JP2009239222A - プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ10内には、被処理基板ハWを載置するサセプタ(下部電極)12とシャワーヘッドを兼ねる上部電極60が向かい合って配置される。サセプタ12には、第1および第2の高周波電源30,32がマッチングユニット34および給電棒36を介して電気的に接続されている。サセプタ12の上面の周辺部にはフォーカスリング38が設けられる。可変直流電源74は、切替スイッチ76および直流給電ライン78,80を介して、上部電極60に接続可能であるとともに、フォーカスリング38とも接続可能となっている。
【選択図】図1
Description
ウエハ口径: 300mm
有機膜: カーボンマスク
処理ガス: O2
チャンバ内の圧力: 20mTorr
高周波電力: 40MHz/2MHz=500/0W
温度: 上部電極/チャンバ側壁/下部電極=150/150/30℃
自己バイアス電圧: Vdc=−650V
直流電圧: VF=無印加,−700V,−750V,−800V(4通り)
12 サセプタ(下部電極)
26 排気装置
30 第1高周波電源
32 第2高周波電源
38 フォーカスリング
60 上部電極(シャワーヘッド)
70 処理ガス供給部
74,74A,74B 可変直流電源
76,76A,76B 切替スイッチ
78,80 直流給電ライン(直流給電/接地ライン)
82,84 フィルタ
86 DCグランドパーツ(直流接地電極)
88 接地ライン
96 直流給電/接地ライン
110 制御部
Claims (13)
- 真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を載置する下部電極と、
前記処理容器内で前記下部電極と平行に向かい合う上部電極と、
前記上部電極と前記下部電極との間の処理空間に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
高周波放電によって前記処理ガスのプラズマを生成するための第1高周波を前記下部電極に印加する第1高周波給電部と、
前記下部電極の上面の前記基板の半径方向外側にはみ出る周辺部分を覆うフォーカスリングと、
可変の直流電圧を出力する直流電源と、
プラズマエッチングのプロセス条件に応じて、前記直流電源を前記フォーカスリングおよび前記上部電極の中のいずれか片方または双方に接続する直流電圧給電網と
を有するプラズマエッチング装置。 - 真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を載置する下部電極と、
前記処理容器内で前記下部電極と平行に向かい合う上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
高周波放電によって前記処理ガスのプラズマを生成するための第1高周波を前記下部電極に印加する第1高周波給電部と、
前記下部電極の上面の前記基板の半径方向外側にはみ出る周辺部分を覆うフォーカスリングと、
前記上部電極に印加するための可変の第1直流電圧を出力する第1直流電源と、
前記フォーカスリングに印加するための可変の第2直流電圧を出力する第2直流電源と、
プラズマエッチングのプロセス条件に応じて、前記第1直流電源および前記第2直流電源を前記上部電極および前記フォーカスリングにそれぞれ接続し、もしくは前記第1直流電源または前記第2直流電源の片方のみを前記上部電極または前記フォーカスリングの片方に接続する直流電圧給電網と
を有するプラズマエッチング装置。 - 前記プラズマを介して前記上部電極との間または前記フォーカスリングとの間で直流の電流を流すために、前記処理容器内で前記プラズマに曝される位置に設けられ、直流的に接地される直流接地電極を有する請求項1または請求項2に記載のプラズマエッチング装置。
- 真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を載置する下部電極と、
前記処理容器内で前記下部電極と平行に向かい合う上部電極と、
前記上部電極と前記下部電極との間の処理空間に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
高周波放電によって前記処理ガスのプラズマを生成するための第1高周波を前記下部電極に印加する第1高周波給電部と、
前記下部電極の上面の前記基板の半径方向外側にはみ出る周辺部分を覆うフォーカスリングと、
可変の直流電圧を出力する直流電源と、
前記プラズマを介して前記上部電極との間または前記フォーカスリングとの間で直流の電流を流すために、前記処理容器内で前記プラズマに曝される位置に設けられる直流接地電極と、
前記基板上の被加工膜をエッチングするときは、プロセス条件に応じて前記直流電源を前記フォーカスリングおよび前記上部電極の中のいずれか片方または双方に接続するとともに前記直流接地電極を接地し、前記直流接地電極の表面をスパッタクリーニングするときは、前記直流接地電極に前記直流電源を接続するとともに前記上部電極および前記フォーカスリングの少なくとも一方を接地する直流電圧給電網と
を有するプラズマエッチング装置。 - 主として前記下部電極上の前記基板にプラズマ中のイオンを引き込むための第2高周波を前記下部電極に印加する第2高周波給電部を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラズマエッチング装置。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマエッチング装置を用いて前記基板上の少なくとも有機膜をエッチングするプラズマエッチング方法であって、
前記有機膜をエッチングする工程では、前記下部電極上に生成される自己バイアス電圧よりも絶対値の大きい負極性の直流電圧を前記フォーカスリングに印加するプラズマエッチング方法。 - 前記基板上で相対的に基板中心部のエッチングレートが基板エッジ部のエッチングレートよりも低くなるのを適度に補正するように、前記直流電圧の絶対値を選定する請求項6に記載のプラズマエッチング方法。
- 前記処理ガスは不活性ガスを含まない請求項6または請求項7に記載のプラズマエッチング方法。
- 前記有機膜はカーボン膜であり、前記処理ガスはO2ガスである請求項6〜8のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法。
- 前記基板上に有機膜以外の被加工膜が形成され、その被加工膜をエッチングする工程では前記フォーカスリングに直流電圧を印加しない請求項6〜9のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法。
- プロセス条件に応じて選択的に、前記上部電極に所望の直流電圧を印加する請求項6〜10のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法。
- プロセス条件に応じて選択的に、前記基板にプラズマ中のイオンを引き込むための第2高周波を前記下部電極に印加する請求項6〜11のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法。
- コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ記憶媒体であって、前記制御プログラムは、実行時に、請求項6〜12のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法が行われるようにプラズマエッチング装置を制御することを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012138497A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2019004027A (ja) * | 2017-06-14 | 2019-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
KR20190063402A (ko) | 2017-11-29 | 2019-06-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 반도체 제조 장치용의 부품 및 반도체 제조 장치 |
KR20190065141A (ko) | 2017-12-01 | 2019-06-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 지지 어셈블리 및 지지 어셈블리의 조립 방법 |
JP2019096869A (ja) * | 2017-10-24 | 2019-06-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマフィルタリングのためのシステム及び処理 |
KR20190098918A (ko) | 2018-02-15 | 2019-08-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 피처리체의 탑재 장치 및 처리 장치 |
JP2019186400A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム |
JP2020502820A (ja) * | 2016-10-21 | 2020-01-23 | ヴォールト クリエーション カンパニー リミテッド | ドライエッチング装置及びその制御方法 |
JP2020113652A (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP2021002576A (ja) * | 2019-06-21 | 2021-01-07 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
