JP2009283477A - 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 86
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】試料へのガス供給手段に対向してガス排気手段を設け、真空低下を最短時間にとどめた。また、試料を付着させたヒーターをガス導入管内に設け、ガスの鏡体への流出を抑制した。ヒーターの伸びの低減策として、電子線装置用試料ホルダーもしくは電子線装置に、ヒーターの張力調整手段を設けた。
【選択図】 図1
Description
Δl=Δl1+Δl2 …式4である。(4)このΔlの値からヒーター伸び算出手段35はヒーター張力調整機構駆動手段37に試料ホルダーのヒーターをΔlだけ引っ張るように動作させる。動作させる方法としては、例えば図8にあるような電極移動手段を用いてもよいし、単にヒーターを巻いた電極を回転させることで巻き量を増やすようにしてもよい。動力は例えば、モーターなどで得ればよい。(5)これにより、ヒーター11は、一定のテンションを与えられ、(6)振動の影響なく原子レベルでの観察が可能となる。なお、ヒーター張力調整機構駆動手段,ヒーター伸び算出手段は試料ホルダーに設けてもよいし、電子線装置に設けてもよい。
Claims (6)
- 電子線を通過させるための開口と、前記試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーにおいて、前記開口は前記試料配置部分にガスを供給し、該ガスを排気するための開口と共通であることを特徴とする電子線装置用試料ホルダー。
- 電子銃と、コンデンサレンズと、対物レンズと、投射レンズと、蛍光板と、試料にガスを供給する手段と、該ガスを排気する手段と、前記試料を配置し加熱する手段を備えた電子線装置において、前記試料加熱手段は前記ガス供給手段のガス供給口と前記ガス排気手段のガス排気口を結んだ直線上に配置することを特徴とする電子線装置。
- 試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーにおいて、前記試料加熱部の張力を調整する手段を備えたことを特徴とする試料ホルダー。
- 請求項3に記載の試料ホルダーにおいて、前記試料加熱部の張力の調整は、前記試料加熱部の加熱時の伸びを算出し、該算出した伸び分をもとに張力を調整することを特徴とする試料ホルダー。
- 請求項4に記載の試料ホルダーを装着可能としたことを特徴とする電子線装置。
- 電子銃と、コンデンサレンズと、対物レンズと、投射レンズと、蛍光板と、前記試料を加熱する手段を備え、前記試料を配置し加熱する部分を備えた試料ホルダーを装着可能な構造を有する電子線装置において、前記試料ホルダーの試料加熱部を過熱した場合に発生する前記試料加熱部の伸びを算出し、該算出した伸び分をもとに張力を調整する手段を設けたことを特徴とする電子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009204243A JP5119224B2 (ja) | 2009-09-04 | 2009-09-04 | 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009204243A JP5119224B2 (ja) | 2009-09-04 | 2009-09-04 | 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003431798A Division JP2005190864A (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009283477A true JP2009283477A (ja) | 2009-12-03 |
JP5119224B2 JP5119224B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=41453677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009204243A Expired - Lifetime JP5119224B2 (ja) | 2009-09-04 | 2009-09-04 | 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5119224B2 (ja) |
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- 2009-09-04 JP JP2009204243A patent/JP5119224B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5119224B2 (ja) | 2013-01-16 |
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