JPS61260045A - ハロゲン化物を含有していない第四級アンモニウム塩の製法 - Google Patents
ハロゲン化物を含有していない第四級アンモニウム塩の製法Info
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- JPS61260045A JPS61260045A JP61103981A JP10398186A JPS61260045A JP S61260045 A JPS61260045 A JP S61260045A JP 61103981 A JP61103981 A JP 61103981A JP 10398186 A JP10398186 A JP 10398186A JP S61260045 A JPS61260045 A JP S61260045A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D213/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom containing only one pyridine ring
- C07D213/20—Quaternary compounds thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
液体の摩擦抵抗を、該液体が他の点では同じ条件で一層
速く流れるように減少させる物質は、流れ増強剤(抵抗
降下剤) (stromungabeachleunl
ger ;英語はdragr8auc1ng agen
ts )と呼ばれる。幾9かの高分子物質(ポリエチレ
ンオキシドおよびポリアクリルアミド)または幾つかの
界面活性剤の溶液がこの効果を示す。高分子物質は、大
きなすシ応力および引張)応力によって不可逆的に分解
するので、閉鎖した水の循環、例えば冷却用循環および
遠F41I2房網のための添加剤として使用することが
できない。流れ増強剤として有効な界面活性剤、例えば
高級脂肪酸のアルカリ塩またはカチオン界面活性剤例え
ば臭化セチルピリジニウムはこの欠点を示さない。しか
し、今までに知られているナベての界面活性剤゛溶液の
主な欠点は、90℃以上で流れ増強剤としての効力を失
うので遠隔暖房網に全く適さないということである。と
ころで、ミセルを形成する新しい種類の界面活性剤は、
非常に低い濃度でも有効である故に、90℃以上の温度
で耐久応力のもとて有効のままであるということが見出
だされた(ヨーロッパ特許第84104177号)。そ
れは、陽イオンとしてアルキルトリメチルアンモニウム
イオンまたはアルキルビリジニクムイオンを含む塩であ
る。個々の陰イオンハ、芳香族カルボン酸およびスルホ
ン酸から誘導される。しかし、この界面活性剤の塩を流
れ増強剤として特に閉鎖系で使用するための前提条件は
、この界面活性剤が腐食作用を生じないことである。こ
のことは、該化合物がハロゲン化物イオンを含んでいな
いように製造されねばならないということを意味する。
速く流れるように減少させる物質は、流れ増強剤(抵抗
降下剤) (stromungabeachleunl
ger ;英語はdragr8auc1ng agen
ts )と呼ばれる。幾9かの高分子物質(ポリエチレ
ンオキシドおよびポリアクリルアミド)または幾つかの
界面活性剤の溶液がこの効果を示す。高分子物質は、大
きなすシ応力および引張)応力によって不可逆的に分解
するので、閉鎖した水の循環、例えば冷却用循環および
遠F41I2房網のための添加剤として使用することが
できない。流れ増強剤として有効な界面活性剤、例えば
高級脂肪酸のアルカリ塩またはカチオン界面活性剤例え
ば臭化セチルピリジニウムはこの欠点を示さない。しか
し、今までに知られているナベての界面活性剤゛溶液の
主な欠点は、90℃以上で流れ増強剤としての効力を失
うので遠隔暖房網に全く適さないということである。と
ころで、ミセルを形成する新しい種類の界面活性剤は、
非常に低い濃度でも有効である故に、90℃以上の温度
で耐久応力のもとて有効のままであるということが見出
だされた(ヨーロッパ特許第84104177号)。そ
れは、陽イオンとしてアルキルトリメチルアンモニウム
イオンまたはアルキルビリジニクムイオンを含む塩であ
る。個々の陰イオンハ、芳香族カルボン酸およびスルホ
ン酸から誘導される。しかし、この界面活性剤の塩を流
れ増強剤として特に閉鎖系で使用するための前提条件は
、この界面活性剤が腐食作用を生じないことである。こ
のことは、該化合物がハロゲン化物イオンを含んでいな
いように製造されねばならないということを意味する。
この新規な第四級アンモニウム塩をハロゲン化物なしで
製造する次の方法が既に知られていて記載されてbる。
製造する次の方法が既に知られていて記載されてbる。
先ずハロゲン化アルキルトリメチルアンモニウムまたは
塩化ピリジニウム、臭化ピリジニウムもしくはヨウ化ピ
リジニウムを無水の溶剤例えばメタノールに溶解させ、
沈殿したての最後にメタノールで洗った小過剰の水酸化
銀を加える。できるだけ水を系の中へ入れるべきでない
;なぜなら晶出が困難になるからである。約50℃に短
時間加熱すると水酸化アルキルトリメチルアンモニウム
