JP5891030B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents

電子顕微鏡 Download PDF

Info

Publication number
JP5891030B2
JP5891030B2 JP2011282626A JP2011282626A JP5891030B2 JP 5891030 B2 JP5891030 B2 JP 5891030B2 JP 2011282626 A JP2011282626 A JP 2011282626A JP 2011282626 A JP2011282626 A JP 2011282626A JP 5891030 B2 JP5891030 B2 JP 5891030B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
gas
electron microscope
temperature
introduction pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011282626A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013134814A (ja
Inventor
矢口 紀恵
紀恵 矢口
渡部 明
明 渡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2011282626A priority Critical patent/JP5891030B2/ja
Priority to PCT/JP2012/078274 priority patent/WO2013099435A1/ja
Publication of JP2013134814A publication Critical patent/JP2013134814A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5891030B2 publication Critical patent/JP5891030B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/2002Controlling environment of sample
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/2002Controlling environment of sample
    • H01J2237/2003Environmental cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/2602Details
    • H01J2237/2605Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/2602Details
    • H01J2237/2605Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
    • H01J2237/2608Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere with environmental specimen chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/18Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は、電子顕微鏡および電子顕微鏡に用いられる試料保持装置に関し、特に高湿度ガスを導入可能な電子顕微鏡および電子顕微鏡に用いられる試料保持装置に関する。
透過電子顕微鏡(TEM)や走査透過電子顕微鏡(STEM)などを用いて、真空中ではなく、ガス雰囲気中での物質の構造や特性の解析や、ガス雰囲気中での物質の合成プロセスをその場観察する環境制御型電子顕微鏡として、特許文献1がある。特許文献1では、試料ホルダに、試料を気密に保持するための薄膜で真空と仕切られた試料室と、前記試料室にガスを導入、排気するための通路設け、試料を特定雰囲気下に保った状態において試料を観察する方法が開示されている。また、特許文献2では、被膜層にチャンバが取り囲まれた電子顕微鏡で用いられるマイクロリアクタであって、入口及び出口が、流体をチャンバに通して供給するために設けられ、さらに、チャンバ及びチャンバの中に存在する試料を加熱するための加熱手段が設けられたマイクロリアクタが開示されている。さらに特許文献3では、低真空雰囲気型走査電子顕微鏡であって、蒸気を導入する蒸気導入ノズルを備えた走査電子顕微鏡が開示されている。
