記載されている。この方法の欠点は、カチオンとアニオンとの両方中に同一のアルキル基を有し、従って置換パターンの可能な多様性を制限するオニウム化合物が生成することである。さらに、有毒な二酸化硫黄が、この反応において等モル量で生成する。
本発明は同様に、本発明の方法により製造されたアルキルスルホン酸オニウムに関する。当該化合物の数種は知られている。本発明の方法を用いると、これらの化合物への接近手段が単純化され、従ってこれらの化合物の利用の可能性が増大する。
さらに、本発明は同様に、式(9)
[Kt][alkyl−SO (9)
式中、
Ktは、[(RN)−C(=SR)(NR)]または[HetN]を示し、ここで[HetN]は、
Figure 2009501166
を含む群から選択され、またここで、
alkylは、1〜10個のC原子を有する、好ましくは1〜8個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基を示し、ここでアルキル基は、F、Clおよび/またはBr、特にFおよび/またはClにより部分的にもしくは完全に、またはNOもしくはCNにより部分的に置換されていてもよく、またここで、アルキル基において、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよく、またここで、R〜RおよびR1’〜R4’は、前述の意味を有し、ただし、カチオンKtとしての[HetN]の場合において、alkylは、トリフルオロメチルを示さない、
で表されるアルキルスルホン酸オニウムであって、本発明の方法により得られる、前記アルキルスルホン酸オニウムに関する。このタイプの化合物は、現在まで一層詳細には記載または特徴づけされていない。
当業者にはいうまでもないが、前述のすべての置換基、例えばH、N、O、Cl、Fは、対応する同位体により置換され得る。
本発明は同様に、本発明の式(9)で表される化合物の、溶媒、溶媒添加剤、伝熱媒体、相間移動触媒としての、抽出剤としての、添加剤としての、界面活性物質としての、電気化学電池における電解質としての、改質剤としての、または可塑剤としての使用に関する。
溶媒または溶媒添加剤として用いる場合には、本発明の化合物は、当業者に知られているすべてのタイプの反応、例えば遷移金属、酵素または他の生体触媒により触媒される反応、例えばヒドロホルミル化反応、オリゴマー化反応、C−C結合形成反応、例えばHeckカップリング、しかしまたエステル化、異性化反応またはアミド結合を形成するための反応に適する。
さらなるコメントを伴わなくても、当業者は、前述の記載を最も広い範囲において用いることができると推測される。従って、好ましい態様および例は、単に記載的開示であり、これはいかなる方法においても絶対に限定的ではないと見なされるべきである。
例において他に示さない限りは、NMRスペクトルを、20℃で、重水素ロックを伴う5mmのH/BB広帯域ヘッドを有するBruker ARX 400分光計において、重水素化溶媒に溶解した溶液について測定した。種々の核の測定周波数は、以下の通りである:H:400.13MHzおよび31P:161.98MHz。参照方法を、各々のスペクトルまたは各々のデータの組について別個に示す。
例:
例1:1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
10.84g(53.5mmol)の塩化1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムおよび11.21g(101.8mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、120℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で72時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび120℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、14.0gの液体1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩を得る。収率は、事実上定量的である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.86 m (CH3); 1.28 m (3CH2); 1.81 m (CH2); 2.44 s (CH3); 3.84 s (CH3); 4.13 t (CH2); 7.39 d,d (CH); 7.42 d,d (CH); 8.81 br. s. (CH); 3JH,H = 7.1 Hz; JH,H = 1.5 Hz.
例2:1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸
Figure 2009501166
8.43g(41.6mmol)の塩化1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムおよび4.58g(41.6mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、155℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で19時間、還流凝縮器を備えた50mlの丸底フラスコ中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定した。生成物を、真空において13.3Paおよび100℃(油浴の温度)で2時間にわたりポンプで除去して、10.0gの液体1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩を得る。収率は、91.7%である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.84 m (CH3); 1.26 m (3CH2); 1.80 m (CH2); 2.45 s (CH3); 3.86 s (CH3); 4.17 t (CH2); 7.48 m (CH); 7.50 m (CH); 9.30 br. s. (CH); 3JH,H = 7.1 Hz.