もしくはピリジニウムの生成が完結し、生成物はメタノ
ールに溶解したままである。この反応で水酸化銀のかつ
色が大部分消失し、生じた沈殿はハロゲン化銀の色を呈
する。次にハロゲン化銀の沈殿を約15℃で吸引F取す
る。メタノール性F液中に存在する水酸化アルキル)
IJメチルアンモニウムもしくはピリジニウムは、理論
量のカルボン酸、スルホン酸もしくは無機酸を加えるこ
とによって中和することができる。メタノールを蒸発さ
せると、所望のアルキルトリメチルアンモニクム塩もし
くはピリジニウム塩が得られる。
塩化ピリジニウム、臭化ピリジニウムもしくはヨウ化ピ
リジニウムを無水の溶剤例えばメタノールに溶解させ、
沈殿したての最後にメタノールで洗った小過剰の水酸化
銀を加える。できるだけ水を系の中へ入れるべきでない
;なぜなら晶出が困難になるからである。約50℃に短
時間加熱すると水酸化アルキルトリメチルアンモニウム
もしくはピリジニウムの生成が完結し、生成物はメタノ
ールに溶解したままである。この反応で水酸化銀のかつ
色が大部分消失し、生じた沈殿はハロゲン化銀の色を呈
する。次にハロゲン化銀の沈殿を約15℃で吸引F取す
る。メタノール性F液中に存在する水酸化アルキル)
IJメチルアンモニウムもしくはピリジニウムは、理論
量のカルボン酸、スルホン酸もしくは無機酸を加えるこ
とによって中和することができる。メタノールを蒸発さ
せると、所望のアルキルトリメチルアンモニクム塩もし
くはピリジニウム塩が得られる。
本方法の変形では、しばしば水溶性のほとんどない当該
カルボン酸の銀塩を先ず製造する。
カルボン酸の銀塩を先ず製造する。
この場合には、水酸化銀または炭酸銀から出発し、これ
を所望のカルボン酸で中和する。しかし、カルボン酸銀
が沈殿する場合には、カルボン酸アルカリを水に溶解さ
せ、硝酸銀溶液を加えることもできる。カルボン酸銀を
吸引戸数し、かき混ぜ、乾燥させる。次にこれを、無水
の溶剤例えばメタノール中ハロゲン化アルキルトリメチ
ルアンモニウムもしくはピリジニウムの溶液へ理論的に
必要な量加え、短時間50ないし60℃に加熱すること
ができる。この場合にも後から15℃でハロゲン化銀を
吸引P取し、F液を蒸発させると混合カルボン酸アルキ
ルトリメチルアンモニウムもしくはピリジニウムが得ら
れる。事実上無水の溶剤(酢酸エチル、アセトン、アセ
トニトリルまたはジクロロエタン)で再結晶することに
よって更に精製することができる。
を所望のカルボン酸で中和する。しかし、カルボン酸銀
が沈殿する場合には、カルボン酸アルカリを水に溶解さ
せ、硝酸銀溶液を加えることもできる。カルボン酸銀を
吸引戸数し、かき混ぜ、乾燥させる。次にこれを、無水
の溶剤例えばメタノール中ハロゲン化アルキルトリメチ
ルアンモニウムもしくはピリジニウムの溶液へ理論的に
必要な量加え、短時間50ないし60℃に加熱すること
ができる。この場合にも後から15℃でハロゲン化銀を
吸引P取し、F液を蒸発させると混合カルボン酸アルキ
ルトリメチルアンモニウムもしくはピリジニウムが得ら
れる。事実上無水の溶剤(酢酸エチル、アセトン、アセ
トニトリルまたはジクロロエタン)で再結晶することに
よって更に精製することができる。
他の可能性として、ハロゲン化アルキルトリメチルアン
モニウムもしくはピリジニウム(または他の塩)を強塩
基性陰イオン交換体で処理することKよって水酸化アル
キルトリメチルアンモニウムもしくはピリジニウム溶液
が得られるということも述べることができ、このことも
無水の溶剤例えばメタノール中で行なわなければならな
^。この後にまた。所望のカルボン酸で中和する。これ
らの方法は皆、非常に費用がかか夛、不経済であ夛、工
業的な要求に適さない。
モニウムもしくはピリジニウム(または他の塩)を強塩
基性陰イオン交換体で処理することKよって水酸化アル
キルトリメチルアンモニウムもしくはピリジニウム溶液
が得られるということも述べることができ、このことも
無水の溶剤例えばメタノール中で行なわなければならな
^。この後にまた。所望のカルボン酸で中和する。これ
らの方法は皆、非常に費用がかか夛、不経済であ夛、工
業的な要求に適さない。
ところで、前記の種類の界面活性剤の塩をハロゲンイオ
ンのない垣に製造することができるといりことが見いだ
された。
ンのない垣に製造することができるといりことが見いだ
された。
本発明は、水酸化アルカリとハロゲン化テトラアル中ル
アンモニクムもしくはハロゲン化アルキルピリジニウム
とを含有する水溶液を水不混和性溶剤中有機カルボンも
しくはスルホン酸の溶液と混合することKよって、ハロ
ゲン化物のな一第四級アンモニウム塩を製造する方法に
関する。
アンモニクムもしくはハロゲン化アルキルピリジニウム
とを含有する水溶液を水不混和性溶剤中有機カルボンも
しくはスルホン酸の溶液と混合することKよって、ハロ
ゲン化物のな一第四級アンモニウム塩を製造する方法に
関する。
本方法では、各相に二つの目的がある。
有機相は、第一に陰イオン部分をイオン対の中へ運び込
む疎水性成分(酸成分)のキャリヤー相であり、第二に
生じた第四級アンモニウム塩の受取フ相である。水は、
第一に陽イオン部分をイオン対の中へ運び込む水溶性ハ
ロゲン化第&!geアンモニウムのキャリヤー相である
とともに縮合音生ぜしめろ水酸化アルカリのキャリヤー