特開2000−133186号公報 特表2008−512841号公報 特開2007−294328号公報
特許文献1、2において、ガス環境調節機能はガス雰囲気と真空を仕切ったセル内に導入する前のガス環境を調整するもので、セル内の実際のガス環境制御については配慮されておらず、また、水蒸気導入については考慮されておらず、ガス供給装置から試料までを接続する配管やセル内部の温度がガス温度よりも低い場合、隔膜や試料、ガスを導入するための配管中に結露してしまうという問題があった。
一方、引用文献3では、バルク試料の表面に、液滴付着時の状態を観察したいというニーズから、試料を冷却し、水蒸気導入ノズルを可変にして蒸気導入時にはノズルを試料に近づけ、試料上に水滴を付着させ、観察時にはノズルを退避させることが開示されている。しかし、水蒸気と試料との反応を観察したいときには、この手法は適さない。
本発明の目的は、環境制御型電子顕微鏡の試料雰囲気の温湿度を正確に制御可能で、発生させたガスの環境を維持した状態のまま試料雰囲気とすることが可能で、高湿度のガスと試料との反応を観察することが可能な電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置を提供することにある。
本発明では、上記課題に鑑み以下の構成を有する。
一次電子線を放出する電子源と、前記電子源から放出される一次電子線を収束し、試料に照射する対物レンズと、試料から発生した信号を検出する検出器と、前記検出器からの信号に基づいて試料像を形成する制御手段と、前記試料像を表示する表示手段と、前記試料を保持する試料保持手段と、を備えた電子顕微鏡において、前記試料室に導入するガスを供給するガス供給装置と、前記ガス供給装置からのガスを前記試料室に導入するガス導入管を備え、前記ガス導入管上に当該ガス導入管の温度を制御するヒータを備えることを特徴とする電子顕微鏡。
本発明によれば、電子顕微鏡の試料室に形成された試料を包含する雰囲気ガスの微小ガス空間の温湿度が制御可能となり、高湿度空気を導入しても試料室で結露することがない。
本発明の一実施例である電子線装置1の基本構成図。 本発明の一実施例である電子線装置1および電子線装置用試料保持装置6の基本構成図。 一実施例である電子線装置1および電子線装置用試料保持装置6の動作説明図。 一実施例である電子線装置1試料室の断面図。 本発明の一実施例である電子線装置1および電子線装置用試料保持装置6の基本構成図。 本発明の一実施例である電子線装置用試料保持装置6の基本構成図。
以下、実施例を用いて説明する。
図1に本発明の一実施例である電子顕微鏡1の基本構成図を示す。
電子顕微鏡1の鏡体は、電子銃2、コンデンサーレンズ3、対物レンズ4、投射レンズ5により構成されている。対物レンズ4の間には、電子顕微鏡用試料保持装置6が挿入される。投射レンズ5の下方には、蛍光板7が、蛍光板7の下には、カメラ8が装着されている。カメラ8は、画像表示部9aを介し画像記録部9bに接続されている。画像記録部9bはコンピュータ10に接続されている。
コンデンサーレンズ3、対物レンズ4の間には差動排気のための絞り11が配されている。電子銃2およびコンデンサーレンズ3の間、コンデンサーレンズ3および対物レンズ4の間、電子顕微鏡試料室12、観察室13はそれぞれ、バルブ14を介して、異なる真空ポンプ15に接続されている。電子顕微鏡試料室12と真空ポンプ15の間には、水蒸気など真空ポンプ15に悪影響を与えるガスをトラップするためのフィルター16が設置されている。
電子顕微鏡試料室12には試料予備排気室26が接続されており、試料予備排気室26はバルブ14を介して真空ポンプ15に接続されている。試料予備排気室26とバルブ14の間には、水蒸気などをトラップするためのフィルター16が設置されている。
電子顕微鏡用試料保持装置6を電子顕微鏡試料室12に挿入する際は、電子顕微鏡用試料保持装置6先端部は、予め試料予備排気室26で真空ポンプ15により排気されてから、電子顕微鏡試料室12に挿入される。
電子銃2から発生した電子線33はコンデンサーレンズ3により収束され試料18に照射される。試料18を透過した電子線33は対物レンズ4により結像され、投射レンズ5により拡大、蛍光板7上に投影される。または、蛍光板7を持ち上げ、カメラ8に投影し、画像表示部9aに透過像が表示され、画像記録部9bに記録される。
ここで本発明のガス導入について説明する。
電子顕微鏡試料室12にはガス導入管17a先端部が試料18近傍に設置されている。ガス導入管17aは、配管上のガス圧コントロールバルブ19、開閉バルブ20を介してガス供給装置21に接続されている。ガス供給装置21はガス貯蔵部22と加熱部23で構成される。
ガス導入管17aにはヒータ24が取り付けられ、加熱電源25を介してコンピュータ10に接続されている。
