JP2000082732A - 静電気除去用ロボットハンド - Google Patents
静電気除去用ロボットハンドInfo
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- JP2000082732A JP2000082732A JP25235698A JP25235698A JP2000082732A JP 2000082732 A JP2000082732 A JP 2000082732A JP 25235698 A JP25235698 A JP 25235698A JP 25235698 A JP25235698 A JP 25235698A JP 2000082732 A JP2000082732 A JP 2000082732A
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- Japan
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- gas
- ionization
- hand
- ionized gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 薄型基板を搬送する搬送ロボットのハンドに
静電気除去機能をもたせることにより、静電気障害の発
生を防止すること。 【解決手段】 ハンド１の保持部４、４の上面及び下面
には、複数のイオン化気体噴出孔７が形成されている。
これらのイオン化気体噴出孔７は、複数系統に分割され
ており、各系統毎に配管８及びイオン化気体を発生する
イオナイザー９が設けられる。イオナイザー９はハンド
１の基部３に設けられ、＋電極と−電極間に高電圧を印
加し放電によりイオン化気体を発生するよう構成され
る。イオナイザー９には、発生したイオン化気体をイオ
ン化気体噴出孔７まで圧送するための圧送用気体が流入
され、イオン化気体は圧送用気体によってイオン化気体
噴出孔７まで圧送され、イオン化気体噴出孔７から勢い
をもって噴き出される。
静電気除去機能をもたせることにより、静電気障害の発
生を防止すること。 【解決手段】 ハンド１の保持部４、４の上面及び下面
には、複数のイオン化気体噴出孔７が形成されている。
これらのイオン化気体噴出孔７は、複数系統に分割され
ており、各系統毎に配管８及びイオン化気体を発生する
イオナイザー９が設けられる。イオナイザー９はハンド
１の基部３に設けられ、＋電極と−電極間に高電圧を印
加し放電によりイオン化気体を発生するよう構成され
る。イオナイザー９には、発生したイオン化気体をイオ
ン化気体噴出孔７まで圧送するための圧送用気体が流入
され、イオン化気体は圧送用気体によってイオン化気体
噴出孔７まで圧送され、イオン化気体噴出孔７から勢い
をもって噴き出される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、静電気除去用ロボ
ットハンド、詳しくは、半導体ウエハ、ガラス基板等の
薄型基板を搬送する搬送ロボットにおいて、薄型基板に
帯電した静電気を除去して薄型基板を保持することを可
能にする静電気除去用ロボットハンドに関する。
ットハンド、詳しくは、半導体ウエハ、ガラス基板等の
薄型基板を搬送する搬送ロボットにおいて、薄型基板に
帯電した静電気を除去して薄型基板を保持することを可
能にする静電気除去用ロボットハンドに関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】半導体や液晶表示器の
製造工程においては、薄型基板に帯電した静電気の放電
により素子が破壊されたり、電磁波ノイズの発生により
プロセス装置やロボットが誤作動するなどの静電気障害
が発生するおそれがある。
製造工程においては、薄型基板に帯電した静電気の放電
により素子が破壊されたり、電磁波ノイズの発生により
プロセス装置やロボットが誤作動するなどの静電気障害
が発生するおそれがある。
【０００３】本発明は、薄型基板を搬送する搬送ロボッ
トのハンドに静電気除去機能をもたせることにより、上
記静電気障害の発生を防止することを目的とする。
トのハンドに静電気除去機能をもたせることにより、上
記静電気障害の発生を防止することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の静電気除去用ロ
ボットハンドは、イオン化気体噴出孔を有し、該イオン
化気体噴出孔からイオン化気体が噴き出されることを特
徴とする。
ボットハンドは、イオン化気体噴出孔を有し、該イオン
化気体噴出孔からイオン化気体が噴き出されることを特
徴とする。
【０００５】ここで、当該ハンドの基部に、イオン化気
体を発生するイオナイザーが配設されるとともに、該イ
オナイザーで発生したイオン化気体は、コンプレッサー
によって加圧された圧送用気体によって前記イオン化気
体噴出孔まで圧送され、該イオン化気体噴出孔から噴き
出されることが好ましい。
体を発生するイオナイザーが配設されるとともに、該イ
オナイザーで発生したイオン化気体は、コンプレッサー
によって加圧された圧送用気体によって前記イオン化気
体噴出孔まで圧送され、該イオン化気体噴出孔から噴き
出されることが好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明による静電気除去用
ロボットハンドの実施形態を図面に基づいて説明する。
ロボットハンドの実施形態を図面に基づいて説明する。