相で1)、第二に生じた水溶性ハロゲン化アルカリの受
取シ相である。
む疎水性成分(酸成分)のキャリヤー相であり、第二に
生じた第四級アンモニウム塩の受取フ相である。水は、
第一に陽イオン部分をイオン対の中へ運び込む水溶性ハ
ロゲン化第&!geアンモニウムのキャリヤー相である
とともに縮合音生ぜしめろ水酸化アルカリのキャリヤー
相で1)、第二に生じた水溶性ハロゲン化アルカリの受
取シ相である。
反応式は次の通シである(x=)−ログン化物イオン)
: (カチオン1−x−+アルカリ+−〇H)水相+(陰イ
オン−C)有機相和L (アルカリ” −X−+ H,O)水相+(カチオン1
−アニオン−)有機相。
: (カチオン1−x−+アルカリ+−〇H)水相+(陰イ
オン−C)有機相和L (アルカリ” −X−+ H,O)水相+(カチオン1
−アニオン−)有機相。
製造されるべき第四級アンモニウム塩は、ながんずく式
I R−にΦAe(1) 〔式中R1はC12〜C26−アルキルまたは’12〜
C26−アルケニルを意味し、pB −QQまたは−”
N (R2)、 4る式で示される基を意味し、R2は
C4〜C3−アルキルを意味し、Aeは次の式:%式% (式中R5はR6−R9−アルキルまたはR6−R9−
1ルケニルであル、R1とR1との炭素原子の合計は、
少なくとも21でなければならない); (式中Halはフッ素、塩素、臭素またはフッ素であシ
、R4は5,4,5もしくは6位の □c、c−
アルキル、C2〜C5−アルケニルまたはC4〜C6−
フルコキシであJ、R5は2位もしくは3位の水素また
はヒドロキシルであ夛、R6はaoo−tたはgo3−
であり、R7は水素またはメチルである) で示される陰イオンを意味する〕 で示される。
I R−にΦAe(1) 〔式中R1はC12〜C26−アルキルまたは’12〜
C26−アルケニルを意味し、pB −QQまたは−”
N (R2)、 4る式で示される基を意味し、R2は
C4〜C3−アルキルを意味し、Aeは次の式:%式% (式中R5はR6−R9−アルキルまたはR6−R9−
1ルケニルであル、R1とR1との炭素原子の合計は、
少なくとも21でなければならない); (式中Halはフッ素、塩素、臭素またはフッ素であシ
、R4は5,4,5もしくは6位の □c、c−
アルキル、C2〜C5−アルケニルまたはC4〜C6−
フルコキシであJ、R5は2位もしくは3位の水素また
はヒドロキシルであ夛、R6はaoo−tたはgo3−
であり、R7は水素またはメチルである) で示される陰イオンを意味する〕 で示される。
上記ハロゲン化第四級アンモニウム塩を製造する出発化
合物は、式…aおよび弐[1)R1−+1i(R2)、
H&((I[a): R,−Q<Z> Hat−(u
b)で示されるへロゲン化テトラアルキルアンモニクム
およびハロゲン化アルキルピリジニウムと、式1の陰イ
オンrに相当する遊離の有機カルボン酸およびスルホン
酸とである。本発明による方法のために、これらのカル
ボン酸およびスルホン酸を有機溶剤に溶解させる。有機
溶剤中の酸のl濃度は、5重量%から500重量%での
間、殊に10重量%から30重量%までの間であるべき
である。この濃度を得るためには、溶液を過熱する必要
があり得る。考えられる有機溶剤は、上記の酸が溶解す
るようなしかも水混和性のないような、反応成分に不活
性なすべての溶剤例えば炭化水素、ハロゲン化炭化水素
、エーテル、高級アルコールまたはケトン例えばメチル
イソブチルケトンである。それらの沸点は90℃以上で
なければならない。
合物は、式…aおよび弐[1)R1−+1i(R2)、
H&((I[a): R,−Q<Z> Hat−(u
b)で示されるへロゲン化テトラアルキルアンモニクム
およびハロゲン化アルキルピリジニウムと、式1の陰イ
オンrに相当する遊離の有機カルボン酸およびスルホン
酸とである。本発明による方法のために、これらのカル
ボン酸およびスルホン酸を有機溶剤に溶解させる。有機
溶剤中の酸のl濃度は、5重量%から500重量%での
間、殊に10重量%から30重量%までの間であるべき
である。この濃度を得るためには、溶液を過熱する必要
があり得る。考えられる有機溶剤は、上記の酸が溶解す
るようなしかも水混和性のないような、反応成分に不活
性なすべての溶剤例えば炭化水素、ハロゲン化炭化水素
、エーテル、高級アルコールまたはケトン例えばメチル
イソブチルケトンである。それらの沸点は90℃以上で
なければならない。
ハロゲン化第四級アンモニウムを水に1特に10ないし
6G、殊に20ないし40重量%の濃度で、溶解させる
。縮合を起こす水酸化アルカリ例えば水酸化ナトリウム
溶液を、陰イオンまたは陽イオンをもつ化合物と同じモ
ル量、同様に水相に入れる。このことは、固体の水酸化
アルカリを溶解させることによってまたは相当する量の
水酸化物を水溶液に加えることによって行なうことがで
きる。
6G、殊に20ないし40重量%の濃度で、溶解させる
。縮合を起こす水酸化アルカリ例えば水酸化ナトリウム
溶液を、陰イオンまたは陽イオンをもつ化合物と同じモ
ル量、同様に水相に入れる。このことは、固体の水酸化
アルカリを溶解させることによってまたは相当する量の
水酸化物を水溶液に加えることによって行なうことがで
きる。