試料予備排気室26にも、試料室12同様ヒータ24つきガス導入管17bを有し、ガス圧コントロールバルブ19、開閉バルブ20を介してガス供給装置21に接続されている。ガス導入管17bに取り付けられたヒータ24は、加熱電源25を介してコンピュータ10に接続されている。これにより、電子顕微鏡試料予備排気室でも試料を高湿度ガス雰囲気で反応させることが可能となる。
試料室12には試料18近傍の温度、湿度を検出するための温湿度検出器27を設け、温湿度検出器27はコンピュータ10に接続されている。また、電子顕微鏡用試料保持装置6の先端部には試料加熱用ヒータ(図示せず)を有し、試料加熱用ヒータはリード線29を介して試料加熱電源30に接続されている。試料18は試料加熱用ヒータに直接接触するように取り付けられ加熱される。試料加熱電源30はコンピュータ10に接続されている。
対物レンズ4および対物レンズ冷却水路31は対物レンズ温度制御部32を介してコンピュータ10に接続されている。また、試料18と対物レンズ4の近傍には温湿度検出器27が備えられており、コンピュータ10に接続されている。
図3に本実施例の電子顕微鏡1試料室12の詳細な構成図を示す。対物レンズ4は電磁コイル34を磁性材料35で覆う形状となっており、ギャップ部分に磁界を集中して発生させる。対物レンズ4に用いられている磁性材料35の表面はすべて耐酸化処理されており、高湿度のガスが導入されても性能に影響を与えないようにする。対物レンズ4中央には電子線33通路があり、試料保持装置6に取り付けられた試料18が配される。試料18に向けてガス導入管17aが設けられ先端ノズルにはガス温湿度調整のためのヒータ24が設けられ、加熱電源25に接続されている。
対物レンズ4上下には冷却水通路31が設けられている。冷却水の流量や温度は対物レンズ温度制御部32で制御する。対物レンズ温度制御部32は、導入ガスが対物レンズ近傍で液滴とならないように、対物レンズ冷却水の温度や流量を制御している。試料18の直下には回折あるいは散乱した電子線33をカットし、コントラストを向上させるための対物絞り36が挿入される。対物絞り36の支持棒には温湿度検出器27が取り付けられており、試料18近傍の温湿度をモニターする。温湿度検出器27は、コンピュータ10に接続されており測定結果は随時記録される。
次にガスフローの設定について説明する。コンピュータ10において試料加熱温度を設定する。設定した温度は試料加熱電源30に指令し電子顕微鏡用試料保持装置6の試料加熱用ヒータの温度を昇温する。さらにコンピュータ10において、試料18近傍雰囲気の所望のガス温湿度およびガス流量を入力し、ガス供給装置21で導入するガスを所望の条件に設定する。ガスの温湿度を維持した状態でガスを試料18近傍に噴出するよう、ガス導入管17aのヒータ24を設定温度と同じ温度に維持し、対物レンズ4の温度も同じ温度に維持するよう、コンピュータ10は対物レンズ温度制御部32に冷却水量あるいは冷却水温度を調整するよう指令する。同じ温度に設定できた後、ガス供給装置21ではその信号を受けてガスを流す。
また、試料近傍に温度、湿度検出器を設け、ある一定値以上になると、電子顕微鏡の対物レンズ冷却水温度及び水量をコントロールし、また、ガスの導入を停止するよう作動する安全装置を設けることも可能である。
カメラ8でガス雰囲気での試料18の透過像を撮像し、画像表示部9aに透過像が表示され、画像記録部9bに記録される。コンピュータ10では画像記録部9bのカウンターと同期させて、試料加熱温度、試料18近傍の温湿度を随時モニターし記録する。
試料室12に導入されたガスは試料室12に接続された真空ポンプ15で排気される。その際、ガス中の水分は配管17bの途中に設けられたフィルター16に吸収され、真空ポンプ15には乾燥したガスのみ送られ排気される。
本実施例によれば、ガス導入管17bの途中で水蒸気などのガスが液滴の状態にならず、ガス環境を維持したままガスと試料との反応を観察することが可能な透過電子顕微鏡を提供できる。
図2に本発明の別の実施例である電子顕微鏡1および電子顕微鏡用試料保持装置6の基本構成図を示す。本実施例では、電子顕微鏡1の試料室12にガス導入管17aを設けるかわりに、電子顕微鏡用試料保持装置6に加熱機構とガス導入管17cを設けている。
電子顕微鏡用試料保持装置6に設けられたガス導入管17cは、ガス圧コントロールバルブ19、開閉バルブ20を介してガス供給装置21に接続されている。ガス供給装置21は、ガス貯蔵部22とガス加熱部23で構成されている。ガス導入管17cにはヒータ24が取り付けられており、加熱電源25を介して、コンピュータ10に接続されている。前記ガス導入管17cの先端は試料18に向けて設置されている。
