JP2009260303A - 熱交換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】熱電モジュールの支持基板をなくす構成を採用することにより、熱抵抗を低減して吸熱量を増加させるとともに、熱応力を緩和させる構成を採用して高信頼性を有する熱交換装置を提供する。
【解決手段】熱交換装置は、熱電モジュールの放熱側15あるいは吸熱側12の少なくとも一方の電極は支持基板を備えなく、支持基板を備えない電極に高熱伝導性を有する絶縁性樹脂層14を介して熱交換器が接合されているとともに、該熱交換器は第1絶縁性樹脂層を介して支持基板を備えない電極に接合される接合領域と、接合領域に隣接し該接合領域より突出して形成された非接合領域とからなるコルゲートフィン13であり、接合領域は支持基板を備えない電極上に配置され、非接合領域は電極間の空隙部に配置され、かつ接合領域と非接合領域とが相隣接して交互に形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】熱交換装置は、熱電モジュールの放熱側15あるいは吸熱側12の少なくとも一方の電極は支持基板を備えなく、支持基板を備えない電極に高熱伝導性を有する絶縁性樹脂層14を介して熱交換器が接合されているとともに、該熱交換器は第1絶縁性樹脂層を介して支持基板を備えない電極に接合される接合領域と、接合領域に隣接し該接合領域より突出して形成された非接合領域とからなるコルゲートフィン13であり、接合領域は支持基板を備えない電極上に配置され、非接合領域は電極間の空隙部に配置され、かつ接合領域と非接合領域とが相隣接して交互に形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、放熱側電極と、吸熱側電極と、これらの両電極間で直列接続されるように接合金属により接合された複数の熱電素子とからなる熱電モジュールを備え、この熱電モジュールの放熱側あるいは吸熱側の少なくとも一方に熱交換器が接合された熱交換装置に関する。
従来より、P型半導体からなる熱電素子とN型半導体からなる熱電素子を隣り合わせて交互に配列し、これらの各熱電素子が直列に導電接続されるように、放熱側電極と吸熱側電極との間にハンダなどからなる接合金属により接合して構成された熱電モジュールは広く知られている。ところで、この種の熱電モジュールにおいては、放熱効率を向上させるために、放熱側基板や吸熱側基板に熱交換器を接合して熱交換装置として用いることが種々提案されている。
例えば、特許文献1(特開2007−93106号公報)にて提案された熱交換装置においては、図7に示すように、相対向して配置された一対の支持基板51,56を有する。これらの支持基板51,56の対向する内面間に複数の熱電素子58が配列され、隣り合う熱電素子58間を一対の電極52,57により電気的に連結して熱電モジュール50aとしている。そして、一対の支持基板51,56のうち、少なくとも一方の支持基板56の外面側に合金層55および接合材54を介して接合されたコルゲートフィン53を配設して熱交換装置50としている。
この場合、コルゲートフィン53は、支持基板56の外面側に接合された複数の接合領域53aと、隣り合う2つの接合領域53a,53aをつなぎ、熱電モジュール50aとは反対側に突出するように形成された熱交換領域53bとを有し、接合領域53aの幅が、隣り合う接合領域53a,53a間の間隔よりも大きくなるようにしている。これにより、熱交換能力が高く、構造が複雑になることなく、信頼性が高い熱交換装置を得ることができる。
しかしながら、上述した特許文献1で提案された熱交換装置を構成する熱電モジュールにおいては、一対の支持基板を有することが必須となる。この場合、支持基板は熱抵抗となるため、熱電モジュールの性能として必要となる最大吸熱量(Qmax)が劣るという問題を生じた。
また、熱電素子は電極を介して一対の支持基板に接合された構造が採用されているため、熱電素子は支持基板に拘束されることとなる。これにより、熱電素子に対しての熱応力緩和が不充分となって、熱応力に対する信頼性も劣るという問題も生じた。
そこで、本発明は上記の如き問題点を解消するためになされたものであって、熱電モジュールの支持基板をなくす構成を採用することにより、熱抵抗を低減して吸熱量を増加させるとともに、熱応力を緩和させる構成を採用して高信頼性を有する熱交換装置を提供することを目的とする。
本発明の熱交換装置は、放熱側電極と、吸熱側電極と、これらの両電極間で直列接続されるように接合金属により接合された複数の熱電素子とからなる熱電モジュールを備え、当該熱電モジュールの放熱側あるいは吸熱側の少なくとも一方に熱交換器が接合されている。そして、上記目的を達成するため、熱電モジュールの放熱側あるいは吸熱側の少なくとも一方の電極は支持基板を備えなく、支持基板を備えない電極に高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層を介して熱交換器が接合されているとともに、該熱交換器は絶縁性樹脂層を介して支持基板を備えない電極に接合される接合領域と、接合領域に隣接し該接合領域より突出して形成された非接合領域とからなるコルゲートフィンであり、接合領域は支持基板を備えない電極上に配置され、非接合領域は電極間の空隙部に配置され、かつ接合領域と非接合領域とが相隣接して交互に形成されていることを特徴とする。
ここで、少なくとも一方の電極は支持基板を備えないことにより、熱抵抗が低減するので、最大吸熱量(Qmax)を大きくすることが可能となる。この場合、支持基板を備えない電極に高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層を介して熱交換器が接合されていると、この熱交換器が支持基板として機能することができるので、支持基板を省略することが可能となる。
そして、熱交換器は絶縁性樹脂層を介して支持基板を備えない電極に接合される接合領域と、この接合領域に隣接し接合領域より突出して形成された非接合領域とからなるコルゲートフィンであり、接合領域は支持基板を備えない電極上に配置され、非接合領域は電極間の空隙部に配置され、かつ接合領域と非接合領域とが相隣接して交互に形成されていると、コルゲートフィンに生じた熱応力は、電極間の空隙部に配置された非接合領域により吸収されることとなるので、熱応力負荷に対する信頼性が向上する。ここで、熱電モジュールの放熱側および吸熱側のいずれにも支持基板を備えなくすると、熱抵抗がさらに低減することとなるので、さらに最大吸熱量(Qmax)を大きくすることが可能となる。
また、コルゲートフィンの接合領域の幅を当該接合領域間の空隙部の幅よりも大きくすると、熱電素子からの熱をコルゲートフィンに効率よく伝達できるようになるとともに、コルゲートフィンからの熱を熱電素子に効率よく伝達できるようになるので、熱交換効率が向上するので望ましい。また、高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層はポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂のいずれかから形成されるいるのが望ましい。この場合、絶縁性樹脂層中に高熱伝導性を有するフィラーが分散されていると、絶縁性樹脂層の熱伝導性がさらに向上するので望ましい。なお、フィラーはアルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末のいずれかから選択して用いるのが望ましい。
