JP2009263244A - ジアルキルトリスルフィドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィド(A)と、アルキルメルカプタン(B)とを、環状アミン化合物(C)、好ましくは4〜7員環で窒素原子を1〜3個含有する飽和環状アミンであって、液状またはアルコール系溶媒(E)に溶解させた環状アミン化合物の存在下で反応させた後、環状アミン化合物(C)をアルコール系溶媒(D)、好ましくは沸点100℃以下のアルコール系溶媒中に抽出して除去するジアルキルトリスルフィドの製造方法。
【選択図】なし
Description
アルキルメルカプタン転化率(重量%)=〔1−(T/仕込量)〕×100
T(生成物中のアルキルメルカプタン残存量)
=S×(アルキルメルカプタン分子量)/32(硫黄分子量)
1リットルのフラスコに、ジ−t−ドデシルポリスルフィド(平均硫黄鎖長=4.0、ジ−t−ドデシルトリスルフィド含有率=30.1モル%、以下、TDPSと略す。)200g、t−ドデシルメルカプタン152g(以下、TDMと略す。TDPS1モルに対するモル数=1.74モル)、ピペラジン4gおよびジエチレングリコールモノブチルエーテル4gを仕込み、吹き込み管から窒素ガスを吹き込みながら、反応温度120℃で6時間反応させた後、さらにピペラジン2gを添加して120℃で6時間反応させた。40℃に冷却後、吹き込み管から空気を吹き込み、残留硫化水素を除去して、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物350gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、ジ−t−ノニルポリスルフィド(以下、TNPSと略す。)200gおよびTDM185g(TNPS1モルに対するモル数=1.76モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物376gを得た。
TDM152gの代わりに、t−ノニルメルカプタン120g(以下、TNMと略す。TDPS1モルに対するモル数=1.44モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物315gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、ジ−t−オクチルポリスルフィド(平均硫黄鎖長=4.4、ジ−t−オクチルトリスルフィド含有率=1.1モル%、以下、TOPSと略す。)200gおよびTDM152g(TOPS1モルに対するモル数=1.44モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物357gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM194g(TOPS1モルに対するモル数=1.85モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物378gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物382gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM210g(TOPS1モルに対するモル数=2.00モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物395gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用を省略した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物381gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、また、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにピロリジン6g(ピロリジン4gとピロリジン2gに分割して添加)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用を省略した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物379gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、また、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにピペリジン6g(ピペリジン4gとピペリジン2gに分割して添加)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用を省略した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物373gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、また、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにN−エチルピペラジン6g(N−エチルピペラジン4gとN−エチルピペラジン2gに分割して添加)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用を省略した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物380gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、また、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにN−メチルピペリジン6g(N−メチルピペリジン4gとN−メチルピペリジン2gに分割して添加)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用を省略した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物368gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル4gの代わりにエチレングリコール4gを用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物382gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル4gの代わりにエチレングリコールモノブチルエーテル4gを用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物377gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用量を1gに変更した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物373gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの使用量を20gに変更した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物400gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル4gの代わりにジエチレングリコールモノメチルエーテル4gを用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物379gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジンの使用量を1gに変更した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物371gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりに、TOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジンの使用量を12gに変更した以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物395gを得た。