例3:1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムエタンスルホン酸
Figure 2009501166
11.84g(58.4mmol)の塩化1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムおよび12.11g(87.6mmol)の亜硫酸ジエチルの混合物を、120℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で44時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび120℃(油浴の温度)で3時間にわたりポンプで除去して、16.1gの液体1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムエタンスルホン酸塩を得る。収率は、事実上定量的である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.87 m (CH3); 1.17 t (CH3); 1.29 m (3CH2); 1.82 m (CH2); 2.59 q (CH2); 3.87 s (CH3); 4.17 t (CH2); 7.44 m (CH); 7.47 m (CH); 9.11 br. s. (CH); 3JH,H = 7.1 Hz; 3JH,H = 7.4 Hz.
例4:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸
Figure 2009501166
10.64g(72.6mmol)の塩化1−エチル−3−メチルイミダゾリウムおよび14.39g(130.7mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、110〜115℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で72時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび115℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、14.78gの液体1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩を得る。収率は、事実上定量的である。残留塩化物含量は、5ppmより低い。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 1.41 t (CH3); 2.44 s (CH3); 3.85 s (CH3); 4.19 q (CH2); 7.51 d,d (CH); 7.57 d,d (CH); 9.26 br. s. (CH); 3JH,H = 7.4 Hz; JH,H = 1.5 Hz.
例5:トリヘキシルテトラデシルホスホニウムメタンスルホン酸
Figure 2009501166
6.42g(12.36mmol)の塩化トリヘキシルテトラデシルホスホニウムおよび4.28g(38.86mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、110〜115℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で72時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび115℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、7.06gの液体トリヘキシルテトラデシルホスホニウムメタンスルホン酸塩を得る。収率は、事実上定量的である。残留塩化物含量は、5ppmより低い。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.84-0.92 m (4CH3)、1.24-1.36 m (16CH2), 1.36-1.56 m (8CH2), 2.04-2.15 m (4CH2); 2.44 s (CH3).
31P{H} NMR(基準:85%HPO−外部;溶媒:CDCN)、ppm: 33.3
例6:1−ブチルピリジニウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
11.88g(69.2mmol)の塩化1−ブチルピリジニウムおよび13.69g(124.3mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、110〜115℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で72時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび115℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、15.51gの1−ブチルピリジニウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、91〜92℃である。収率は、96.9%である。残留塩化物含量は、5ppmより低い。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.93 t (CH3); 1.36 m (CH2); 1.93 m (CH2); 2.43 s (CH3); 4.59 t (CH2); 8.04 m (2CH); 8.50 t (CH); 8.90 d (2CH); 3JH,H = 7.4 Hz; 3JH,H = 7.6 Hz; 3JH,H = 7.9 Hz; 3JH,H = 6.6 Hz.
元素分析:観測値、%:C 51.74;H 7.34;N 6.07;S 13.92;
1017NOSについての計算値、%:C 51.93;H 7.41;N 6.06;S 13.86。
例7:1−ブチル−1−メチルピロリジニウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
11.20g(63.0mmol)の塩化1−ブチル−1−メチルピロリジニウムおよび13.0g(118.0mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、110〜115℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で48時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび115℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、14.9gの1−ブチル−1−メチルピロリジニウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、59〜60℃である。残留塩化物含量は、5ppmより低い。収率は、事実上定量的である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.94 t (CH3); 1.36 m (CH2); 1.70 m (CH2); 2.13 m (2CH2); 2.40 s (CH3); 2.97 s (CH3); 3.29 m (CH2); 3.45 m (2CH2); 3JH,H = 7.4 Hz.
元素分析:観測値、%:C 50.29;H 9.97;N 5.90;S 13.52;
1023NOSについての計算値、%:C 50.60;H 9.77;N 5.90;S 13.51。
例8:N,N,N’,N’−テトラメチル−S−エチルチオウロニウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
2.72g(9.44mmol)のヨウ化N,N,N’,N’−テトラメチル−S−エチルチオウロニウムおよび1.04g(9.44mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、60℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で8時間、密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび60℃(油浴の温度)で1時間にわたりポンプで除去して、2.39gのN,N,N’,N’−テトラメチル−S−エチルチオウロニウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、75〜76℃である。収率は、事実上定量的である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 1.29 t (CH3); 2.39 s (CH3); 3.01 q (CH2); 3.23 s (4CH3); 3JH,H = 7.5 Hz.