【０００７】図１は、一実施形態に係る静電気除去用ロ
ボットハンドの平面図を示す。
ボットハンドの平面図を示す。
【０００８】図１に示すハンド１は、薄型基板としての
ガラス基板２を搬送するための搬送ロボットのハンドで
あり、図示しない機台及びこの機台の上部に屈伸可能に
配設されるアームとともに搬送ロボットの構成要素とな
り、上記アームの上部に配設されている。
ガラス基板２を搬送するための搬送ロボットのハンドで
あり、図示しない機台及びこの機台の上部に屈伸可能に
配設されるアームとともに搬送ロボットの構成要素とな
り、上記アームの上部に配設されている。
【０００９】このハンド１は、基部３と、この基部３か
ら略平行に延設された一対の保持部４、４とを備える。
各保持部４の上面には、複数の吸着孔５及び吸着パッド
６が設けられている。各吸着孔５は、図示しない配管を
介して図示しない真空ポンプに接続され、保持部４の上
面に載置されたガラス基板２を真空吸着する。なお、こ
の配管には電磁弁が配設され、この電磁弁の開弁、閉弁
により、真空ポンプと吸着孔５との連通、遮断が制御さ
れる。
ら略平行に延設された一対の保持部４、４とを備える。
各保持部４の上面には、複数の吸着孔５及び吸着パッド
６が設けられている。各吸着孔５は、図示しない配管を
介して図示しない真空ポンプに接続され、保持部４の上
面に載置されたガラス基板２を真空吸着する。なお、こ
の配管には電磁弁が配設され、この電磁弁の開弁、閉弁
により、真空ポンプと吸着孔５との連通、遮断が制御さ
れる。
【００１０】さらに、各保持部４の上面及び下面には、
複数のイオン化気体噴出孔７が形成されている。これら
のイオン化気体噴出孔７の形成位置は、図示しないガラ
ス基板収納用カセット内にハンド１を侵入させ、ハンド
１の上面及び下面からイオン化気体を噴出させたとき、
この噴き出されたイオン化気体が、ハンド１の上方及び
下方に位置するガラス基板２の下面及び上面の全面に略
均等に吹き付けられることとなる位置関係に基づいて決
定される。
複数のイオン化気体噴出孔７が形成されている。これら
のイオン化気体噴出孔７の形成位置は、図示しないガラ
ス基板収納用カセット内にハンド１を侵入させ、ハンド
１の上面及び下面からイオン化気体を噴出させたとき、
この噴き出されたイオン化気体が、ハンド１の上方及び
下方に位置するガラス基板２の下面及び上面の全面に略
均等に吹き付けられることとなる位置関係に基づいて決
定される。
【００１１】また、これらのイオン化気体噴出孔７は、
複数系統に分割されており、各系統毎に配管８及びイオ
ン化気体を発生するイオナイザー９が設けられる。イオ
ナイザー９はハンド１の基部３に設けられ、＋電極と−
電極間に高電圧を印加し放電によりイオン化気体を発生
するよう構成される。イオナイザー９には、発生したイ
オン化気体をイオン化気体噴出孔７まで圧送するための
圧送用気体が流入され、イオン化気体は圧送用気体によ
ってイオン化気体噴出孔７まで圧送され、イオン化気体
噴出孔７から勢いをもって噴き出される。この圧送用気
体は、コンプレッサー１０により加圧された窒素ガス又
はドライエアー等不活性ガスであり、フィルター１１及
び配管１２を経てイオナイザー９に供給される。また、
圧送用気体の配管１２には電磁弁１３及び圧力センサ１
４が配設され、この圧力センサ１４及び電磁弁１３にコ
ントローラ１５が電気的に接続されている。
複数系統に分割されており、各系統毎に配管８及びイオ
ン化気体を発生するイオナイザー９が設けられる。イオ
ナイザー９はハンド１の基部３に設けられ、＋電極と−
電極間に高電圧を印加し放電によりイオン化気体を発生
するよう構成される。イオナイザー９には、発生したイ
オン化気体をイオン化気体噴出孔７まで圧送するための
圧送用気体が流入され、イオン化気体は圧送用気体によ
ってイオン化気体噴出孔７まで圧送され、イオン化気体
噴出孔７から勢いをもって噴き出される。この圧送用気
体は、コンプレッサー１０により加圧された窒素ガス又
はドライエアー等不活性ガスであり、フィルター１１及
び配管１２を経てイオナイザー９に供給される。また、
圧送用気体の配管１２には電磁弁１３及び圧力センサ１
４が配設され、この圧力センサ１４及び電磁弁１３にコ
ントローラ１５が電気的に接続されている。
【００１２】次に、上記のように構成されたハンド１の
使用方法について説明する。
使用方法について説明する。
【００１３】まず、ハンド１をガラス基板収納用カセッ
トに正対させる。そして、ハンド１を前進させ、この前
進途中から、あるいは、カセットへの侵入後に、コント
ローラ１５からの開弁信号により電磁弁１３を開弁させ
る。この電磁弁１３が開弁すると、コンプレッサー１０
により加圧された圧送用気体はイオナイザー９に供給開
始され、圧送用気体によりイオン化気体はイオン化気体
噴出孔７まで圧送され、このイオン化気体噴出孔７から
イオン化気体が噴き出される。この噴き出されたイオン
化気体は、ハンド１の上方及び下方に位置するガラス基
板２の下面及び上面に吹き付けられ、ガラス基板２に帯
電している静電気を除去する作用をする。その後は、電
磁弁１３を閉弁させてイオン化気体の噴出を終了させ、
今度は、真空ポンプ側の電磁弁を開弁させ、吸着孔５に
吸着力を発生させ、ハンド１を上昇させてガラス基板２
をハンド１の保持部４に吸着可能にする。
トに正対させる。そして、ハンド１を前進させ、この前
進途中から、あるいは、カセットへの侵入後に、コント
ローラ１５からの開弁信号により電磁弁１３を開弁させ