本発明の熱交換装置においては、支持基板を備えない電極に高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層を介して熱交換器となるコルゲートフィンが接合されているので、このコルゲートフィンが支持基板として機能することができ、支持基板を省略することが可能となる。これにより、支持基板をなくすような構成とすることができ、熱抵抗が低減し、最大吸熱量(Qmax)を大きくすることが可能となる。そして、コルゲートフィンの接合領域は支持基板を備えない電極上に配置され、非接合領域は電極間の空隙部に配置され、かつ接合領域と非接合領域とが相隣接して交互に形成されているので、コルゲートフィンに生じた熱応力は、電極間の空隙部に配置された非接合領域により吸収されることとなる。これにより、熱応力負荷に対する信頼性が向上した熱交換装置が得られることとなる。
本発明の熱交換装置の実施の形態を以下に説明するが、本発明はこの実施の形態に何ら限定されるものでなく、本発明の目的を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
1.第1実施例
本第1実施例の熱交換装置10は、図1に示すように、支持基板11と、この支持基板11の下面に形成された放熱側電極12と、吸熱側熱交換器となるコルゲートフィン13と、このコルゲートフィン13の上面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層14を介して接合された吸熱側電極15と、これらの両電極12,15間でハンダ接合層(接合金属)16aにより電気的に直列接続された多数の熱電素子16とから構成されている。
本第1実施例の熱交換装置10は、図1に示すように、支持基板11と、この支持基板11の下面に形成された放熱側電極12と、吸熱側熱交換器となるコルゲートフィン13と、このコルゲートフィン13の上面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層14を介して接合された吸熱側電極15と、これらの両電極12,15間でハンダ接合層(接合金属)16aにより電気的に直列接続された多数の熱電素子16とから構成されている。
なお、吸熱側電極15の一端部にはリード線17,17を接続するための一対の端子部15a,15aが形成されている。この場合、放熱側電極12と、吸熱側電極15と、これらの両電極12,15間で直列接続されるように接合金属16aにより接合された複数の熱電素子16とで熱電モジュール10aが構成されることとなる。
ここで、支持基板11は、高熱伝導性(熱伝導率が1W/mK〜8W/mKのものが望ましい)で接着性を有し、かつ電気絶縁性を有する厚みが10〜100μmのポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂により形成されている。そして、ポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂の熱伝導性を向上させるために、アルミナ(Al2O3)や窒化アルミニウム(AlN)や酸化マグネシウム(MgO)などの平均粒径が15μm以下の粉末からなるフィラーが分散して添加されている。
放熱側電極12は、厚みが70〜200μmの銅膜あるいは銅合金膜からなる。コルゲートフィン13は、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されている。そして、絶縁性樹脂層14に接合される接合領域13aと、これらの相隣接する接合領域13a間より下方(吸熱側電極15の反対側)に突出して形成された非接合領域13bとからなる。ここで、接合領域13aの幅(x)は非接合領域13bの絶縁性樹脂層14側の幅(y)よりも大きくなるように形成されている。
絶縁樹脂層14は、高熱伝導性(熱伝導率が1W/mK〜8W/mKのものが望ましい)で接着性を有し、かつ電気絶縁性を有する厚みが10〜100μmのポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂により形成されている。この場合も、ポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂の熱伝導性を向上させるために、アルミナ(Al2O3)や窒化アルミニウム(AlN)や酸化マグネシウム(MgO)などの平均粒径が15μm以下の粉末からなるフィラーが分散して添加されている。
一方、吸熱側電極15も放熱側電極12と同様に、厚みが70〜200μmの銅膜あるいは銅合金膜からなり、両電極12,15間で電気的に直列接続されるように多数の熱電素子16が配置、接合されている。この場合、熱電素子16はP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなるものである。そして、これらがP,N,P,N・・・の順に電気的に直列に接続されるように、放熱側電極12と吸熱側電極15にそれぞれSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けされて、接合面にハンダ接合層16a,16aが形成されている。なお、各熱電素子16の両端部のハンダ付け面にはニッケルめっきが施されている。
熱電素子16としては、室温で高い性能が発揮されるBi-Te(ビスマスーテルル)系の熱電材料からなる焼結体を用いのが望ましく、P型半導体化合物素子としては、Bi−Sb−Teの3元素からなる材料を用い、N型半導体化合物素子としては、Bi−Sb−Te−Seの4元素からなる材料を用いるのが好ましい。具体的には、P型半導体化合物素子としては、Bi0.5Sb1.5Te3と表される組成のものを使用し、N型半導体化合物素子としては、Bi1.9Sb0.1Te2.6Se0.4と表される組成のものを使用し、ホットプレス焼結法に形成されたものを用いるようにしている。
本第1実施例の熱交換装置10においては、支持基板11は放熱側の片側のみに用いているので、熱抵抗が低下して最大吸熱量(Qmax)が向上する。また、コルゲートフィン13の接合領域13a間に対応する箇所には、絶縁性樹脂層14や吸熱側電極15が存在することなく、空隙部が形成されているので、これらの空隙部により熱応力を吸収できる構造となる。これにより、熱応力に起因する熱電素子16のひびや破損の発生が未然に防止でき、信頼性が向上した熱交換装置10が得られるようになる。
〈熱交換装置10の作製例〉
上述のような構成となる熱交換装置10の作製例を以下に説明する。まず、下面に放熱側電極12が形成されたポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂からなる絶縁樹脂製支持基板(厚みは10〜100μm)11を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域13aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)14を介して吸熱側電極15が接合されたコルゲートフィン13を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子16を用意する。