本発明による方法の一つの変形では、酸の代シに直ちに
そのアルカリ塩を採用する。その場合、アルカリの添加
は不必要である。アルカリ塩は、該アルカリ塩の溶解度
次第で有機溶剤中へまたはハロゲン化アンモニウムと一
緒に水相中へ入れることができる。後者の場合、有機相
は純粋た溶剤からだけ成る。
そのアルカリ塩を採用する。その場合、アルカリの添加
は不必要である。アルカリ塩は、該アルカリ塩の溶解度
次第で有機溶剤中へまたはハロゲン化アンモニウムと一
緒に水相中へ入れることができる。後者の場合、有機相
は純粋た溶剤からだけ成る。
有機相と水相との量比は、平均で0.5 : 1ないし
2:1である。しかし、いずれか一方の成分の溶解度に
限界がある場合には、この比はそれぞれの方向に変わシ
得る。どんな場合でも、全成分がそのときどきの溶剤に
完全に溶解している必要がある。更K、全成分は、完全
に反応が行われるように、化学量論的な比率で存在しな
ければならない。
2:1である。しかし、いずれか一方の成分の溶解度に
限界がある場合には、この比はそれぞれの方向に変わシ
得る。どんな場合でも、全成分がそのときどきの溶剤に
完全に溶解している必要がある。更K、全成分は、完全
に反応が行われるように、化学量論的な比率で存在しな
ければならない。
反応のために、有機溶液を場合によっては高い温度で取
シ、水溶液を激しいかく拌のもとで加える。相を約20
〜30分間、加熱しながら激しく混合し、次に相の分離
を待った後に、二つの相を分離する。第4級アンモニウ
ム壇が低温で有機溶剤に溶解しにくい化合物であるとき
には、静止の際に第四級アンモニウム塩がまだ溶解した
ままであるような温度に調節しなければならない。
シ、水溶液を激しいかく拌のもとで加える。相を約20
〜30分間、加熱しながら激しく混合し、次に相の分離
を待った後に、二つの相を分離する。第4級アンモニウ
ム壇が低温で有機溶剤に溶解しにくい化合物であるとき
には、静止の際に第四級アンモニウム塩がまだ溶解した
ままであるような温度に調節しなければならない。
反応後、事実上ハロゲン化アルカリだけを含有している
水相を捨てる。水相がまだ第四級アンモニウム塩の一部
分を含んでいる場合には、有機溶剤で洗うことによって
これを取出すことができる。縮合生成物である第四級ア
ンモニウム塩を含有している有機相は、大抵まだハロゲ
ン化アルカリの残りを含有しておシ、この不純物を抽出
で水洗することによって除く。このことは、水で数回洗
い出すことによって(交差流抽出)または多段の向流抽
出によって行なうことができる。抽出のパラメーター(
相の量比、段数)は残金量に左右される。相が一層よく
合体するように、純水の代シに、腐食作用のない陰イオ
ンを含むアルカリ塩例えばNaHoosの非常に希薄な
水溶液を使用することができる。
水相を捨てる。水相がまだ第四級アンモニウム塩の一部
分を含んでいる場合には、有機溶剤で洗うことによって
これを取出すことができる。縮合生成物である第四級ア
ンモニウム塩を含有している有機相は、大抵まだハロゲ
ン化アルカリの残りを含有しておシ、この不純物を抽出
で水洗することによって除く。このことは、水で数回洗
い出すことによって(交差流抽出)または多段の向流抽
出によって行なうことができる。抽出のパラメーター(
相の量比、段数)は残金量に左右される。相が一層よく
合体するように、純水の代シに、腐食作用のない陰イオ
ンを含むアルカリ塩例えばNaHoosの非常に希薄な
水溶液を使用することができる。
第四級アンモニウム塩の精製後に、有機溶剤を(場合に
より減圧で)蒸留することによって除く。または、低温
で有機溶剤に少ししか溶解しないかまたは全く溶解しな
い生成物を冷却によって沈殿させ、このようにして単離
することができる。次KF液をじかに工程に再循環させ
る。
より減圧で)蒸留することによって除く。または、低温
で有機溶剤に少ししか溶解しないかまたは全く溶解しな
い生成物を冷却によって沈殿させ、このようにして単離
することができる。次KF液をじかに工程に再循環させ
る。
本発明による方法は、ノーロゲン化物イオンを含有して
いない界面活性剤の塩をたやすく製造することができる
。本方法では、有機相を水で洗い出すことKよって、少
量のハロゲン化アルカリの残りも確実に除去される。
いない界面活性剤の塩をたやすく製造することができる
。本方法では、有機相を水で洗い出すことKよって、少
量のハロゲン化アルカリの残りも確実に除去される。
゛以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。
例1
β−ヒドロキシナフトエ酸ヘキサデシルトリウム水溶液
と、メチルイソブチルケトン(MよりK)中2−ナフト
ール−3−カルボン酸(β−ヒドロキシナフトエ酸)の
溶液とを出発溶液として調製する。
と、メチルイソブチルケトン(MよりK)中2−ナフト
ール−3−カルボン酸(β−ヒドロキシナフトエ酸)の
溶液とを出発溶液として調製する。
216gの水酸化ナトリウムを890gの水に溶解させ
て6N水酸化ナトリウム溶液にし、この水酸化ナトリウ
ム溶液を(29,11%の濃度の)塩化ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム水溶液57859の中へ激しくか
