JP2009283477A - 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー - Google Patents

電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー Download PDF

Info

Publication number
JP2009283477A
JP2009283477A JP2009204243A JP2009204243A JP2009283477A JP 2009283477 A JP2009283477 A JP 2009283477A JP 2009204243 A JP2009204243 A JP 2009204243A JP 2009204243 A JP2009204243 A JP 2009204243A JP 2009283477 A JP2009283477 A JP 2009283477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
heater
gas
electron beam
heating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009204243A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5119224B2 (ja
Inventor
Norie Yaguchi
紀恵 矢口
Takeo Ueno
武夫 上野
Motohide Ukiana
基英 浮穴
Takahito Hashimoto
隆仁 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Hitachi High Tech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp, Hitachi High Tech Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2009204243A priority Critical patent/JP5119224B2/ja
Publication of JP2009283477A publication Critical patent/JP2009283477A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5119224B2 publication Critical patent/JP5119224B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】電子顕微鏡で試料の加熱時のガスとの反応過程をリアルタイムで観察する際に起こる、ガスによる鏡体内の真空の悪化や、加熱によるヒーターの伸びからくる試料ドリフトを解決し、高分解能観察を可能にする。
【解決手段】試料へのガス供給手段に対向してガス排気手段を設け、真空低下を最短時間にとどめた。また、試料を付着させたヒーターをガス導入管内に設け、ガスの鏡体への流出を抑制した。ヒーターの伸びの低減策として、電子線装置用試料ホルダーもしくは電子線装置に、ヒーターの張力調整手段を設けた。
【選択図】 図1