KR102560774B1 (ko) * | 2022-01-28 | 2023-07-27 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법 |
JP7401313B2 (ja) | 2019-01-11 | 2023-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP7462383B2 (ja) | 2019-04-15 | 2024-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | クリーニング方法及びプラズマ処理装置 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5350043B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2013-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
US9299539B2 (en) * | 2009-08-21 | 2016-03-29 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for measuring wafer bias potential |
JP4875190B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2012-02-15 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP5432686B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2014-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR20120041427A (ko) * | 2010-10-21 | 2012-05-02 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 진단장치 및 그 제어방법 |
US20120283973A1 (en) * | 2011-05-05 | 2012-11-08 | Imec | Plasma probe and method for plasma diagnostics |
US8486798B1 (en) | 2012-02-05 | 2013-07-16 | Tokyo Electron Limited | Variable capacitance chamber component incorporating a semiconductor junction and methods of manufacturing and using thereof |
US8721833B2 (en) | 2012-02-05 | 2014-05-13 | Tokyo Electron Limited | Variable capacitance chamber component incorporating ferroelectric materials and methods of manufacturing and using thereof |
US9209032B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-12-08 | Tokyo Electron Limited | Electric pressure systems for control of plasma properties and uniformity |
WO2014149259A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for tuning a plasma profile using a tuning ring in a processing chamber |
JP6574547B2 (ja) * | 2013-12-12 | 2019-09-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP6573325B2 (ja) * | 2013-12-17 | 2019-09-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ密度を制御するシステムおよび方法 |
KR102222902B1 (ko) | 2014-05-12 | 2021-03-05 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 장비 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 |
JP2019503077A (ja) * | 2016-01-07 | 2019-01-31 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 遠隔プラズマ源及びdc電極を伴う原子層エッチングシステム |
JP7033907B2 (ja) | 2017-12-21 | 2022-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 |
JP2019129123A (ja) * | 2018-01-26 | 2019-08-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 直流電圧を印加する方法及びプラズマ処理装置 |
JP7018331B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2022-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
CN110323350B (zh) * | 2018-03-29 | 2021-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜封装方法、薄膜封装结构、显示装置 |
US11153960B1 (en) * | 2018-06-08 | 2021-10-19 | Innoveering, LLC | Plasma-based electro-optical sensing and methods |
JP7090149B2 (ja) * | 2018-06-22 | 2022-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマエッチング方法 |
JP7250449B2 (ja) | 2018-07-04 | 2023-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 |
JP7278896B2 (ja) * | 2019-07-16 | 2023-05-22 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP7394601B2 (ja) * | 2019-11-28 | 2023-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び測定方法 |
TWI767655B (zh) * | 2020-05-01 | 2022-06-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 蝕刻裝置及蝕刻方法 |
CN112614769B (zh) * | 2020-12-11 | 2021-12-31 | 无锡邑文电子科技有限公司 | 一种碳化硅刻蚀工艺腔体装置及使用方法 |
JP2022181831A (ja) * | 2021-05-27 | 2022-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | クリーニングを制御する方法及びプラズマ処理装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04196319A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-16 | Toshiba Corp | 放電処理装置 |
JPH06283474A (ja) * | 1993-03-27 | 1994-10-07 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH09176860A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Fujitsu Ltd | 基板載置台、プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2004260159A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-09-16 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法 |
JP2006080375A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体集積装置製造用のプラズマ処理方法 |