元素分析:観測値、%:C 36.95;H 7.92;N 10.78;
20についての計算値、%:C 37.48;H 7.86;N 10.93。
例9:テトラブチルアンモニウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
12.94g(40.14mmol)の臭化テトラブチルアンモニウムおよび5.15g(46.76mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、110〜115℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で96時間、大気圧よりも1〜1.5bar高い圧力についての圧力バルブを有する密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび115℃(油浴の温度)で5時間にわたりポンプで除去して、13.53gのテトラブチルアンモニウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、83〜84℃である。収率は、事実上定量的である。残留臭化物含量は、5ppmより低い。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.95 t (CH3); 1.34 t,q (CH2); 1.60 m (CH2); 2.39 s (CH3); 3.11 m (CH2); 3JH,H = 7.4 Hz.
元素分析:観測値、%:C 60.47;H 11.90;N 4.18;S 9.60;
1739NOSについての計算値、%:C 60.49;H 11.65;N 4.15;S 9.50。
例10:テトラブチルアンモニウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
0.56g(1.86mmol)の酢酸テトラブチルアンモニウムおよび0.41g(3.72mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、120℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で28時間、密閉した反応容器中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび70℃(油浴の温度)で2時間にわたりポンプで除去して、0.61gのテトラブチルアンモニウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、84〜85℃である。収率は、事実上定量的である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 0.95 t (CH3); 1.34 t,q (CH2); 1.60 m (CH2); 2.42 s (CH3); 3.11 m (CH2); 3JH,H = 7.4 Hz.
例11:1,3−ジメチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩
Figure 2009501166
6.64g(80.9mmol)のN−メチルイミダゾールおよび14.39g(161.7mmol)の亜硫酸ジメチルの混合物を、70℃(油浴の温度)で不活性ガス雰囲気(窒素)の下で72時間、還流凝縮器を備えた100mlの丸底フラスコ中で攪拌する。反応の終了を、NMR測定により決定する。生成物を、真空において13.3Paおよび80℃(油浴の温度)で2時間にわたりポンプで除去して、15.22gの1,3−ジメチルイミダゾリウムメタンスルホン酸塩を固体として得る。融点は、72〜73℃である。収率は、98%である。生成物を、NMR分光法により調査する。
H NMR(基準:TMS;溶媒:CDCN)、ppm: 2.44 s (CH3); 3.84 s (2CH3); 7.45 d (2CH) ; 9.12 br. s. (CH); 4JH,H = 1.6 Hz.
元素分析:観測値、%:C 37.27;H 6.35;N 14.76;S 16.40;
12Sについての計算値、%:C 37.49;H 6.29;N 14.57;S 16.68。

Claims (12)

  1. アルキルスルホン酸オニウムの製造方法であって、ハロゲン化オニウムまたはカルボン酸オニウムの、対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、または非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルとの、50〜170℃の温度における反応による、前記方法。
  2. 反応を、対称的に置換された亜硫酸ジアルキルと行い、ここでアルキル基が1〜10個のC原子を有することができることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 反応を、非対称的に置換された亜硫酸ジアルキルと行い、ここで1つのアルキル基が1〜10個のC原子を有することができ、第2のアルキル基がメチルまたはエチルを示すことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  4. ハロゲン化物が、ハロゲン化アンモニウム、ハロゲン化ホスホニウム、ハロゲン化チオウロニウム、ハロゲン化グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有するハロゲン化物であり、ここでハロゲン化物を、塩化物、臭化物もしくはヨウ化物の群から選択することができるか、またはハロゲン化物がヨウ化ウロニウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  5. カルボン酸塩が、酢酸アンモニウム、酢酸ホスホニウム、酢酸グアニジニウムまたは複素環式カチオンを有する酢酸塩であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  6. ハロゲン化物が、式(1)
    [XRHal (1)
    式中、
    Xは、N、Pを示し、
    Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
    Rは、各々の場合において互いに独立して、
    H(ここですべての置換基Rは、同時にはHであってはならない)、
    1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
    3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
    を示し、
    ここで、1つまたは2つ以上のRは、Cl、Brおよび/またはCNにより部分的に、またはF、もしくはFおよびCl、もしくはFおよびBr、もしくはF、ClおよびBrにより部分的にもしくは完全に置換されていてもよいが、ここで、4つすべてまたは3つのRは、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
    またここで、αまたはω位にはないRの1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい、
    に適合することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  7. ハロゲン化物が、式(2)