Description

本発明は、電子線を本発明は、電子線を用いて試料の観察を行う電子線装置および電子線装置用試料ホルダーに関し、試料の高温でのガス反応のプロセスをリアルタイムで原子レベルの高分解能観察が可能な電子線装置に関する。
電子顕微鏡等の電子線装置により、試料を高温でガスと反応させ、その様子をリアルタイムで観察するものとして、試料を加熱するヒーターに向かってガスを吹き付けるためのキャピラリーチューブを設けた試料ホルダーを電子顕微鏡等に装着して高温でのガス反応を観察する例が特許文献1に記載されている。また、ガスは横から導入しているが、試料ホルダーに電子線通過用の開口が上下にあるものが特許文献2に記載されている。
特開2003−187735号公報 特開昭51−267号公報
しかしながら、特許文献1の試料ホルダーを用いると、導入されるガスにより鏡体の真空度が低下するという問題があった。また、特許文献1および2のホルダーでは、試料を付着させたヒーターは反応時の加熱により伸びが生じ試料ドリフトが発生する場合があった。これらの理由により、従来の試料ホルダーでは高温での試料のガス反応過程を高分解能像観察することが困難であった。本発明の課題は上記のような問題を解決し、従来法では観察が困難であった試料の高温でのガス反応の過程を原子レベルで観察することが可能な電子線装置及び電子線装置用試料ホルダーを提供することにある。
上記課題の解決のため、第一にガス導入管とガス排気管を試料を介して対向する位置に設けた。また、別の解決方法として、ヒーターをガス導入管の中に設けることにより、ガスが鏡体内に出ることを抑制し得る構造とした。さらに前記ガス導入管に設けられた電子線通過用の開口に膜を設け、よりガスを外に出さない構造とした。ヒーターの伸びの低減策として、電子線装置用試料ホルダーもしくは電子線装置に、ヒーター張力調整手段を設けた。また、加熱時のヒーターの伸びを計算し、伸び分だけヒーターを引っ張る手段を設けた。
ガス導入管とガス排気管を試料を介して対向する位置に設けることにより、導入されたガスを排気管に導くことができ、ガスによる試料室内の真空低下時間を最短にすることができる。このことにより、試料室内に放出されたガスに電子ビームがあたることで電子ビーム径がひろがるのを防ぐことができる。その結果電子ビームを細く絞ることができるので高分解能観察が可能になる。もしくは、ヒーターをガス導入管の中に設けることで、ガスを導入管から試料室内に出るのを抑制することができるため、上記と同様の効果が得られる。また、ヒーターの張力を調整する手段を備えることにより、加熱時のヒーターの伸びを低減し、ヒーターの伸びにより発生する試料ドリフトを抑えられる。
一実施例である電子線装置の基本構成図。 一実施例である電子線装置鏡体および試料ホルダー。 一実施例である電子線装置用試料ホルダー。 一実施例である電子線装置鏡体および試料ホルダー。 一実施例である電子線装置用試料ホルダー。 一実施例である電子線装置鏡体および試料ホルダー。 一実施例である電子線装置鏡体および試料ホルダー。 一実施例であるヒーター張力調整手段つき試料ホルダー。 一実施例であるヒーター張力調整手段つき試料ホルダー。 一実施例であるヒーター弛み算出手段つき電子線装置用ホルダー動作説明図。
図1に本発明の第一の実施例を示す。電子線装置1の鏡体は、電子銃2,コンデンサレンズ3,対物レンズ4,投射レンズ5により構成されている。コンデンサレンズ3,対物レンズ4の間には試料ホルダー6が挿入される。投射レンズ5の下方には、蛍光板7が、蛍光板7の下にはTVカメラ8が装着されている。TVカメラ8は、信号増幅器9を介し画像表示部10に接続されている。電子顕微鏡用試料ホルダー6の試料加熱用ヒーター11は電子線装置1外に配線を介し加熱電源12と接続されている。図示しない試料13は加熱用ヒーター11に直接付着させる。また試料13上方には、試料13にガスを吹き付けられるようガス導入管14が装着されている。ガス導入管14は、ガス圧コントロールバルブ15a,15bと流量計16a,16bを介し、ガスボンベ17に連結されている。ガス導入管14に試料を挟んで対向した位置に排気口19を備え、電子線装置1外部の真空ポンプに接続されている。ここで、真空ポンプは鏡体の真空ポンプと共用であってもよい。
ガス導入管14からホルダーの開口を通り試料13に噴出されたガスは、ホルダーの開口から排気口19により排気されるため、電子線装置1の真空低下を最短時間にとどめることができる。その結果、鏡体内のガスに電子ビームが当たり、電子ビーム径がひろがるのを防ぐことが可能である。それゆえ、ビーム径を細く絞ることができるので高分解能観察ができる。また、ガスが確実に試料と接触してから排気口に誘導されるので、効率よく試料にガスを当てることができ、反応効率をあげることができる。また、排気口,排気管および真空ポンプは試料ホルダー6とは機械的に非接触であるため試料の振動要因を排除することが可能である。さらに、反応後もしくは反応しなかったガスが鏡体内を汚染することも防ぐことができる。