上述のような構成となる熱交換装置10の作製例を以下に説明する。まず、下面に放熱側電極12が形成されたポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂からなる絶縁樹脂製支持基板(厚みは10〜100μm)11を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域13aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)14を介して吸熱側電極15が接合されたコルゲートフィン13を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子16を用意する。
ここで、放熱側電極12および吸熱側電極15は、銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、例えば、DBC(ダイレクトボンディングカッパー)などにより、所定の厚み(例えば、70〜200μm)で所定の電極パターンとなるように形成されている。さらに、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子の先端部(長さ方向の両端部)にはニッケルメッキが施されている。
ついで、コルゲートフィン13に形成された銅膜あるいは銅合金膜からなる吸熱側電極15の上に、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子16を交互に配列するとともに、これらの熱電素子16の上に、銅膜あるいは銅合金膜からなる放熱側電極12が形成された絶縁樹脂製支持基板11を配置する。そして、放熱側電極12と、これらの下に配置された多数のP型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子16とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けするとともに、これらの多数の熱電素子16と吸熱側電極15とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けする。
これにより、放熱側電極12と吸熱側電極15との間にP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子16がハンダ接合層16a,16aを介して交互に直列接続されることとなる。この後、吸熱側電極15の一端部に形成された一対の端子部15a,15aにリード線17,17をハンダ付けにより接続することにより、熱交換装置10が作製されることとなる。
2.第2実施例
上述した第1実施例の熱交換装置10においては、吸熱側電極15にコルゲートフィン13を配置する例について説明したが、放熱側にもコルゲートフィンを配置するようにしてもよい。そこで、コルゲートフィンを吸熱側と放熱側の両方に配置するようにしたものを第2実施例の熱交換装置20とした。この場合、本第2実施例の熱交換装置20は、図2に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール20aを備えている。
上述した第1実施例の熱交換装置10においては、吸熱側電極15にコルゲートフィン13を配置する例について説明したが、放熱側にもコルゲートフィンを配置するようにしてもよい。そこで、コルゲートフィンを吸熱側と放熱側の両方に配置するようにしたものを第2実施例の熱交換装置20とした。この場合、本第2実施例の熱交換装置20は、図2に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール20aを備えている。
本第2実施例の熱交換装置20は、放熱側熱交換器となる第1コルゲートフィン21と、この第1コルゲートフィン21の下面全面を被覆するように接合された銅膜あるいは銅合金膜からなる接合膜22と、この接合膜22の下面全面を被覆するように接着された高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層23を介して接合された放熱側電極24とを備えている。また、吸熱側熱交換器となる第2コルゲートフィン25と、この第2コルゲートフィン25の上面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層26を介して接合された吸熱側電極27とを備えている。そして、これらの両電極24,27間でハンダ接合層(接合金属)28aにより多数の熱電素子28が電気的に直列接続されて熱電モジュール20aが形成されている。なお、吸熱側電極27の一端部にはリード線29,29を接続するための一対の端子部27a,27aが形成されている。
ここで、第1コルゲートフィン21および第2コルゲートフィン25は、上述したコルゲートフィン13と同様な材質により形成されており、接合領域21a(25a)と、これらの相隣接する接合領域21a(25a)間より上方(下方)に突出して形成された非接合領域21b(25b)とからなる。ここで、接合領域21a(25a)の幅(x)は非接合領域21b(25b)の絶縁性樹脂層23(26)側の幅(y)よりも大きくなるように形成されている。この場合、接合領域21aには、銅膜あるいは銅合金膜からなり、第1コルゲートフィン21の下面の全領域を被覆するようにして接合膜22が接合されている。絶縁樹脂層23,26は、上述した絶縁樹脂層14と同様な材質で、厚みが10〜100μmのポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂により形成されている。
この場合も、ポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂の熱伝導性を向上させるために、アルミナ(Al2O3)や窒化アルミニウム(AlN)や酸化マグネシウム(MgO)などの平均粒径が15μm以下の粉末からなるフィラーが分散して添加されている。また、放熱側電極24および吸熱側電極27は、上述した放熱側電極12および吸熱側電極15と同様に、厚みが70〜200μmの銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、両電極24,27間で電気的に直列接続されるように多数の熱電素子28が配置、接合されている。そして、放熱側電極24と吸熱側電極27にそれぞれSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けされて、接合面にハンダ接合層28a,28aが形成されている。なお、熱電素子28も上述した熱電素子16と同様な組成のもので構成されている。
本第2実施例の熱交換装置20においては、支持基板を用いていないので、熱抵抗が低下して最大吸熱量(Qmax)が向上する。また、コルゲートフィン25の接合領域25a間に対応する箇所には、絶縁性樹脂層26や吸熱側電極27が存在することなく、空隙部が形成されているので、これらの空隙部により熱応力が吸収できることとなる。これにより、熱応力に起因する熱電素子28のひびや破損の発生が未然に防止でき、信頼性が向上した熱交換装置20が得られるようになる。