    [C(NR)(NR)(NR)]Hal (2)
    式中、
    Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
    〜Rは、各々、互いに独立して、
    水素またはCN、
    1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
    3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
    を示し、
    ここで、置換基R〜Rの1つまたは2つ以上は、NO、CN、Clおよび/またはBrにより部分的に、F、またはFおよびCl、またはFおよびBrまたはF、ClおよびBrにより部分的にまたは完全に置換されていてもよいが、ここで、N原子上のすべての置換基は、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
    ここで、置換基R〜Rは、単結合または二重結合により互いに対になって結合していてもよく、また
    ここで、置換基R〜Rにおいて、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい、
    に適合することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  8. ハロゲン化物が、式(3)
    [(RN)−C(=YR)(NR)]Hal (3)
    式中、
    Yは、O、Sを示し、
    Halは、BrまたはIを示し、ただし、Y=Oである場合においては、Hal=Iであり、また
    〜RおよびRは、各々、互いに独立して、
    水素またはCN(ここで水素は、Rについては除外される)
    1〜20個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の二重結合を有する直鎖状または分枝状アルケニル、
    2〜20個のC原子および1つまたは2つ以上の三重結合を有する直鎖状または分枝状アルキニル、
    3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にまたは完全に不飽和のシクロアルキル
    を示し、
    ここで、置換基R〜RおよびRの1つまたは2つ以上は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にもしくは完全に、またはCNにより部分的に置換されていてもよいが、ここで、N原子上のすべての置換基は、ハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
    ここで、置換基R〜RおよびRは、単結合または二重結合により互いに対になって結合していてもよく、またここで、置換基R〜RおよびRにおいて、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい、
    に適合することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  9. ハロゲン化物が、式(4)
    [HetN]Hal (4)
    式中、
    Halは、Cl、BrまたはIを示し、また
    HetNは、
    Figure 2009501166
    の群から選択される複素環式カチオンを示し、
    ここで、置換基
    1’〜R4’は、各々、互いに独立して、
    水素もしくはCN、
    1〜20個のC原子を有する直鎖状もしくは分枝状アルキル、
    2〜20個のC原子および1つもしくは2つ以上の二重結合を有する直鎖状もしくは分枝状アルケニル、
    2〜20個のC原子および1つもしくは2つ以上の三重結合を有する直鎖状もしくは分枝状アルキニル、
    1〜4個のC原子を有するが、これらは複素環のヘテロ原子に結合していないアルキル基を含むジアルキルアミノ、
    3〜7個のC原子を有し、1〜6個のC原子を有するアルキル基により置換されていてもよい、飽和の、部分的にもしくは完全に不飽和のシクロアルキル
    またはアリール−C〜Cアルキル
    を示し、
    ここで、置換基R1’およびR4’は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にまたは完全に置換されていてもよいが、ここで、R1’およびR4’は、同時にはCNではなく、または同時にはFもしくは他のハロゲンにより完全に置換されていてはならず、
    ここで、置換基R2’およびR3’は、F、Clおよび/またはBr、特に−Fおよび/または−Clにより部分的にもしくは完全に、またはNOもしくはCNにより部分的に置換されていてもよく、
    またここで、置換基R1’〜R4’において、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよい、
    に適合することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  10. ハロゲン化物の亜硫酸ジアルキルとの反応を、溶媒を用いずに行うことを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
  11. 式(9)
    [Kt][alkyl−SO (9)
    式中、Ktは、[(RN)−C(=SR)(NR)]または[HetN]を示し、ここで[HetN]は、
    Figure 2009501166
    を含む群から選択され、またここで、
    alkylは、1〜10個のC原子を有する、好ましくは1〜8個のC原子を有する直鎖状または分枝状アルキル基を示し、ここでアルキル基は、F、Clおよび/またはBr、特にFおよび/またはClにより部分的にもしくは完全に、またはNOもしくはCNにより部分的に置換されていてもよく、またここで、アルキル基において、ヘテロ原子に直接結合しておらず、ω位にはない1個または2個の隣接していない炭素原子は、−O−、−C(O)−、−S−、−S(O)−または−SO−の群から選択された原子および/または原子団により置換されていてもよく、またここで、R〜RおよびR1’〜R4’は、請求項8または9において述べた意味を有し、ただし、カチオンKtとしての[HetN]の場合において、alkylは、トリフルオロメチルを示さない、
    で表されるアルキルスルホン酸オニウムであって、請求項1に記載の方法により得られる、前記アルキルスルホン酸オニウム。
  12. 請求項11に記載の化合物の、溶媒、溶媒添加剤、伝熱媒体、相間移動触媒としての、抽出剤としての、添加剤としての、界面活性物質としての、電気化学電池における電解質としての、改質剤としての、または可塑剤としての使用。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002158589A (ja) * 2000-09-11 2002-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 符号化装置および復号化装置