電子銃2から発生した電子線18はコンデンサレンズにより収束され試料13に照射される。電子線18は試料ホルダーのガスと共通の開口を通過し、試料13を透過して対物レンズ4により結像され、投射レンズ5により拡大、蛍光板7上に投影される。または、蛍光板7を持ち上げ、TVカメラ8に投影し、表示部10に透過像が表示される。観察時に試料加熱用ヒーター11に通電することにより、試料13の温度が上昇する。試料温度の制御は加熱電源12において、ヒーター11への印加電圧を調整することにより可能である。また、ガス導入管14から、試料13にガスを噴射することにより高温でのガスと試料の反応状態を観察することができる。ガス流量は、ガス圧コントロールバルブ15および流量計16により調整する。
ここで、図2に示すように異なるガスが充填された複数のボンベを接続したガス導入管を複数設ければ、複数種類のガスとの反応の様子を観察することが可能である。また図3のようにヒーターを着脱可能にすれば、試料の交換が容易に行える。この構成によればヒーター11の両端はホルダー6に埋め込まれ、加熱電源12に接続されている電極25に巻きつけられて固定される。ヒーター11を外す場合は、電極25ごと外してもよいし、ヒーター11のみを電極25から外してもよい。
続いて第二の実施例について説明する。図4に示すように、試料ホルダー6にはヒーターに直接付着させた試料13を加熱するためのヒーター11が装着されており、加熱電源12が接続されている。ヒーター11はガスを流すガス導入管14内に存在し、ガス導入管14には観察のための電子線通過用の開口22を設ける。このような構造をとることにより、鏡体内に漏れるガス量を低減させることができ、高真空を保つことができるため第一の実施例に示したのと同様の効果が得られる。また、ガスの通路内に試料が存在するため、確実かつ効率的にガスと試料を反応させることができる。さらに、ヒーター11に通電した時の発熱をガス導入管14内に閉じ込め内壁からの熱反射効果により少ない消費電力で高温加熱を行うことが可能となる。
ここで、電子線通過用の開口22に、図示しない膜を設けることにより、鏡体内に漏れるガス量をさらに低減することが可能である。これにより、試料の膜への蒸着や、膜に載せた試料への粉体試料の蒸着現象などを観察することもできる。また、図4の構成において、図5のようにヒーターまたはガス導入管、もしくはその両方を着脱可能にすれば、試料やガスの交換が容易に行える。
図5(a)にヒーター11およびガス導入管14の一部を着脱可能にした場合の実施例を示す。内部にヒーター11を配するガス導入管14a部分は分離された状態であり、ヒーター11の両端は導入管の分離された部分14aからホルダー6に設けられたヒーター支持部24に巻きつけられ電極25に固定される。電極25はホルダー6に埋め込まれ、加熱電源12に接続されている。分離されたガス導入管14aの中央、電子線18が通過する部分には電子線通過用の開口22が設けてある。ガス導入側の図示しないガスボンベ17に接続されている導入管先端14bはヒーターに付着させた図示しない試料13部分に効率よくガス導入可能なように口径を分離されたガス導入管14a径より小さくしてある。また、効率よくガスが排気されるように、図示しない真空ポンプ21に接続されたガス導入管端部14cは、分離されたガス導入管14a径より大きくしてある。
図5(b)に分離されたガス導入管14aの固定部分の断面図を示す。分離されたガス導入管14aはホルダー6に設けられた固定バネ26により上方から押し込むことによりホルダー6に固定される。ここで、電子線18通路周辺の分離されたガス導入管14aの部分には、非磁性材の管を使用することにより、レンズ周辺の磁場への影響を低減し、上記以外のガス導入管14b、およびガス排気管14cには緩衝材を用いることにより振動要因を排除するようにしてもよい。
図6(a),図6(b),図6(c),図6(d)に第三の実施例である電子線装置1鏡体およびガス導入型試料加熱ヒーター27を示す。試料ホルダー6には、ヒーター11とガス導入管が一体化した形状で装着されている。図6(b)に示すように、ヒーター27の電子線18通過領域は螺旋状となっており、粉体試料13は直接ヒーター27に付着させ、ヒーター27に通電することにより、試料13を加熱する。ヒーター27の電子線18通過付近、すなわち観察領域には、直径数ミクロンの微細孔28が無数にあいており、各微細孔28からガスが噴出し試料13と反応する状況を観察することが可能である。この微細孔28は集束イオンビーム(FIB:Focused Ion Beam)加工装置を用い作製してもよい。
図6(c),図6(d)に脱着可能なチューブ状ヒーター29を示す。チューブ状ヒーター29はガス導入部およびガス排出部から分離されており、支持用バネ30に差し込むことにより固定される。支持用バネ30は電極となっており、外部の加熱電源12と接続されることにより、通電される。また、ヒーター29が螺旋状の観察領域近傍の試料ホルダー6はヒーター29との接触が無いようにフレーム近傍のみを残す形状となっている。これにより、実験ごとに容易に試料およびヒーター29を交換することが可能である。