〈熱交換装置20の作製例〉
上述のような構成となる熱交換装置20の作製例を以下に説明する。
まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域21aに接合膜22が接合され、さらに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)23を介して放熱側電極24が接合された第1コルゲートフィン21を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域25aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)26を介して吸熱側電極27が接合された第2コルゲートフィン25を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子28を用意する。
上述のような構成となる熱交換装置20の作製例を以下に説明する。
まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域21aに接合膜22が接合され、さらに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)23を介して放熱側電極24が接合された第1コルゲートフィン21を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域25aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)26を介して吸熱側電極27が接合された第2コルゲートフィン25を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子28を用意する。
ここで、放熱側電極24および吸熱側電極27は、銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、例えば、DBC(ダイレクトボンディングカッパー)などにより、所定の厚み(例えば、70〜200μm)で所定の電極パターンとなるように形成されている。さらに、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子の先端部(長さ方向の両端部)にはニッケルメッキが施されている。
ついで、第2コルゲートフィン25に形成された銅膜あるいは銅合金膜からなる吸熱側電極27の上に、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子28を交互に配列するとともに、これらの熱電素子28の上に、銅膜あるいは銅合金膜からなる放熱側電極24が形成された第1コルゲートフィン21を配置する。そして、放熱側電極24と、これらの下に配置された多数のP型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子28とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けするとともに、これらの多数の熱電素子28と吸熱側電極27とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けする。
これにより、放熱側電極24と吸熱側電極27との間にP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子28がハンダ接合層28a,28aを介して交互に直列接続されることとなる。この後、吸熱側電極27の一端部に形成された一対の端子部27a,27aにリード線29,29をハンダ付けにより接続することにより、熱交換装置20が作製されることとなる。
3.第3実施例
上述した第2実施例の熱交換装置20においては、第1コルゲートフィン21の下面全面を被覆するように接合膜22が接合され、かつこの接合膜22の下面全面を被覆するように絶縁樹脂層23が配置されている。ところが、接合膜22は設けることなく、コルゲートフィンの接合領域のみに絶縁樹脂層を配置するようにしてもよい。そこで、接合膜の配置を省略し、コルゲートフィンの接合領域のみに絶縁樹脂層を配置するようにしたものを第3実施例の熱交換装置30とした。この場合、本第3実施例の熱交換装置30は、図3に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール30aを備えている。
上述した第2実施例の熱交換装置20においては、第1コルゲートフィン21の下面全面を被覆するように接合膜22が接合され、かつこの接合膜22の下面全面を被覆するように絶縁樹脂層23が配置されている。ところが、接合膜22は設けることなく、コルゲートフィンの接合領域のみに絶縁樹脂層を配置するようにしてもよい。そこで、接合膜の配置を省略し、コルゲートフィンの接合領域のみに絶縁樹脂層を配置するようにしたものを第3実施例の熱交換装置30とした。この場合、本第3実施例の熱交換装置30は、図3に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール30aを備えている。
本第3実施例の熱交換装置30は、図3に示すように、放熱側熱交換器となる第1コルゲートフィン31と、この第1コルゲートフィン31の下面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層32を介して接合された放熱側電極33と、吸熱側熱交換器となる第2コルゲートフィン34と、この第2コルゲートフィン34の上面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層35を介して接合された吸熱側電極36とを備えている。そして、これらの両電極33,36間でハンダ接合層(接合金属)37aにより多数の熱電素子37が電気的に直列接続されて熱電モジュール30aが形成されている。なお、吸熱側電極36の一端部にはリード線38,38を接続するための一対の端子部36a,36aが形成されている。
ここで、第1コルゲートフィン31および第2コルゲートフィン34は、上述したコルゲートフィン13と同様な材質により形成されており、接合領域31a(34a)と、これらの相隣接する接合領域31a(34a)間より上方(下方)に突出して形成された非接合領域31b(34b)とからなる。ここで、接合領域31a(34a)の幅(x)は非接合領域31b(34b)の絶縁性樹脂層32(35)側の幅(y)よりも大きくなるように形成されている。絶縁樹脂層32,35は、上述した絶縁樹脂層14と同様な材質で、厚みが10〜100μmのポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂により形成されている。