1リットルのフラスコに、TDPS200g、TDM152g(TDPS1モルに対するモル数=1.74モル)、酸化マグネシウム4gを仕込み、吹き混み管から窒素ガスを吹き込みながら、反応温度70℃で6時間反応させた後、酸化マグネシウム4gを追加して3時間反応させ、更に酸化マグネシウム4gを追加して3時間反応させた。次いで、40℃に冷却し、吹き込み管から空気を吹き混み、残留硫化水素を除去して、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物338gを得た。
酸化マグネシウム12g(酸化マグネシウムを4gづつ3分割して添加)の代わりに、
γ−アルミナ(γ−Al2O3)12g(γ−アルミナを4gづつ3分割して添加)を用いた以外は比較例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物331gを得た。
ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりに、トリエチルアミン6g(トリエチルアミン4gとトリエチルアミン2gに分割して添加)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物322gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにトリブチルアミン6g(トリブチルアミン4gとトリブチルアミン2gに分割して添加)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物351gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにピロール6g(ピロール4gとピロール2gに分割して添加)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物360gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにジブチルアミン6g(ジブチルアミン4gとジブチルアミン2gに分割して添加)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物363gを得た。
TDPS200gおよびTDM152gの代わりにTOPS200gおよびTDM200g(TOPS1モルに対するモル数=1.91モル)を用い、かつ、ピペラジン6g(ピペラジン4gとピペラジン2gに分割して添加)の代わりにブチルアミン6g(ブチルアミン4gとブチルアミン2gに分割して添加)を用いた以外は実施例1と同様にして、ジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物359gを得た。
Claims (11)
- 結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィド(A)と、アルキルメルカプタン(B)とを、環状アミン化合物(C)の存在下で反応させた後、環状アミン化合物(C)をアルコール系溶媒(D)中に抽出して除去することを特徴とするジアルキルトリスルフィドの製造方法。
- 環状アミン化合物(C)が、4〜7員環で窒素原子を1〜3個含有する飽和環状アミンである請求項1に記載のジアルキルトリスルフィドの製造方法。
- 環状アミン化合物(C)が、ピペラジン、ピロリジンおよびピペリジンからなる群から選ばれる1種以上の化合物である請求項1に記載のジアルキルトリスルフィドの製造方法。
- 結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィド(A)100重量部に対する環状アミン化合物(C)の使用量が0.5〜6重量部である請求項1、2または3に記載のジアルキルトリスルフィドの製造方法。
- 環状アミン化合物(C)が、液状環状アミン化合物またはアルコール系溶媒(E)に溶解させた環状アミン化合物である請求項1〜4のいずれか1項に記載のジアルキルリスルフィドの製造方法。
- アルコール系溶媒(D)が、沸点100℃以下のアルコール系溶媒である請求項5に記載のジアルキルリスルフィドの製造方法。
- アルコール系溶媒(D)が、メタノールである請求項5に記載のジアルキルリスルフィドの製造方法。
- アルコール系溶媒(E)が、結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィド(A)とアルキルメルカプタン(B)の反応温度より高い沸点を有するアルコール系溶媒である請求項5、6または7に記載のジアルキルリスルフィドの製造方法。
- アルコール系溶媒(E)が、沸点150℃以上のアルコール系溶媒である請求項8に記載のジアルキルリスルフィドの製造方法。
- 沸点150℃以上のアルコール系溶媒(E)が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選ばれる1種以上のアルコール系溶媒である請求項9に記載のジアルキルトリスルフィドの製造方法。
- 結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィド(A)と、アルキルメルカプタン(B)とを、環状アミン化合物(C)の存在下で反応させてジアルキルトリスルフィドを含む粗生成物を得た後、アルコール系溶媒(D)と混合して環状アミン化合物(C)をアルコール系溶媒(D)中に抽出し、次いで静置して環状アミン化合物(C)を含むアルコール系溶媒(D)層とジアルキルトリスルフィドを含む生成物層に二層分離させた後、環状アミン化合物(C)を含むアルコール系溶媒(D)層を分離する請求項1〜10のいずれか1項に記載のジアルキルトリスルフィドの製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4868514A (ja) * | 1971-12-22 | 1973-09-18 | ||
JPH06256296A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-13 | Elf Atochem North America Inc | ジアルキルトリスルフィド及びメルカプタン中のアルキル基の移動方法 |
JP2000290247A (ja) * | 1999-04-07 | 2000-10-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硫化アルケンの製造方法 |
JP2003002876A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジアルキルトリスルフィドの製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4868514A (ja) * | 1971-12-22 | 1973-09-18 | ||
JPH06256296A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-13 | Elf Atochem North America Inc | ジアルキルトリスルフィド及びメルカプタン中のアルキル基の移動方法 |
JP2000290247A (ja) * | 1999-04-07 | 2000-10-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硫化アルケンの製造方法 |
JP2003002876A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジアルキルトリスルフィドの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014141428A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | スルフィド基含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
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