図7(a),図7(b),図7(c),図7(d)に第四の実施例である電子線装置1鏡体および試料加熱ヒーター11を示す。図7(a)に電子線装置1鏡体を示す。ガス導入管14は試料支持および加熱のためのヒーター11の螺旋部分の中央を通過する形状とする。図7(b)に試料支持部近傍を示す。ヒーター11螺旋部分には試料13が直接付着している。ヒーター11は加熱電源12に接続されている。また、ヒーター11の螺旋状の部分の中央を通過するようにガス導入管14が配され、ガス導入管14には多数の微細孔28を設けてある。これにより、ヒーター11についた試料に対し、満遍なくガスが噴射され、ガス導入管14より噴出するガスとヒーター11に付着した試料13の高温での反応を観察することが可能である。
図7(c)にヒーター11とガス導入管14を脱着可能とした場合の実施例を示す。ヒーター11は螺旋状でその両端を電極25に取り付けられる構造となっている。ガス導入管14aは、図7と同様に分離されており、ヒーター11の螺旋状の部分の中心を通過するように支持用バネ30に固定される。電極25の形状は図7(d)に示すように、電極25が容易に取り付けられやすいように、溝の表面部分は開口した形状となっており、途中はヒーター11径よりやや大きめの溝を設けており、固定しやすいように、溝の終端部は途中の部分より径の大きな溝を設けている。ヒーター11は溝に差し込むだけで、固定され、さらに電極25に巻きつけることによって振動や熱ドリフトなどの影響を低減できる(図7e)。
次に第五の実施例について説明する。図8は、加熱時のヒーターの伸びをとるためのヒーター張力調整手段付き電子線装置用試料ホルダーの一例である。図8(a)が斜視図、図8(b)はヒーター張力調整手段近傍の断面図である。電極移動手段31及び固定板32が導電体であり、通電できるよう加熱電源と接続されている。電極25は電極移動手段31に固定されており、電極移動手段31にはネジ穴33を数箇所設けている。電極移動手段31の端部は固定板32の下に位置している。固定板32には固定用ネジ34が装着されており、電極移動手段31に設けられたネジ穴33に固定される。ネジ34をはめ込むネジ穴33の位置を矢印方向に移動し、別のネジ穴に固定することにより、ヒーターに一定の張力を与える事ができ、ヒーターの伸びにより生じる試料ドリフトを防止することができる。もしくは、電極移動手段および固定板を設けず、電極25にヒーターを巻く量を増やすことによってヒーターの張力を調整し、ヒーターの伸びをとってもよい。なお、図8は、上述のガス導入管の中にヒーターを設けた構成に適用する場合を示したが、それに限らず、図1に示したような、ヒーターおよびガス導入,排気の構成でも適用できる。
第六の実施例について説明する。図9は一実施例であるヒーター伸び算出手段35を用いた電子線装置用試料ホルダーの構成図である。加熱電源12の電流計36にはヒーター伸び算出手段35が接続されており、ヒーター伸び算出手段35はヒーター張力調整機構駆動手段37を介して試料ホルダー6に接続されている。図10は図9記載のヒーター伸び算出手段35つきホルダー6の動作説明図である。
(1)まず、予めヒーターの伸びを算出するためのヒーターのコイル半径a,コイル巻き数n,電流I,バネ定数k,バネ部以外の常温t′での長さl′,平均線膨張係数βを入力しておく。(2)次に加熱温度を設定する。加熱電源12ではその際流れる電流を電流計36が表示する。(3)その値は、ヒーター伸び算出手段35に送信され、そこで、その電流が流れた際のヒーターの伸びを算出する。たとえばヒーターバネ部の伸びる力Fは式1で求められる。
F=1/2・μ0・π・a2・n2・I2=kΔl1 …式1 ここで、μ0は、真空誘磁率で4×10-7、Δl1はバネの伸びである。すなわち、バネの伸びΔl1は式2で求められる。
Δl1=μ0・π・a2・n2・I2・1/2k …式2 また、バネ部以外のヒーター部分の伸びは、式3で求められる。
Δl2=β(l′t−lt′) …式3 この結果よりヒーターの伸びは
Δl=Δl1+Δl2 …式4である。(4)このΔlの値からヒーター伸び算出手段35はヒーター張力調整機構駆動手段37に試料ホルダーのヒーターをΔlだけ引っ張るように動作させる。動作させる方法としては、例えば図8にあるような電極移動手段を用いてもよいし、単にヒーターを巻いた電極を回転させることで巻き量を増やすようにしてもよい。動力は例えば、モーターなどで得ればよい。(5)これにより、ヒーター11は、一定のテンションを与えられ、(6)振動の影響なく原子レベルでの観察が可能となる。なお、ヒーター張力調整機構駆動手段,ヒーター伸び算出手段は試料ホルダーに設けてもよいし、電子線装置に設けてもよい。
1…電子線装置、2…電子銃、3…コンデンサレンズ、4…対物レンズ、5…投射レンズ、6…試料ホルダー、7…蛍光板、8…TVカメラ、9…信号増幅器、10…画像表示部、11…試料加熱用ヒーター、12…加熱電源、13…試料、14,14a,14b…ガス導入管、14c…ガス排気管、15,15a,15b…ガス圧コントロールバルブ、16a,16b…流量計、17…ガスボンベ、18…電子線、19…排気口、20…排気管、21…真空ポンプ、22…電子線通過用開口、23…試料支持膜、24…ヒーター支持部、25…電極、26…固定バネ、27…ガス導入型試料加熱ヒーター、28…微細孔、29…チューブ状ヒーター、30…支持用バネ、31…電極移動手段、32…固定板、33…ネジ穴、34…ネジ、35…ヒーター伸び算出手段、36…電流計、37…ヒーター張力調整機構駆動手段。