図4に本発明の一実施例である電子顕微鏡1の使用手順を示す。
(1)試料18を取り付けた試料保持装置6を電子顕微鏡試料室12に挿入する。
(2)次にコンピュータ10において試料18環境条件(加熱温度、ガス流量、ガス圧力、ガス温湿度)を設定する。
(3)次に設定した温度まで試料18加熱する。
(4)ガス供給装置21にてコンピュータ10で設定した流量のガスをガス貯蔵部22から加熱部23に送り、加熱部23で設定した温湿度にガスを設定する。
(5)次にガス導入口17aまでの配管17bの温度も試料環境条件と同じ温度になるよう加熱電源25を制御しヒータ24を加熱する。同時に対物レンズ4の温度も同じ温度になるよう冷却水温度を設定する。
(6)配管17bおよび対物レンズ4が目的の温度に到達したら、ガス供給装置210よりガスを導入する。
(7)試料18の透過像はカメラ8で撮影され、画像記録部9bで記録される。
(8)異なる条件でさらに観察を続ける際は、コンピュータ10から次の条件を設定し、試料環境を制御するようにする。
装置稼働中の試料加熱温度、ガス流量、ガス圧力、ガス温湿度、試料18近傍の温湿度と圧力、ビデオカウンター等の条件はコンピュータ10で記録される。
図5に本発明の別の実施例である電子顕微鏡1および電子顕微鏡用試料保持装置6の基本構成図を示す。本実施例では、実施例1、2の開放型の電子線装置用試料保持装置6の代わりに試料加熱用ヒータ28の上下に隔膜37を配し、隔膜37で試料18雰囲気を密閉した隔膜密閉型の電子線装置用試料保持装置6を用いている。
隔膜密閉型の電子線装置用試料保持装置6では、電子線33通路には像観察に影響のない軽元素隔膜37を配し、電子線顕微鏡試料室12と試料18雰囲気を隔離する。導入するガスの温湿度を維持するために電子顕微鏡用試料保持装置6内の試料18近傍に温湿度検出器27、圧力検出器38を備え、試料18近傍の温湿度、および圧力をコンピュータ10でモニターし制御する。電子顕微鏡用試料保持装置6にはガス導入管17cが備えられており、ガス圧コントロールバルブ19、開閉バルブ20を介してガス供給装置21に接続されている。ガス供給装置21は、ガス貯蔵部22と加熱部23で構成されている。ガス導入管17cにはヒータ24が取り付けられており、配管用加熱電源25を介して、コンピュータ10に接続されている。ガス導入管17cに取り付けられたヒータ24と対物レンズ4温度は、設定したガス温度になるようにコンピュータ10で制御される。対物レンズ4の温度が設定したガス温度になるように設定されたことで、隔膜37への結露を防止することができる。
同様に電子顕微鏡用試料保持装置6には排気用の配管も取り付けられ、水蒸気などをトラップするためのフィルター16、バルブ14を介して真空ポンプ15に接続されている。
図6に本実施例の隔膜密閉型の電子顕微鏡用試料保持装置6の詳細構造を示す。隔膜37部の結露防止のために対物レンズ4温度を制御する代わりに隔膜37支持部に隔膜用ヒータ39を取り付けている。隔膜用ヒータ39は隔膜用加熱電源40を介しコンピュータ10に接続されている。これにより、環境制御部10で設定したガス温度と同じに隔膜37温度を設定することが可能となる。
また、ここでは、試料保持装置6に配されたヒータ30に試料18を直接塗布することにより、試料18を加熱できるようにしているが、ヒータ30の代わりに3mmメッシュなどの一般的な電子顕微鏡試料台をセットできるようにしてもよい。
上記の構成により、電子顕微鏡試料室12で結露することなく、高湿度ガス雰囲気中での反応プロセスの観察を高分解能で行うことが可能となる。
本発明によれば、電子顕微鏡の試料室に形成された試料を包含する雰囲気ガスの微小ガス空間の温湿度が制御可能となり、高湿度空気を導入しても試料室で結露することがなくなる。
上記実施例は、透過電子顕微鏡を用いて説明を行ったが、本発明は走査電子顕微鏡、走査透過電子顕微鏡等の電子顕微鏡全般に適用することが可能である。
1 電子顕微鏡
2 電子銃
3 コンデンサーレンズ
4 対物レンズ
5 投射レンズ
6 電子顕微鏡用試料保持装置
7 蛍光板
8 カメラ
9a 画像表示部
9b 画像記録部
10 コンピュータ
11 差動排気絞り
12 電子顕微鏡試料室
13 観察室
14 バルブ
15 真空ポンプ
16 フィルター
17a、17b、17c ガス導入管
18 試料
19 ガス圧コントロールバルブ
20 開閉バルブ
21 ガス供給装置
22 ガス貯蔵部
23 ガス加熱部
24 ヒータ
25 加熱電源
26 試料予備排気室
27 温湿度検出器
28 試料加熱用ヒータ
29 リード線
30 試料加熱電源
31 対物レンズ冷却水路
32 対物レンズ温度制御部
33 電子線
34 電磁コイル
35 磁性材料
36 対物絞り
37 隔膜
38 圧力検出器
39 隔膜用ヒータ
40 隔膜用加熱電源