JP2006270019A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2006270018A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2006286812A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP2007103604A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Hitachi High-Technologies Corp | エッチング方法および処理装置 |
JP2007258417A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法 |
JP2007266529A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5494522A (en) * | 1993-03-17 | 1996-02-27 | Tokyo Electron Limited | Plasma process system and method |
CN100418187C (zh) * | 2003-02-07 | 2008-09-10 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置、环形部件和等离子体处理方法 |
US7988816B2 (en) * | 2004-06-21 | 2011-08-02 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus and method |
US8034213B2 (en) * | 2006-03-30 | 2011-10-11 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
US7829469B2 (en) * | 2006-12-11 | 2010-11-09 | Tokyo Electron Limited | Method and system for uniformity control in ballistic electron beam enhanced plasma processing system |
-
2008
- 2008-03-28 JP JP2008086861A patent/JP5281309B2/ja active Active
-
2009
- 2009-03-25 US US12/411,001 patent/US20090242127A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04196319A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-16 | Toshiba Corp | 放電処理装置 |
JPH06283474A (ja) * | 1993-03-27 | 1994-10-07 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH09176860A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Fujitsu Ltd | 基板載置台、プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2004260159A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-09-16 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法 |
JP2006270019A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2006270018A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2006080375A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体集積装置製造用のプラズマ処理方法 |
JP2006286812A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP2007103604A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Hitachi High-Technologies Corp | エッチング方法および処理装置 |
JP2007258417A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法 |
JP2007266529A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9251998B2 (en) | 2010-12-27 | 2016-02-02 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
JP2012138497A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2020502820A (ja) * | 2016-10-21 | 2020-01-23 | ヴォールト クリエーション カンパニー リミテッド | ドライエッチング装置及びその制御方法 |
JP2019004027A (ja) * | 2017-06-14 | 2019-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2019096869A (ja) * | 2017-10-24 | 2019-06-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマフィルタリングのためのシステム及び処理 |
KR20190063402A (ko) | 2017-11-29 | 2019-06-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 반도체 제조 장치용의 부품 및 반도체 제조 장치 |
KR20190065141A (ko) | 2017-12-01 | 2019-06-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 지지 어셈블리 및 지지 어셈블리의 조립 방법 |
JP2019102638A (ja) * | 2017-12-01 | 2019-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 支持アセンブリ及び支持アセンブリの組立方法 |
JP7033441B2 (ja) | 2017-12-01 | 2022-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
US11201038B2 (en) | 2017-12-01 | 2021-12-14 | Tokyo Electron Limited | Support assembly and support assembly assembling method |
US11201039B2 (en) | 2018-02-15 | 2021-12-14 | Tokyo Electron Limited | Mounting apparatus for object to be processed and processing apparatus |
KR20190098918A (ko) | 2018-02-15 | 2019-08-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 피처리체의 탑재 장치 및 처리 장치 |
JP7055054B2 (ja) | 2018-04-11 | 2022-04-15 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム |
JP2019186400A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム |
JP2020113652A (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP7258562B2 (ja) | 2019-01-11 | 2023-04-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP7401313B2 (ja) | 2019-01-11 | 2023-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP7462383B2 (ja) | 2019-04-15 | 2024-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | クリーニング方法及びプラズマ処理装置 |
JP2021002576A (ja) * | 2019-06-21 | 2021-01-07 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP7071946B2 (ja) | 2019-06-21 | 2022-05-19 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR102560774B1 (ko) * | 2022-01-28 | 2023-07-27 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090242127A1 (en) | 2009-10-01 |
JP5281309B2 (ja) | 2013-09-04 |
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