Claims (6)

  1. 電子線を通過させるための開口と、前記試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーにおいて、前記開口は前記試料配置部分にガスを供給し、該ガスを排気するための開口と共通であることを特徴とする電子線装置用試料ホルダー。
  2. 電子銃と、コンデンサレンズと、対物レンズと、投射レンズと、蛍光板と、試料にガスを供給する手段と、該ガスを排気する手段と、前記試料を配置し加熱する手段を備えた電子線装置において、前記試料加熱手段は前記ガス供給手段のガス供給口と前記ガス排気手段のガス排気口を結んだ直線上に配置することを特徴とする電子線装置。
  3. 試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーにおいて、前記試料加熱部の張力を調整する手段を備えたことを特徴とする試料ホルダー。
  4. 請求項3に記載の試料ホルダーにおいて、前記試料加熱部の張力の調整は、前記試料加熱部の加熱時の伸びを算出し、該算出した伸び分をもとに張力を調整することを特徴とする試料ホルダー。
  5. 請求項4に記載の試料ホルダーを装着可能としたことを特徴とする電子線装置。
  6. 電子銃と、コンデンサレンズと、対物レンズと、投射レンズと、蛍光板と、前記試料を加熱する手段を備え、前記試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーを装着可能な構造を有する電子線装置において、前記試料ホルダーの試料加熱部を過熱した場合に発生する前記試料加熱部の伸びを算出し、該算出した伸び分をもとに張力を調整する手段を設けたことを特徴とする電子線装置。
JP2009204243A 2009-09-04 2009-09-04 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー Expired - Lifetime JP5119224B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009204243A JP5119224B2 (ja) 2009-09-04 2009-09-04 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009204243A JP5119224B2 (ja) 2009-09-04 2009-09-04 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003431798A Division JP2005190864A (ja) 2003-12-26 2003-12-26 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009283477A true JP2009283477A (ja) 2009-12-03
JP5119224B2 JP5119224B2 (ja) 2013-01-16