く拌しながらそそぎ込み、均質にする。
て6N水酸化ナトリウム溶液にし、この水酸化ナトリウ
ム溶液を(29,11%の濃度の)塩化ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム水溶液57859の中へ激しくか
く拌しながらそそぎ込み、均質にする。
(99−の純度の)2−ナフトール−3−カルボン酸1
000gを5550.i9のMよりKに80〜85℃で
かく押下で完全に溶解させる。次に、この80℃の熱い
カルボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のア
ルカリ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反
応混合物を約50〜60℃で更に20分間激しくかく拌
し続ける(相を十分に混合することが必要である)。
000gを5550.i9のMよりKに80〜85℃で
かく押下で完全に溶解させる。次に、この80℃の熱い
カルボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のア
ルカリ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反
応混合物を約50〜60℃で更に20分間激しくかく拌
し続ける(相を十分に混合することが必要である)。
次K、同様に約50〜60℃で相が完全に分離するのを
待つ。Na0At含有水溶液を捨てる。99.3−の生
じたI(ABOllと28.4%の生じたNa1J と
を含有するMよりK溶液は、Naplを含有しているの
で、抽出装置の中へ入れるまで更に約50℃に保たなけ
ればならない。
待つ。Na0At含有水溶液を捨てる。99.3−の生
じたI(ABOllと28.4%の生じたNa1J と
を含有するMよりK溶液は、Naplを含有しているの
で、抽出装置の中へ入れるまで更に約50℃に保たなけ
ればならない。
6段の抽出装置でMよりK溶液/水=2/1の体積比で
水で洗うことによってN6CeがMよりK溶液から今度
は室温で洗い出される。それKよって99.99 %の
NylC7が除かれる。洗液によるHaBONの損失は
o、5%である。減圧蒸発で抽出物からMよりKを50
℃以下の温度で蒸発させると、純粋な物質が得られる。
水で洗うことによってN6CeがMよりK溶液から今度
は室温で洗い出される。それKよって99.99 %の
NylC7が除かれる。洗液によるHaBONの損失は
o、5%である。減圧蒸発で抽出物からMよりKを50
℃以下の温度で蒸発させると、純粋な物質が得られる。
収量: HABON 24489゜例2
β−ヒドロキシナフトエ酸a20−022−アルキル−
トリメチルアンモニウム(BOBON)の製造出発溶液
は、アルカリ性塩化トコシル−(エイコシル)−トリメ
チルアンモニウム水溶液およびメチルイソブチルケトン
(MよりK )中2−ナフトール−3−カルボン酸の溶
液である。
トリメチルアンモニウム(BOBON)の製造出発溶液
は、アルカリ性塩化トコシル−(エイコシル)−トリメ
チルアンモニウム水溶液およびメチルイソブチルケトン
(MよりK )中2−ナフトール−3−カルボン酸の溶
液である。
25909の塩化’20””22−アルキル−トリメチ
ルアンモニウム(工業用製品、湿気を含んでいる、有効
物質の含量80%±2チ)を9600gのH2Oに80
℃で溶解させ、この温度に保つ。
ルアンモニウム(工業用製品、湿気を含んでいる、有効
物質の含量80%±2チ)を9600gのH2Oに80
℃で溶解させ、この温度に保つ。
216gの水酸化ナトリウムと8909の水とから前も
って調製しておいた6N水酸化す) +3クム溶液を、
いまや激しくかく拌しながら加える。このアルカリ性塩
化第四級アンモニウム溶液も80℃に保たなければなら
ない。
って調製しておいた6N水酸化す) +3クム溶液を、
いまや激しくかく拌しながら加える。このアルカリ性塩
化第四級アンモニウム溶液も80℃に保たなければなら
ない。
1000gの2−ナフトール−3−カルボン酸を660
0gのMよりKに80〜85℃でかく押下で完全に溶解
させ、この溶液を80℃に保つ。この80℃の熱いカル
ボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のアルカ
リ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反応混
合物を約80℃で更4C20分間激しくかく拌し続ける
(相を十分に混合することが必要である)。次に同様に
70〜80℃で相が完全に分離するのを待つ。
0gのMよりKに80〜85℃でかく押下で完全に溶解
させ、この溶液を80℃に保つ。この80℃の熱いカル
ボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のアルカ
リ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反応混
合物を約80℃で更4C20分間激しくかく拌し続ける
(相を十分に混合することが必要である)。次に同様に
70〜80℃で相が完全に分離するのを待つ。
Na、C/含有水相を捨てる。99%の生じたDOBO