Claims (15)

  1. 一次電子線を放出する電子源と、
    前記電子源から放出される一次電子線を収束し、試料に照射する対物レンズと、
    試料から発生した信号を検出する検出器と、
    前記検出器からの信号に基づいて試料像を形成する制御手段と、
    前記試料像を表示する表示手段と、
    前記試料を保持する試料保持手段と、
    を備えた電子顕微鏡において、
    料室に導入するガスを供給するガス供給装置と、
    前記ガス供給装置からのガスを前記試料室に導入するガス導入管と、
    前記ガス導入管上に当該ガス導入管の温度を制御するヒータと、
    前記ガス導入管の出口近傍の温度及び湿度を計測する温湿度計と、を備え、
    前記ガス供給装置で生成されたガスの温度及び前記ガス導入管の出口近傍のガスの温度及び湿度の情報に基づいて、前記ガス導入管がガスで結露しないよう前記ヒータの温度を制御することを特徴とする電子顕微鏡。
  2. 請求項1の電子顕微鏡において、
    前記ガス供給装置は、試料室に導入するガスの貯蔵部と、当該ガスの加熱部から構成されていることを特徴とする電子顕微鏡。
  3. 請求項1の電子顕微鏡において、
    前記対物レンズを冷却する対物レンズ冷却水の温度及び/又は流量を制御する制御部を有することを特徴とする電子顕微鏡。
  4. 請求項1記載の電子顕微鏡において、
    前記対物レンズに用いている磁性材料の表面を対酸化処理することを特徴とする電子顕微鏡。
  5. 請求項1記載の電子顕微鏡において、
    前記試料室を排気する排気機構を有し、前記試料室から前記排気機構の間に前記導入ガスを捕捉するトラップ機構を設けることを特徴とする電子顕微鏡。
  6. 請求項1記載の電子顕微鏡において、
    記試料室に試料を導入する前に予め排気を行う予備排気室を有し、
    当該予備排気室に、ガスを導入するガス導入管が接続することを特徴とする電子顕微鏡。
  7. 請求項1記載の電子顕微鏡において、
    前記温湿度計の情報に基づき、前記ガス供給装置によるガス供給を中止する安全装置を備えたことを特徴とする電子顕微鏡。
  8. 一次電子線を放出する電子源と、
    前記電子源から放出される一次電子線を収束し、試料に照射する対物レンズと、
    試料から発生した信号を検出する検出器と、
    前記検出器からの信号に基づいて試料像を形成する制御手段と、
    前記試料像を表示する表示手段と、
    前記試料を保持する試料保持手段と、
    を備えた電子顕微鏡において、
    前記試料保持手段は、前記試料近傍にガスを導入するガス導入管を備え、
    前記試料近傍に導入するガスを供給するガス供給装置と、
    前記ガス導入管上に当該ガス導入管の温度を制御するヒータと、
    前記ガス導入管の出口近傍の温度及び湿度を計測する温湿度計と、を備え、
    前記ガス供給装置で生成されたガスの温度及び前記ガス導入管の出口近傍のガスの温度及び湿度の情報に基づいて、前記ガス導入管がガスで結露しないよう前記ヒータの温度を制御することを特徴とする電子顕微鏡。
  9. 請求項記載の電子顕微鏡において、
    前記試料保持手段は、前記試料を加熱する加熱手段を有することを特徴とする電子顕微鏡。
  10. 一次電子線を放出する電子源と、
    前記電子源から放出される一次電子線を収束し、試料に照射する対物レンズと、
    試料から発生した信号を検出する検出器と、
    前記検出器からの信号に基づいて試料像を形成する制御手段と、
    前記試料像を表示する表示手段と、
    前記試料を保持する試料保持手段と、
    を備えた電子顕微鏡において、
    前記試料保持手段は、前記試料が当該試料保持手段の内部に配置され、当該試料保持手段の外壁の電子線通過部に隔膜を備え、
    前記試料保持手段の内部にガスを導入するガス導入管を備え、
    前記ガス導入管はガス供給装置と接続され、
    前記ガス導入管上に当該ガス導入管の温度を制御するヒータを備え
    前記ガス導入管の出口近傍の温度及び温度を計測する温湿度計を有し、
    前記ガス供給装置で生成されたガスの温度及び前記ガス導入管の出口近傍のガスの温度及び湿度の情報に基づいて、前記隔膜がガスで結露しないよう前記ヒータの温度を制御することを特徴とする電子顕微鏡。
  11. 請求項10の電子顕微鏡において
    記ガス供給装置は、試料室に導入するガスの貯蔵部と、当該ガスの加熱部から構成されていることを特徴とする電子顕微鏡。
  12. 請求項10の電子顕微鏡において、
    前記対物レンズを冷却する対物レンズ冷却水の温度及び/又は流量を制御する制御部を有することを特徴とする電子顕微鏡。
  13. 請求項10記載の電子顕微鏡において、
    前記対物レンズに用いている磁性材料の表面を対酸化処理することを特徴とする電子顕微鏡。
  14. 請求項10記載の電子顕微鏡において、
    前記試料室を排気する排気機構を有し、前記試料室から前記排気機構の間に前記導入ガスを捕捉するトラップ機構を設けることを特徴とする電子顕微鏡。
  15. 請求項10記載の電子顕微鏡において、
    前記試料室に試料を導入する前に予め排気を行う予備排気室を有し、
    当該予備排気室に、ガスを導入するガス導入管が接続することを特徴とする電子顕微鏡。
JP2011282626A 2011-12-26 2011-12-26 電子顕微鏡 Active JP5891030B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011282626A JP5891030B2 (ja) 2011-12-26 2011-12-26 電子顕微鏡
PCT/JP2012/078274 WO2013099435A1 (ja) 2011-12-26 2012-11-01 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011282626A JP5891030B2 (ja) 2011-12-26 2011-12-26 電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013134814A JP2013134814A (ja) 2013-07-08
JP5891030B2 true JP5891030B2 (ja) 2016-03-22