この場合も、ポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂の熱伝導性を向上させるために、アルミナ(Al2O3)や窒化アルミニウム(AlN)や酸化マグネシウム(MgO)などの平均粒径が15μm以下の粉末からなるフィラーが分散して添加されている。また、放熱側電極33および吸熱側電極36は、上述した放熱側電極12および吸熱側電極15と同様に、厚みが70〜200μmの銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、両電極33,36間で電気的に直列接続されるように多数の熱電素子37が配置、接合されている。そして、放熱側電極33と吸熱側電極36にそれぞれSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けされて、接合面にハンダ接合層37a,37aが形成されている。なお、熱電素子37も上述した熱電素子16と同様な組成のもので構成されている。
本第3実施例の熱交換装置30においては、支持基板を用いていないので、熱抵抗が低下して最大吸熱量(Qmax)が向上する。また、コルゲートフィン31(34)の接合領域31a(34a)間に対応する箇所には、絶縁性樹脂層32(35)や各電極33(36)が存在することなく、空隙部が形成されているので、これらの空隙部により熱応力を吸収できる構造となる。これにより、熱応力に起因する熱電素子37のひびや破損の発生が未然に防止でき、信頼性が向上した熱交換装置30が得られるようになる。
〈熱交換装置30の作製例〉
上述のような構成となる熱交換装置30の作製例を以下に説明する。まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域31aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)32を介して放熱側電極33が接合された第1コルゲートフィン31を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域34aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)35を介して吸熱側電極36が接合された第2コルゲートフィン34を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子37を用意する。
上述のような構成となる熱交換装置30の作製例を以下に説明する。まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域31aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)32を介して放熱側電極33が接合された第1コルゲートフィン31を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域34aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)35を介して吸熱側電極36が接合された第2コルゲートフィン34を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子37を用意する。
ここで、放熱側電極33および吸熱側電極36は、銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、例えば、DBC(ダイレクトボンディングカッパー)などにより、所定の厚み(例えば、70〜200μm)で所定の電極パターンとなるように形成されている。さらに、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子の先端部(長さ方向の両端部)にはニッケルメッキが施されている。
ついで、第2コルゲートフィン34に形成された銅膜あるいは銅合金膜からなる吸熱側電極36の上に、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子37を交互に配列するとともに、これらの熱電素子37の上に、銅膜あるいは銅合金膜からなる放熱側電極33が形成された第1コルゲートフィン31を配置する。そして、放熱側電極33と、これらの下に配置された多数のP型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子37とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けするとともに、これらの多数の熱電素子37と吸熱側電極36とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けする。
これにより、放熱側電極33と吸熱側電極36との間にP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子37がハンダ接合層37a,37aを介して交互に直列接続されることとなる。この後、吸熱側電極36の一端部に形成された一対の端子部36a,36aにリード線38,38をハンダ付けにより接続することにより、熱交換装置30が作製されることとなる。
4.第4実施例
上述した各実施例の熱交換装置10〜30においては、コルゲートフィンの接合領域の1面に1列の電極(これらの場合は、1列に4個の電極とした)を配置する例について説明したが、接合領域の1面に配置する電極列は1列に限られず、複数列としてもよい。そこで、接合領域の1面に2列の電極列を配置するようにしたものを第4実施例の熱交換装置40とした。この場合、本第4実施例の熱交換装置40は、図4に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール40aを備えている。
上述した各実施例の熱交換装置10〜30においては、コルゲートフィンの接合領域の1面に1列の電極(これらの場合は、1列に4個の電極とした)を配置する例について説明したが、接合領域の1面に配置する電極列は1列に限られず、複数列としてもよい。そこで、接合領域の1面に2列の電極列を配置するようにしたものを第4実施例の熱交換装置40とした。この場合、本第4実施例の熱交換装置40は、図4に示すように、上述した第1実施例の熱電モジュール10aと同様な熱電モジュール40aを備えている。
本第4実施例の熱交換装置40は、図4に示すように、放熱側熱交換器となる第1コルゲートフィン41と、この第1コルゲートフィン41の下面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層42を介して接合された放熱側電極43と、吸熱側熱交換器となる第2コルゲートフィン44と、この第2コルゲートフィン44の上面に高熱伝導性で接着性を有する絶縁樹脂層45を介して接合された吸熱側電極46とを備えている。これらの両電極43,46間でハンダ接合層(接合金属)47aにより多数の熱電素子47が電気的に直列接続されて熱電モジュール40aが形成されている。なお、吸熱側電極46の一端部にはリード線48,48を接続するための一対の端子部46a,46aが形成されている。