Nと104の生じたHa(34とを含有するMIBK相
は、NaC1o’A bを除くために水で洗わなければ
ならない。沈殿を阻止するために溶液を70℃から80
℃までの間の温度に保つ。
Nと104の生じたHa(34とを含有するMIBK相
は、NaC1o’A bを除くために水で洗わなければ
ならない。沈殿を阻止するために溶液を70℃から80
℃までの間の温度に保つ。
0.5 %の濃度のNaHOOs溶液を、よりよい合同
の効果のために、水で洗うのに使用する。6段の抽出装
置で、80℃で供給液/洗液=2/1の体積比で抽出に
より洗浄する。洗液によるDOBONの損失は1重量%
である。MよりK相のMail含量は洗浄によってNa
Cl Sj ”II/11から< o、o sq/1ま
で98.4−以上減少する。
の効果のために、水で洗うのに使用する。6段の抽出装
置で、80℃で供給液/洗液=2/1の体積比で抽出に
より洗浄する。洗液によるDOBONの損失は1重量%
である。MよりK相のMail含量は洗浄によってNa
Cl Sj ”II/11から< o、o sq/1ま
で98.4−以上減少する。
熱いMよりK溶液からDOBONを得るために、Mより
Kを減圧蒸発器で蒸留によって分離することができる。
Kを減圧蒸発器で蒸留によって分離することができる。
MよりK溶液を室温で冷却させる場合には、蒸留なしで
約96%のDOBONを沈殿で得ることができる。沈殿
したDOBONを戸数し、次にF液を蒸発させて残シを
得る。DOBONの残りを含んだMIBKP液は、新し
いバッチのだめの初期混合物として直ちに使用すること
ができる。DOBONの全収量は2780.pである。
約96%のDOBONを沈殿で得ることができる。沈殿
したDOBONを戸数し、次にF液を蒸発させて残シを
得る。DOBONの残りを含んだMIBKP液は、新し
いバッチのだめの初期混合物として直ちに使用すること
ができる。DOBONの全収量は2780.pである。
例3
β−ヒドロキシナフトエ酸オクタデシルトリメチルアン
モニウム(0BON )の製造出発溶液は、アルカリ性
塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム水溶液および
メチルイソブチルケトン(MよりK)中2−ナフトール
−3−カルボン酸の溶液である。
モニウム(0BON )の製造出発溶液は、アルカリ性
塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム水溶液および
メチルイソブチルケトン(MよりK)中2−ナフトール
−3−カルボン酸の溶液である。
1830gの塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム
を91509OH20に80℃で溶解させ、この温度に
保つ。216gの水酸化ナトリウムと89Q、i9の水
とから前もって調製しておいた6N水酸化ナトリウム溶
液を、いまや激しくかく拌しながら加える。このアルカ
リ性溶液も80℃に保たなけれとないない。
を91509OH20に80℃で溶解させ、この温度に
保つ。216gの水酸化ナトリウムと89Q、i9の水
とから前もって調製しておいた6N水酸化ナトリウム溶
液を、いまや激しくかく拌しながら加える。このアルカ
リ性溶液も80℃に保たなけれとないない。
(99チの純度の)2−ナフトール−3−カルボン酸1
000gを66009のMよりKに80〜85℃でかく
押下で完全に溶解させる。次K、この80℃の熱いカル
ボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のアルカ
リ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反応混
合物を約80℃で更に20分間激しくかく拌し続ける。
000gを66009のMよりKに80〜85℃でかく
押下で完全に溶解させる。次K、この80℃の熱いカル
ボン酸溶液の中へ、激しくかく拌しながら全部のアルカ
リ性塩化第四級アンモニウム溶液をそそぎ込む。反応混
合物を約80℃で更に20分間激しくかく拌し続ける。
次に同様に70〜80℃で相が完全に分離するのを待つ
(透明な相)。
(透明な相)。
Na0J含有水相を捨てる。99チの生じた0BONと
10%の生じたMailとを含有するMよりK相は、N
aRの残シを除くために水で洗わなければならない。沈
殿を阻止するために溶液を70℃から80℃までの間の
温度に保つ。
10%の生じたMailとを含有するMよりK相は、N
aRの残シを除くために水で洗わなければならない。沈
殿を阻止するために溶液を70℃から80℃までの間の
温度に保つ。
0.5%の濃度のNaYiOOs 溶液を、よりよい合
同の効果のために、水で洗うのに使用する。6段の抽出
装置で80℃で供給液/洗液=2/1の体積比で抽出に
よ)洗浄する。洗液による0BONの損失は1重量−で
ある。MIBK相のNa07含量は洗浄によってNaR
3,3s II9/9 から0.075q/11 まで
97.8 S以上減少する。MよりK溶液から0BON
を得るために、MよりEを減圧蒸発器で60℃以下の温
度で蒸留によって分離する。0BONの全収量は258
8gである。
同の効果のために、水で洗うのに使用する。6段の抽出