Family

ID=48696935

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011282626A Active JP5891030B2 (ja) 2011-12-26 2011-12-26 電子顕微鏡

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5891030B2 (ja)
WO (1) WO2013099435A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103558232B (zh) * 2013-10-16 2015-10-28 中国科学院物理研究所 一种在透射电镜中原位变温测量光谱的装置
JP6207344B2 (ja) * 2013-10-30 2017-10-04 日本電子株式会社 荷電粒子線装置
CN105569530B (zh) * 2015-12-18 2017-10-27 北京无线电计量测试研究所 一种同心锥形tem室屏蔽门

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5350664A (en) * 1976-10-20 1978-05-09 Hitachi Ltd Electron lens
JPH10172496A (ja) * 1996-12-13 1998-06-26 Nikon Corp 環境制御型走査型電子顕微鏡
JPH11238483A (ja) * 1997-12-12 1999-08-31 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置
JP2005190864A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Hitachi High-Technologies Corp 電子線装置及び電子線装置用試料ホルダー
JP4723414B2 (ja) * 2006-04-27 2011-07-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
JP2009199785A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Taiyo Yuden Co Ltd 走査型電子顕微鏡
JP5386934B2 (ja) * 2008-11-04 2014-01-15 株式会社島津製作所 荷電粒子ビーム装置及びその対物レンズのコンタミネーション防止装置
JP5560033B2 (ja) * 2009-12-21 2014-07-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 冷却試料ホールダ及び試料の冷却加工方法
JP5260575B2 (ja) * 2010-02-24 2013-08-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡、および試料ホルダ

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013099435A1 (ja) 2013-07-04
JP2013134814A (ja) 2013-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5260575B2 (ja) 電子顕微鏡、および試料ホルダ
JP5124507B2 (ja) 電子線装置および電子線装置用試料保持装置
US9105442B2 (en) Charged particle beam apparatus
KR101589400B1 (ko) 시료 관찰 방법
KR101810437B1 (ko) 하전입자선 장치, 시료 화상 취득 방법, 및 프로그램 기록 매체
JP6302702B2 (ja) 走査電子顕微鏡および画像生成方法
CN105612597B (zh) 带电粒子束装置以及带电粒子束装置用样本保持装置
JP2012221766A5 (ja)
JP2008108429A (ja) 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置
JPWO2012120726A1 (ja) 電子顕微鏡用ホルダー、電子顕微鏡及び試料観察方法
JP5891030B2 (ja) 電子顕微鏡
JP6522133B2 (ja) 観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法、荷電粒子線装置
JP6169334B2 (ja) 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
JP6097863B2 (ja) 荷電粒子線装置、試料画像取得方法、およびプログラム記録媒体
JP2009300167A (ja) アウトガス捕集装置および捕集方法
WO2015045477A1 (ja) 試料ホールダ及び荷電粒子装置
WO2013129196A1 (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
JP5824262B2 (ja) 試料観察方法および圧力測定用ホルダ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140702

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150714

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150914

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160126

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160222

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5891030

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350