る。この電磁弁１３が開弁すると、コンプレッサー１０
により加圧された圧送用気体はイオナイザー９に供給開
始され、圧送用気体によりイオン化気体はイオン化気体
噴出孔７まで圧送され、このイオン化気体噴出孔７から
イオン化気体が噴き出される。この噴き出されたイオン
化気体は、ハンド１の上方及び下方に位置するガラス基
板２の下面及び上面に吹き付けられ、ガラス基板２に帯
電している静電気を除去する作用をする。その後は、電
磁弁１３を閉弁させてイオン化気体の噴出を終了させ、
今度は、真空ポンプ側の電磁弁を開弁させ、吸着孔５に
吸着力を発生させ、ハンド１を上昇させてガラス基板２
をハンド１の保持部４に吸着可能にする。
【００１４】上述した実施形態では、静電気除去系統と
真空吸着系統とを完全に分離独立させた構成を採用して
いるが、図２に示すように、イオン化気体噴出孔７と吸
着孔５とを共通化させるとともにこれらの孔５、７に連
通する配管８の一部を共通化させ、この配管８の途中で
静電気除去系統Ａと真空吸着系統Ｂとに分岐させる構成
を採用することもできる。
真空吸着系統とを完全に分離独立させた構成を採用して
いるが、図２に示すように、イオン化気体噴出孔７と吸
着孔５とを共通化させるとともにこれらの孔５、７に連
通する配管８の一部を共通化させ、この配管８の途中で
静電気除去系統Ａと真空吸着系統Ｂとに分岐させる構成
を採用することもできる。
【００１５】また、イオナイザー９は、＋イオン専用、
−イオン専用のものを対で使用するようにしてもよい。
また、本発明は、真空吸着方式のハンドに限定されるも
のではなく、所謂落とし込み式のハンドなどにも十分に
適用できることはいうまでもない。
−イオン専用のものを対で使用するようにしてもよい。
また、本発明は、真空吸着方式のハンドに限定されるも
のではなく、所謂落とし込み式のハンドなどにも十分に
適用できることはいうまでもない。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の静電気除
去用ハンドによると、イオン化気体噴出孔を設け、この
イオン化気体噴出孔からイオン化気体を噴き出すよう構
成したため、この噴き出されたイオン化気体によって、
ハンドの周辺に位置する薄型基板に帯電している静電気
を除去することができる。
去用ハンドによると、イオン化気体噴出孔を設け、この
イオン化気体噴出孔からイオン化気体を噴き出すよう構
成したため、この噴き出されたイオン化気体によって、
ハンドの周辺に位置する薄型基板に帯電している静電気
を除去することができる。
【００１７】また、ハンドの基部に、イオン化気体を発
生するイオナイザーを配設するとともに、このイオナイ
ザーで発生したイオン化気体を、コンプレッサーによっ
て加圧された圧送用気体によってイオン化気体噴出孔ま
で圧送することにより、イオン化気体をイオン化気体噴
出孔から勢いをもって噴出させることができ、したがっ
て、イオン化気体が薄型基板まで十分に到達し、除電効
果の向上を図ることができる。
生するイオナイザーを配設するとともに、このイオナイ
ザーで発生したイオン化気体を、コンプレッサーによっ
て加圧された圧送用気体によってイオン化気体噴出孔ま
で圧送することにより、イオン化気体をイオン化気体噴
出孔から勢いをもって噴出させることができ、したがっ
て、イオン化気体が薄型基板まで十分に到達し、除電効
果の向上を図ることができる。
【図１】本発明の一実施形態に係る静電気除去用ロボッ
トハンドの平面図である。
トハンドの平面図である。
【図２】ロボットハンドの変形例を示す平面図である。
１ ハンド ３ 基部 ７ イオン化気体噴出孔 ９ イオナイザー １０ コンプレッサー
フロントページの続き Ｆターム(参考） 3F061 AA01 BA03 BE05 BF00 DB04 DB06 5F031 CA05 GA02 GA08 GA24 NA04 PA21
Claims (2)
- 【請求項１】 イオン化気体噴出孔を有し、該イオン化
気体噴出孔からイオン化気体が噴き出されることを特徴
とする静電気除去用ロボットハンド。 - 【請求項２】 請求項１において、当該ハンドの基部
に、イオン化気体を発生するイオナイザーが配設される
とともに、該イオナイザーで発生したイオン化気体は、
コンプレッサーによって加圧された圧送用気体によって
前記イオン化気体噴出孔まで圧送され、該イオン化気体
噴出孔から噴き出されることを特徴とする静電気除去用
ロボットハンド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25235698A JP2000082732A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 静電気除去用ロボットハンド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25235698A JP2000082732A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 静電気除去用ロボットハンド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000082732A true JP2000082732A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17236163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25235698A Pending JP2000082732A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 静電気除去用ロボットハンド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000082732A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002026110A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 除電機能付き基板搬送アーム |