装置で80℃で供給液/洗液=2/1の体積比で抽出に
よ)洗浄する。洗液による0BONの損失は1重量−で
ある。MIBK相のNa07含量は洗浄によってNaR
3,3s II9/9 から0.075q/11 まで
97.8 S以上減少する。MよりK溶液から0BON
を得るために、MよりEを減圧蒸発器で60℃以下の温
度で蒸留によって分離する。0BONの全収量は258
8gである。
例4
ヘプタンスルホン酸ヘキサデシルトリメチルアンモニウ
ム(HAHB )の製造 ヘプタン−1−スルホン酸ナトリfyムSoagを98
5gの水に溶解させ、この溶液の中へ(29,11ql
Io濃1to )塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニ
ウム水溶液16209を加える。
ム(HAHB )の製造 ヘプタン−1−スルホン酸ナトリfyムSoagを98
5gの水に溶解させ、この溶液の中へ(29,11ql
Io濃1to )塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニ
ウム水溶液16209を加える。
次に、1500Mlのメチルイソブチルケトン(Mより
K )を加え、激しくかく拌しながら20分間80℃に
加熱する。相の分離後に、96%の](AH8と51
% f) NaCl、!:を含有スル有411 (MI
BK)相を、0.5−の濃度のNaHQOs溶液によっ
て室温で向流で洗浄する(6段、有機相/洗液=1の相
体積比)。MよりK相のl1aC4含量は洗浄によって
Na(J 7,42 rv/Iから0.091 W/j
iまで、即ち98.8 %減少する。HAHBの全収量
は643gである。
K )を加え、激しくかく拌しながら20分間80℃に
加熱する。相の分離後に、96%の](AH8と51
% f) NaCl、!:を含有スル有411 (MI
BK)相を、0.5−の濃度のNaHQOs溶液によっ
て室温で向流で洗浄する(6段、有機相/洗液=1の相
体積比)。MよりK相のl1aC4含量は洗浄によって
Na(J 7,42 rv/Iから0.091 W/j
iまで、即ち98.8 %減少する。HAHBの全収量
は643gである。
例5
サリチル酸ヘキサデシルトリメチルアンモニウム(HA
8A )の製造 360gのサリチル酸ナトリウムを117,9の水に溶
解させ、(29,11%の濃度の)塩化ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム水溶液2466gを加える。次1
11500*のメチルイソブチルケトンを加え、激しく
かく拌しながら20分間80℃に加熱する。相の分離後
に、98%のHA8Aと27 % (Q NaC4とを
含有−rる有機(MよりK)相を室温で、例4と同様に
向流で洗浄する。MよりK相のNaC1含量は洗浄によ
って6.711a9/jiから0.062119/ 7
7まで、即ち99.1 %減少する。HA8Aの全収量
は918gである。
8A )の製造 360gのサリチル酸ナトリウムを117,9の水に溶
解させ、(29,11%の濃度の)塩化ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム水溶液2466gを加える。次1
11500*のメチルイソブチルケトンを加え、激しく
かく拌しながら20分間80℃に加熱する。相の分離後
に、98%のHA8Aと27 % (Q NaC4とを
含有−rる有機(MよりK)相を室温で、例4と同様に
向流で洗浄する。MよりK相のNaC1含量は洗浄によ
って6.711a9/jiから0.062119/ 7
7まで、即ち99.1 %減少する。HA8Aの全収量
は918gである。
例6
β−ヒドロキシ−ナフトエ酸N−セチルピリジニウム(
0KBON )の製造 186gの2−ナフトール−3−カルボン酸(β−ヒト
四キシナフトエ酸)を80℃で1280Iのメチルイソ
ブチルケトンに溶解させ、このカルボン酸溶液の中へ8
0℃で、塩化N−セチルピリジニウム5511iと水1
040Iiとから成る水溶液を導入する。次に50℃に
冷却後、激しくかく拌しながら徐々に201.litの
6NNaOHを加え、この温度で相を沈殿させる前に系
を更に20分間50℃で混合する。相の分離後に、99
.2 % OCBBON ドア To ONaC1トを
含有するMよりK相を1重量−〇NaHOOs溶液によ
って向流で洗浄する(例4におけると同様の抽出条件)
。
0KBON )の製造 186gの2−ナフトール−3−カルボン酸(β−ヒト
四キシナフトエ酸)を80℃で1280Iのメチルイソ
ブチルケトンに溶解させ、このカルボン酸溶液の中へ8
0℃で、塩化N−セチルピリジニウム5511iと水1
040Iiとから成る水溶液を導入する。次に50℃に
冷却後、激しくかく拌しながら徐々に201.litの
6NNaOHを加え、この温度で相を沈殿させる前に系
を更に20分間50℃で混合する。相の分離後に、99
.2 % OCBBON ドア To ONaC1トを
含有するMよりK相を1重量−〇NaHOOs溶液によ
って向流で洗浄する(例4におけると同様の抽出条件)
。
有機(MIBK )相のNa1l含量は洗浄によって2
.9149/gから0,071ダ/gまで、即ち97.