ここで、第1コルゲートフィン41および第2コルゲートフィン44は、上述したコルゲートフィン13と同様な材質により形成されており、接合領域41a(44a)と、これらの相隣接する接合領域41a(44a)間より上方(下方)に突出して形成された非接合領域41b(44b)とからなる。ここで、接合領域41a(44a)には、図5(a)に示すように、接合領域の1面に2列の電極列が形成されるように、4個ずつの各電極43(46)が2列になるように形成されている。このため、これらの接合領域41a(44a)の幅(X=2x+y)は、上述した各実施例1〜3の接合領域13a,21a(25a),31a(34a)の幅(x)よりもx+yだけ大きくなるように形成されている。
絶縁樹脂層42,45は、上述した絶縁樹脂層14と同様な材質で、厚みが10〜100μmのポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂により形成されている。この場合も、ポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂の熱伝導性を向上させるために、アルミナ(Al2O3)や窒化アルミニウム(AlN)や酸化マグネシウム(MgO)などの平均粒径が15μm以下の粉末からなるフィラーが分散して添加されている。また、放熱側電極43および吸熱側電極46は、上述した放熱側電極12および吸熱側電極15と同様に、厚みが70〜200μmの銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、両電極43,46間で電気的に直列接続されるように多数の熱電素子47が配置、接合されている。
そして、放熱側電極43と吸熱側電極46にそれぞれSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けされて、接合面にハンダ接合層47a,47aが形成されている。なお、熱電素子47も上述した熱電素子16と同様な組成のもので構成されている。
本第4実施例の熱交換装置40においては、支持基板を用いていないので、熱抵抗が低下して最大吸熱量(Qmax)が向上する。また、コルゲートフィン41(44)の接合領域41a(44a)間に対応する一部の箇所には、絶縁性樹脂層42(45)や各電極43(46)が存在しない空隙部が形成されることとなるので、これらの空隙部により熱応力を吸収できる構造となる。これにより、熱応力に起因する熱電素子47のひびや破損の発生が未然に防止でき、信頼性が向上した熱交換装置40が得られるようになる。
〈熱交換装置40の作製例〉
上述のような構成となる熱交換装置40の作製例を以下に説明する。まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域41aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)42を介して放熱側電極43が接合された第1コルゲートフィン41を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域44aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)45を介して吸熱側電極46が接合された第2コルゲートフィン44を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子47を用意する。
上述のような構成となる熱交換装置40の作製例を以下に説明する。まず、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域41aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)42を介して放熱側電極43が接合された第1コルゲートフィン41を用意する。また、銅または銅合金あるいはアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されていて、接合領域44aに絶縁樹脂層(厚みは10〜100μm)45を介して吸熱側電極46が接合された第2コルゲートフィン44を用意する。さらに、複数のP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子47を用意する。
ここで、放熱側電極43および吸熱側電極46は、銅膜あるいは銅合金膜から形成されており、例えば、DBC(ダイレクトボンディングカッパー)などにより、所定の厚み(例えば、70〜200μm)で所定の電極パターンとなるように形成されている。そして、これらの接合領域41aおよび接合領域44aには、図5(a)に示すように、接合領域の1面に4個ずつの各電極43(46)が2列になるように形成されている。さらに、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子の先端部(長さ方向の両端部)にはニッケルメッキが施されている。
ついで、第2コルゲートフィン44に形成された銅膜あるいは銅合金膜からなる吸熱側電極46の上に、P型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子47を交互に配列するとともに、これらの熱電素子47の上に、銅膜あるいは銅合金膜からなる放熱側電極43が形成された第1コルゲートフィン41を配置する。そして、放熱側電極43と、これらの下に配置された多数のP型半導体化合物素子およびN型半導体化合物素子からなる熱電素子47とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けするとともに、これらの多数の熱電素子47と吸熱側電極46とをSnSb合金やSnAu合金やSnAgCu合金からなるハンダによりハンダ付けする。
これにより、放熱側電極43と吸熱側電極46との間にP型半導体化合物素子とN型半導体化合物素子とからなる熱電素子47がハンダ接合層47a,47aを介して交互に直列接続されることとなる。この後、吸熱側電極46の一端部に形成された一対の端子部46a,46aにリード線48,48をハンダ付けにより接続することにより、熱交換装置40が作製されることとなる。
(変形例)
上述した第4実施例の熱交換装置40においては、接合領域の1面に2列の電極列を配置する例について説明したが、接合領域の1面に配置する電極列は2列に限らず、複数列としてしてもよい。そこで、本変形例の熱交換装置40Aにおいては、図6(a)に示すように、接合領域の1面に4列の電極列が形成されるように、4個ずつの各電極43(46)が4列になるように形成するようにしている。なお、これらの第1コルゲートフィン41および第2コルゲートフィン44は、上述したコルゲートフィン13と同様な材質により形成されており、接合領域41a(44a)と、これらの相隣接する接合領域41a(44a)間より上方(下方)に突出して形成された非接合領域41b(44b)とからなる。この場合、これらの接合領域41a(44a)の幅(X=4x+3y)は、上述した各実施例1〜3の接合領域13a,21a(25a),31a(34a)の幅(x)よりも3x+3yだけ大きくなるように形成されている。