Family

ID=41453677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009204243A Expired - Lifetime JP5119224B2 (ja) 2009-09-04 2009-09-04 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5119224B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014017225A1 (ja) * 2012-07-27 2014-01-30 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
WO2015053020A1 (ja) * 2013-10-07 2015-04-16 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置
WO2016035493A1 (ja) * 2014-09-05 2016-03-10 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0644936A (ja) * 1992-05-29 1994-02-18 Hitachi Ltd 電子線装置、及び電子線装置用試料ホルダー
JP2000040483A (ja) * 1998-07-23 2000-02-08 Hitachi Ltd 電子顕微鏡用試料加熱ホルダ及び試料観察方法
JP2000251826A (ja) * 1999-02-25 2000-09-14 Toshiba Corp 荷電粒子ビーム照射装置
JP2003188075A (ja) * 2001-12-19 2003-07-04 Hitachi High-Technologies Corp 電子ビーム描画装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0644936A (ja) * 1992-05-29 1994-02-18 Hitachi Ltd 電子線装置、及び電子線装置用試料ホルダー
JP2000040483A (ja) * 1998-07-23 2000-02-08 Hitachi Ltd 電子顕微鏡用試料加熱ホルダ及び試料観察方法
JP2000251826A (ja) * 1999-02-25 2000-09-14 Toshiba Corp 荷電粒子ビーム照射装置
JP2003188075A (ja) * 2001-12-19 2003-07-04 Hitachi High-Technologies Corp 電子ビーム描画装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014017225A1 (ja) * 2012-07-27 2014-01-30 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
JP2014026840A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
CN104685603A (zh) * 2012-07-27 2015-06-03 株式会社日立高新技术 电子显微镜及电子显微镜用试样保持装置
US9378922B2 (en) 2012-07-27 2016-06-28 Hitachi High-Technologies Corporation Electron microscope and electron microscope sample retaining device
CN104685603B (zh) * 2012-07-27 2016-11-16 株式会社日立高新技术 电子显微镜及电子显微镜用试样保持装置
WO2015053020A1 (ja) * 2013-10-07 2015-04-16 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置
JP2015076147A (ja) * 2013-10-07 2015-04-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置
CN105612597A (zh) * 2013-10-07 2016-05-25 株式会社日立高新技术 带电粒子束装置以及带电粒子束装置用样本保持装置
US10068745B2 (en) 2013-10-07 2018-09-04 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device and sample holder for charged particle beam device
WO2016035493A1 (ja) * 2014-09-05 2016-03-10 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置
JPWO2016035493A1 (ja) * 2014-09-05 2017-06-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5119224B2 (ja) 2013-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5260575B2 (ja) 電子顕微鏡、および試料ホルダ
US9508521B2 (en) Ion beam device
WO2010092747A1 (ja) 電子線装置および電子線装置用試料保持装置
US8455841B2 (en) Ion microscope
US20080093565A1 (en) Charged particle beam system and its specimen holder
JP6043476B2 (ja) イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置
US20120217391A1 (en) Charged particle microscope
JP5119224B2 (ja) 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー
JP2004119510A (ja) 熱処理装置
JP2007172862A (ja) 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置
JP2005190864A (ja) 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー
US20130040400A1 (en) Method of studying a sample in an etem
US20110233401A1 (en) Focused ion beam apparatus
TWI478205B (zh) Discharge lamp
WO2015053020A1 (ja) 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置
JP2011034895A (ja) 荷電粒子線装置及び試料汚染除去機構
JP5898454B2 (ja) 集束イオンビーム装置
JPWO2017029742A1 (ja) イオンビーム装置およびガス電界電離イオン源の洗浄方法
TWI670744B (zh) 離子束裝置
JP6126425B2 (ja) 集束イオンビーム装置及びその制御方法
JP5803003B2 (ja) 熱フィラメントcvd装置及び成膜方法
JP5891030B2 (ja) 電子顕微鏡
JP2008140623A (ja) 電子線源装置
JP4765584B2 (ja) カーボンナノチューブの形成方法及び形成装置
WO2017134817A1 (ja) 電界電離イオン源、イオンビーム装置、およびビーム照射方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090924

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090924

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120821

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120907

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120925

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121022

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5119224

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term