6チ減少する。全収量は、C!II!BON 491.
9である。
.9149/gから0,071ダ/gまで、即ち97.
6チ減少する。全収量は、C!II!BON 491.
9である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第四級アンモニウム塩をハロゲン化テトラアルキル
アンモニウムもしくはハロゲン化アルキルピリジニウム
と有機カルボン酸もしくは有機スルホン酸とを反応させ
ることによって製造する方法において、水酸化アルカリ
とハロゲン化テトラアルキルアンモニウムもしくはハロ
ゲン化アルキルピリジニウムとを含有する水溶液を、水
不混和性溶剤中有機カルボン酸もしくは有機スルホン酸
の溶液と混合することを特徴とする方法。 2、式 R_1−K^■A^■ 〔式中R__1はC_1_2〜C_2_6−アルキルま
たはC_1_2〜C_2_6−アルケニルを意味し、K
^■は▲数式、化学式、表等があります▼または−^■
N(R__2)_3なる式で示される基を意味し、R_
2はC_1〜C_3−アルキルを意味し、A^■は次の
式: R_3COO^■またはR_3SO_3^■(式中R_
3はR_6〜R_9−アルキルまたはR_6〜R_9−
アルケニルであり、R_1とR_3との炭素原子の合計
は、少なくとも21でな ければならない); ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります▼
;▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Halにフッ素、塩素、臭素または ヨウ素であり、R_4は3、4、5もしくは6位のC_
1〜C_5−アルキル、C_2〜C_5−アルケニルま
たはC_1〜C_5−アルコキシであり、R_5は2位
もしくは3位の水素またはヒドロキシルであり、R_6
はCOO^−またはSO_3^−であり、R_7は水素
またはメチルである)で示される陰イオンを意味する〕 で示される第四級アンモニウム塩を製造する、特許請求
の範囲第1項記載の方法。 3、反応後、第四級アンモニウム塩を含有している有機
相からハロゲン化アルカリの残量を水で一工程もしくは
多工程で洗い出す、特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、有機相としてメチルイソブチルケトンを使用する、
特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、有機カルボン酸も有機スルホン酸もアルカリ塩の形
で取り、水酸化アルカリの添加を省く特許請求の範囲第
1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853516843 DE3516843A1 (de) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | Verfahren zur herstellung von halogenidfreien quaternaeren ammoniumsalzen |
DE3516843.9 | 1985-05-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61260045A true JPS61260045A (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=6270356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61103981A Pending JPS61260045A (ja) | 1985-05-10 | 1986-05-08 | ハロゲン化物を含有していない第四級アンモニウム塩の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0201055B1 (ja) |
JP (1) | JPS61260045A (ja) |
DE (2) | DE3516843A1 (ja) |
DK (1) | DK216686A (ja) |
FI (1) | FI861922A (ja) |
NO (1) | NO861859L (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009501166A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | アルキルスルホン酸オニウムの製造方法 |
JP2009501167A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | オニウム亜硫酸アルキル塩の製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE883437C (de) * | 1950-09-27 | 1953-07-16 | Philip Arthur Lincoln | Verfahren zur Herstellung von quaternaeren Ammoniumverbindungen |
-
1985
- 1985-05-10 DE DE19853516843 patent/DE3516843A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-05-02 DE DE8686106025T patent/DE3679230D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-05-02 EP EP86106025A patent/EP0201055B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-08 JP JP61103981A patent/JPS61260045A/ja active Pending
- 1986-05-08 FI FI861922A patent/FI861922A/fi not_active IP Right Cessation
- 1986-05-09 DK DK216686A patent/DK216686A/da not_active Application Discontinuation
- 1986-05-09 NO NO861859A patent/NO861859L/no unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009501166A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | アルキルスルホン酸オニウムの製造方法 |
JP2009501167A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-15 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | オニウム亜硫酸アルキル塩の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0201055B1 (de) | 1991-05-15 |
EP0201055A2 (de) | 1986-11-12 |
DK216686A (da) | 1986-11-11 |
FI861922A (fi) | 1986-11-11 |
FI861922A0 (fi) | 1986-05-08 |
EP0201055A3 (en) | 1987-10-14 |
NO861859L (no) | 1986-11-11 |
DE3679230D1 (de) | 1991-06-20 |
DK216686D0 (da) | 1986-05-09 |
DE3516843A1 (de) | 1986-11-20 |
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