上述した第4実施例の熱交換装置40においては、接合領域の1面に2列の電極列を配置する例について説明したが、接合領域の1面に配置する電極列は2列に限らず、複数列としてしてもよい。そこで、本変形例の熱交換装置40Aにおいては、図6(a)に示すように、接合領域の1面に4列の電極列が形成されるように、4個ずつの各電極43(46)が4列になるように形成するようにしている。なお、これらの第1コルゲートフィン41および第2コルゲートフィン44は、上述したコルゲートフィン13と同様な材質により形成されており、接合領域41a(44a)と、これらの相隣接する接合領域41a(44a)間より上方(下方)に突出して形成された非接合領域41b(44b)とからなる。この場合、これらの接合領域41a(44a)の幅(X=4x+3y)は、上述した各実施例1〜3の接合領域13a,21a(25a),31a(34a)の幅(x)よりも3x+3yだけ大きくなるように形成されている。
5.評価試験
(1)性能評価(最大吸熱量)
ついで、上述のように構成される各熱交換装置10,20,30,40,40A、および従来例の熱交換装置50(図7参照)を用いて、性能評価の指標となる最大吸熱量(Qmax)を以下のようにして求めた。即ち、まず、熱交換装置10,20,30,40,40A,50を用いて試験用の熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xを作製した。ついで、これらの熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xをベルジャー内において、各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xを熱容量が大きい均熱銅板に挟み、各コルゲートフィンと均熱銅板との接触部分にシリコングリースを塗布し、雰囲気を真空にして行った。これにより、下記の表1に示すような結果が得られた。
(1)性能評価(最大吸熱量)
ついで、上述のように構成される各熱交換装置10,20,30,40,40A、および従来例の熱交換装置50(図7参照)を用いて、性能評価の指標となる最大吸熱量(Qmax)を以下のようにして求めた。即ち、まず、熱交換装置10,20,30,40,40A,50を用いて試験用の熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xを作製した。ついで、これらの熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xをベルジャー内において、各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xを熱容量が大きい均熱銅板に挟み、各コルゲートフィンと均熱銅板との接触部分にシリコングリースを塗布し、雰囲気を真空にして行った。これにより、下記の表1に示すような結果が得られた。
この場合、P型半導体化合物素子としてはBi0.4Sb1.6Te3と表される組成のものを使用し、N型半導体化合物素子としてはBi1.9Sb0.1Te2.7Se0.3と表される組成のものを使用し、これらを液体急冷法によって作製した箔状粉末をホットプレス法によりバルク化し、1.5mm(長さ)×1.5mm(幅)×1.0mm(高さ)の寸法になるように切断して形成したものを100対にして使用した。また、また、各電極12,15,24,27,33,36,43,46は厚みが120μmで、1つの電極は1.8mm×3mmの大きさになるようにパターン形成したものを用いた。さらに、各コルゲートフィン13,21,25,31,34,41,44は銅製で40mm(長さ)×40mm(幅)×10mm(高さ)の寸法になるように形成したものを使用した。
そして、上述した第1実施例の熱交換装置10においては、支持基板11および絶縁樹脂層14をポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂にアルミナ粉末をフィラーとして分散させて、厚みが20μmになるように形成し、熱交換装置A1(ポリイミド樹脂)、熱交換装置A2(エポキシ樹脂)とした。また、上述した第2実施例の熱交換装置20においては、絶縁樹脂層23,26をポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂にフィラーとしてアルミナ粉末、あるいはアルミナ粉末が50%(体積率)で窒化アルミニウム粉末が50%(体積率)となる混合粉末を分散させて、厚みが20μmになるように形成し、熱交換装置B1(ポリイミド樹脂、フィラー:アルミナ)、B2(エポキシ樹脂、フィラー:アルミナ)、B3(エポキシ樹脂、フィラー:アルミナ粉末50%,窒化アルミニウム粉末50%)とした。
また、上述した第3実施例の熱交換装置30においては、絶縁樹脂層32,35をエポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂にアルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末をフィラーとして分散させて、厚みが20μmになるように形成し、熱交換装置C1(エポキシ樹脂、フィラー:アルミナ),C2(エポキシ樹脂、フィラー:窒化アルミニウム),C3(エポキシ樹脂、フィラー:酸化マグネシウム)とするとともに、熱交換装置C4(ポリイミド樹脂、フィラー:アルミナ),C5(ポリイミド樹脂、フィラー:窒化アルミニウム),C6(ポリイミド樹脂、フィラー:酸化マグネシウム)とした。
また、上述した第4実施例の熱交換装置40においては、絶縁樹脂層42,45をエポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂に、フィラーとしてアルミナ粉末が50%(体積率)で窒化アルミニウム粉末が50%(体積率)となるように分散させて、厚みが20でμmになるように形成し、熱交換装置D1(エポキシ樹脂)、D2(ポリイミド樹脂)とした。
また、上述した第4実施例の変形例となる熱交換装置40Aにおいては、絶縁樹脂層42,45をポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂に、フィラーとしてアルミナ粉末が50%(体積率)で酸化マグネシウム粉末が50%(体積率)となるように分散させて、厚みが20でμmになるように形成し、熱交換装置E1(ポリイミド樹脂)、E2(エポキシ樹脂)とした。さらに、上述した従来例(図7参照)の熱交換装置50においては、支持基板51,56をエポキシ樹脂にアルミナ粉末をフィラーとして分散させて、厚みが20μmになるように形成し、熱交換装置Xとした。
上記表1の結果から明らかなように、本発明の各実施例の熱交換装置10,20,30,40,40Aを用いて作製した熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2は、従来例の熱交換装置50を用いて作製した熱交換装置Xよりも最大吸熱量(Qmax)が向上していることが分かる。これは、支持基板を用いないか、用いても片側のみとしたことにより、熱抵抗が低下したためと考えられる。
(2)信頼性評価(ACR変化率)
(2)信頼性評価(ACR変化率)
また、上述のように構成される各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xを用いて、信頼性評価の指標となる交流抵抗値(ACR)の変化率(増加率)を以下のようにして求めた。この場合、まず、湿度が95%で、温度が30℃の環境下で、各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xの上部と下部との間の温度差が10℃から90℃になるように2分間で昇温させ、この温度を1分間保持した後、この温度が90℃から10℃になるまで3分間で降温させるという温度サイクルを100000サイクル繰り返して行った。