JP2017512819A (ja) * 2014-04-03 2017-05-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se リチウムイオン二次電池の電解質用添加剤としての反応性イオン液体の使用方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5946246A (ja) * 1982-06-29 1984-03-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 第四アンモニウム塩、その製法並びにその用途
JPS61260045A (ja) * 1985-05-10 1986-11-18 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト ハロゲン化物を含有していない第四級アンモニウム塩の製法
JPS63262830A (ja) * 1987-04-21 1988-10-31 三菱油化株式会社 コンデンサ用電解液
JPH05178798A (ja) * 1991-12-27 1993-07-20 Kao Corp 4級アンモニウム有機酸塩の製造方法
JP2001322970A (ja) * 2000-05-12 2001-11-20 Tonen Chem Corp 四級アンモニウム塩の製造方法
JP2005082534A (ja) * 2003-09-09 2005-03-31 Nicca Chemical Co Ltd イオン性液体及びその製造方法
JP2008510740A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高純度の第4級アンモニウム化合物の製造方法
JP2008510742A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高純度の第4級アンモニウム化合物の製造方法
JP2009501167A (ja) * 2005-07-14 2009-01-15 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング オニウム亜硫酸アルキル塩の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE754167R (fr) * 1969-07-31 1971-02-01 Chatillon Italiana Fibre Procede de polymerisation du chlorure de
GB9425105D0 (en) 1994-12-13 1995-02-08 Bp Chem Int Ltd Ionic liquids
GB0024747D0 (en) 2000-10-10 2000-11-22 Univ Belfast Aromatic sulfonation reactions
DE60010472T2 (de) 2000-10-27 2005-05-19 Centre National De La Recherche Scientifique (C.N.R.S.) Imidazolium-Salze und die Verwendung dieser ionischen Flüssigkeiten als Lösungsmittel und als Katalysator
CA2466780C (en) * 2001-12-14 2008-05-20 Cytec Canada Inc. Preparation of ionic liquids
DE10208822A1 (de) * 2002-03-01 2003-09-11 Solvent Innovation Gmbh Halogenfreie ionische Flüssigkeiten
KR100903862B1 (ko) 2003-03-12 2009-06-24 주식회사 씨트리 고순도의 이온성 액체를 위한 정제방법
DE10333239A1 (de) * 2003-07-21 2005-03-10 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von gereinigten 1,3- substituierten Imidazoliumsalzen
WO2006021303A1 (de) 2004-08-24 2006-03-02 Basf Aktiengesellschaft Imidazolium-methylsulfite als ausgangsverbindungen zur herstellung ionischer flüssigkeiten

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5946246A (ja) * 1982-06-29 1984-03-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 第四アンモニウム塩、その製法並びにその用途
JPS61260045A (ja) * 1985-05-10 1986-11-18 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト ハロゲン化物を含有していない第四級アンモニウム塩の製法
JPS63262830A (ja) * 1987-04-21 1988-10-31 三菱油化株式会社 コンデンサ用電解液
JPH05178798A (ja) * 1991-12-27 1993-07-20 Kao Corp 4級アンモニウム有機酸塩の製造方法
JP2001322970A (ja) * 2000-05-12 2001-11-20 Tonen Chem Corp 四級アンモニウム塩の製造方法
JP2005082534A (ja) * 2003-09-09 2005-03-31 Nicca Chemical Co Ltd イオン性液体及びその製造方法
JP2008510740A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高純度の第4級アンモニウム化合物の製造方法
JP2008510742A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高純度の第4級アンモニウム化合物の製造方法
JP2009501167A (ja) * 2005-07-14 2009-01-15 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング オニウム亜硫酸アルキル塩の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002158589A (ja) * 2000-09-11 2002-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 符号化装置および復号化装置
JP4508490B2 (ja) * 2000-09-11 2010-07-21 パナソニック株式会社 符号化装置および復号化装置
JP2017512819A (ja) * 2014-04-03 2017-05-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se リチウムイオン二次電池の電解質用添加剤としての反応性イオン液体の使用方法

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