JP2009286085A - パターン転写装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
スループットを向上させたパターン転写装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、パターンが形成されたモールド10をウエハ1上の樹脂60に押し付け、モールド10を樹脂60から離型することによってパターンをウエハ1に転写するパターン転写装置であって、モールド10の除電を行うイオナイザのノズル30、31と、モールド10の電位を検出する表面電位センサ70とを有し、イオナイザのノズル30、31は、表面電位センサ70により検出されたモールド10の電位が所定値以上の場合にモールド10の除電を行う。
【選択図】図1
Description
2:ウエハチャック
3:微動ステージ
4:XYステージ
5:ベース定盤
6:参照ミラー
7:レーザ干渉計
8a、8b:支柱
9:天板
10:モールド
11:モールドチャック
12:モールドチャックステージ
13:ガイドバープレート
14a、14b:ガイドバー
15a、15b:リニアアクチュエータ
16:UV光源
17:コリメータレンズ
18:樹脂滴下ノズル
20:ビームスプリッタ
21:撮像系
30、31、50、51:イオナイザのノズル
40:フォトイオナイザ
41:除電ステーション
60:樹脂
70:表面電位センサ
Claims (6)
- パターンが形成された型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離型することによって前記パターンを前記基板に転写するパターン転写装置であって、
前記型の除電を行う除電手段と、
前記型の電位を検出する電位検出手段とを有し、
前記除電手段は、前記電位検出手段により検出された前記型の電位が所定値以上の場合に前記型の除電を行うことを特徴とするパターン転写装置。 - パターンが形成された型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離型することによって前記パターンを前記基板に転写するパターン転写装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
該ステージに設けた前記型の除電を行う除電手段とを有し、
前記ステージにより前記除電手段を移動させながら前記型の除電を行うことを特徴とするパターン転写装置。 - 前記除電手段は、イオン化気体を噴出する噴出手段と、前記イオン化気体を回収する回収手段を有することを特徴とする請求項1又は2記載のパターン転写装置。
- 前記除電手段は、前記ステージの上に配置されていることを特徴とする請求項2記載のパターン転写装置。
- パターンが形成された型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離型することによって前記パターンを前記基板に転写するパターン転写装置であって、
前記型又は前記基板の交換のための搬送時に前記型又は前記基板の除電を行う除電手段を有し、
前記除電手段は、前記型又は前記基板の搬送経路に設けられた除電領域で除電を行うことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一に記載のパターン転写装置を用いて基板にパターンを転写するステップと、
前記パターンが転写された前記基板をエッチングするステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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