そして、1万、2万、4万、6万、8万、10万サイクル後に、各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xの交流抵抗値(ACR)を測定し、温度サイクル前のACRとの比率(変化率)を求めると下記の表2に示すような結果が得られた。また、1万、2万、4万、6万、8万、10万サイクル後に、各熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2,Xの最大吸熱量(Qmax)も測定し、温度サイクル前の最大吸熱量(Qmax)との比率(変化率)を求めると下記の表2に示すような結果が得られた。
上記表2の結果から明らかなように、上述のような熱サイクルが6万サイクルを越えるようになると、本発明の各実施例の熱交換装置10,20,30,40,40Aを用いて作製した熱交換装置A1〜A2,B1〜B3,C1〜C6,D1〜D2,E1〜E2は、従来例の熱交換装置50を用いて作製した熱交換装置Xよりも、ACR変化率(%)およびQmax変化率(%)が小さくなっていることが分かる。これは、支持基板を用いないか、用いても片側のみとし、かつ各電極15間、電極27間、電極33間、電極36間、電極43間および電極46間に空隙部が形成されていることにより、熱応力を吸収できるような構造となったためと考えられる。
なお、上述した実施の形態においては、合成樹脂材料としてポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂を用いる例について説明したが、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂以外のアラミド樹脂、BT樹脂(ビスマレイミド・トリアジン樹脂)などを用いるようにしても、上述と同様のことがいえる。
また、上述した実施の形態においては、フィラー材料としてアルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末のいずれかを用いる例について説明したが、フィラー材料としてはこれらに限ることなく、熱伝導性が良好な材料であれば、カーボン粉末、炭化ケイ素、窒化ケイ素などを用いるようにしてもよい。また、フィラー材料は1種類だけでもよいが、これらの2種類以上を混合して用いるようにしてもよい。さらに、フィラーの形状は球状、針状またはこれらの混合でも効果がある。
また、上述した実施の形態においては、フィラー材料としてアルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末のいずれかを用いる例について説明したが、フィラー材料としてはこれらに限ることなく、熱伝導性が良好な材料であれば、カーボン粉末、炭化ケイ素、窒化ケイ素などを用いるようにしてもよい。また、フィラー材料は1種類だけでもよいが、これらの2種類以上を混合して用いるようにしてもよい。さらに、フィラーの形状は球状、針状またはこれらの混合でも効果がある。
10…第1実施例の熱交換装置、10a…熱電モジュール、11…支持基板、12…放熱側電極、13…コルゲートフィン、13a…接合領域、13b…非接合領域、14…絶縁樹脂層、15…吸熱側電極、15a…端子部、16…熱電素子、16a…ハンダ接合層、17…リード線、20…第2実施例の熱交換装置、20a…熱電モジュール、21…第1コルゲートフィン、21a…接合領域、21b…非接合領域、22…接合膜、23…絶縁樹脂層、24…放熱側電極、25…第2コルゲートフィン、25a…接合領域、25b…非接合領域、26…絶縁樹脂層、27…吸熱側電極、27a…端子部、28…熱電素子、28a…ハンダ接合層、29…リード線、30…第3実施例の熱交換装置、30a…熱電モジュール、31…第1コルゲートフィン、31a…接合領域、31b…非接合領域、32…絶縁樹脂層、33…放熱側電極、34…第2コルゲートフィン、34a…接合領域、35…絶縁樹脂層、36…吸熱側電極、36a…端子部、37…熱電素子、37a…ハンダ接合層、38…リード線、40…第4実施例の熱交換装置、40a…熱電モジュール、41…第1コルゲートフィン、41a…接合領域、41b…非接合領域、42…絶縁樹脂層、43…放熱側電極、44…第2コルゲートフィン、44a…接合領域、45…絶縁樹脂層、46…吸熱側電極、46a…端子部、47…熱電素子、47a…ハンダ接合層、48…リード線、40A…第4実施例の変形例の熱交換装置
Claims (6)
- 放熱側電極と、吸熱側電極と、これらの両電極間で直列接続されるように接合金属により接合された複数の熱電素子とからなる熱電モジュールを備え、当該熱電モジュールの放熱側あるいは吸熱側の少なくとも一方に熱交換器が接合された熱交換装置であって、
前記熱電モジュールの前記放熱側あるいは前記吸熱側の少なくとも一方の電極は支持基板を備えなく、
前記支持基板を備えない電極に高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層を介して前記熱交換器が接合されているとともに、
前記熱交換器は前記絶縁性樹脂層を介して前記支持基板を備えない電極に接合される接合領域と、前記接合領域に隣接し該接合領域より突出して形成された非接合領域とからなるコルゲートフィンであり、
前記接合領域は前記支持基板を備えない電極上に配置され、前記非接合領域は前記電極間の空隙部に配置され、かつ前記接合領域と前記非接合領域とが相隣接して交互に形成されていることを特徴とする熱交換装置。 - 前記接合領域の両方は前記支持基板を備えない電極上に配置されて、前記非接合領域は前記電極間の空隙部に配置され、かつ前記接合領域と前記非接合領域とが相隣接して交互に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の熱交換装置。
- 前記コルゲートフィンの接合領域の幅は当該接合領域間の空隙部の幅よりも大きく形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱交換装置。
- 前記高熱伝導性で接着性を有する絶縁性樹脂層はポリイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂のいずれかから形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の熱交換装置。
- 前記絶縁性樹脂層中に高熱伝導性を有するフィラーが分散されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の熱交換装置。
- 前記フィラーはアルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末のいずれかから選択されていることを特徴とする請求項5に記載の熱交換装置。
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