| KR100749546B1 (ko) | 2006-07-04 | 2007-08-14 | 세메스 주식회사 | 반도체 기판의 이송 장치, 기판 처리 장치, 그리고 이를이용한 기판의 온도 제어 방법 |
| US7597774B2 (en) | 2002-03-19 | 2009-10-06 | Fujitsu Limited | Apparatus and method for fabricating bonded substrate |
| JP2009286085A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Canon Inc | パターン転写装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009302351A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載機構及び被処理体の処理システム |
| CN103029988A (zh) * | 2011-09-28 | 2013-04-10 | 株式会社安川电机 | 机械手以及基板搬送装置 |
-
1998
- 1998-09-07 JP JP25235698A patent/JP2000082732A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002026110A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 除電機能付き基板搬送アーム |
| US7597774B2 (en) | 2002-03-19 | 2009-10-06 | Fujitsu Limited | Apparatus and method for fabricating bonded substrate |
| US7704348B2 (en) | 2002-03-19 | 2010-04-27 | Fujitsu Limited | Apparatus and method for fabricating bonded substrate |
| US7963308B2 (en) | 2002-03-19 | 2011-06-21 | Fujitsu Limited | Apparatus and method for fabricating bonded substrate |
| US8268113B2 (en) | 2002-03-19 | 2012-09-18 | Fujitsu Limited | Apparatus and method for fabricating bonded substrate |
| KR100749546B1 (ko) | 2006-07-04 | 2007-08-14 | 세메스 주식회사 | 반도체 기판의 이송 장치, 기판 처리 장치, 그리고 이를이용한 기판의 온도 제어 방법 |
| JP2009286085A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Canon Inc | パターン転写装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009302351A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載機構及び被処理体の処理システム |
| TWI495032B (zh) * | 2008-06-13 | 2015-08-01 | Tokyo Electron Ltd | 被處理體的移載機構及被處理體的處理系統 |
| CN103029988A (zh) * | 2011-09-28 | 2013-04-10 | 株式会社安川电机 | 机械手以及基板搬送装置 |
| JP2013074112A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Yaskawa Electric Corp | ハンドおよび基板搬送装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040916 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Effective date: 20040916 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041117 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20041117 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |