JP2009231549A - 窒化物系半導体発光素子 - Google Patents
窒化物系半導体発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009231549A JP2009231549A JP2008075354A JP2008075354A JP2009231549A JP 2009231549 A JP2009231549 A JP 2009231549A JP 2008075354 A JP2008075354 A JP 2008075354A JP 2008075354 A JP2008075354 A JP 2008075354A JP 2009231549 A JP2009231549 A JP 2009231549A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- nitride
- layer
- based semiconductor
- ico
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/40—Materials therefor
- H01L33/42—Transparent materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system
- H01L33/32—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system containing nitrogen
Abstract
【解決手段】全体に対し、酸化セリウムが10wt%〜20wtの割合で含有されている酸化インジウムセリウムを用いて窒化物半導体発光素子の電極を形成する。
【選択図】図1
Description
一般的に、透光性電極としてITO(Indium−Tin−Oxide(酸化インジウム錫))を使用したフェイスアップ型発光素子が知られている。
ITOは屈折率が1.8〜1.9であるため、更なる高屈折率の透光性電極が求められている。その一例として、屈折率が2.0〜2.1であるICO(Indium−Cerium−Oxide(酸化インジウムセリウム))を用いることが考えられる(例えば、特許文献1参照。)。
前記透光性電極は、p電極として用いられることが好ましい。
前記透光性電極は、p電極及びn電極として用いられることが好ましい。
前記透光性電極の膜厚は、100nm〜1000nmであることが好ましい。
図1(a),(b),(c),(d)は、本発明の第1の実施の形態の発光素子の製造方法を示す断面図である。
有機洗浄及び熱処理により洗浄したサファイア基板1をMOCVD装置の反応室に載置されたサセプタに装着する。次に、常圧でH2(水素)を流速2リットル/分で約30分間反応室に流しながら温度1100℃でサファイア(Al2O3)基板10をベーキングした。
図3は、ICO膜の組成に対する順方向電圧(順方向電流20mA時の電圧)とシート抵抗の測定結果を示すグラフである。
図3を参照すると、酸化セリウムの含有量が10wt%〜20wt%において、順方向電圧はその前後の含有量より顕著に低い値を示している。この傾向は、シート抵抗についても同様に表れている。
図4を参照すると、酸化セリウムの含有量が25wt%以上になると、全放射束は低くなる傾向にあることがわかる。
尚、上記の製造方法によるICO膜のp型層に対するコンタクト抵抗は0.006Ω・cm2であることが確認されており、良好なオーミック接触を得られている。
図2(a),(b),(c),(d)は、本発明の第2の実施の形態の発光素子の製造方法を示す断面図である。
即ち、本実施の形態では、n電極の電極はp電極及びpパッド電極と同じ材質、同じ膜厚であり同じ積層構造である。
尚、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
上記の実施の形態では、ICO膜の形成は、n型コンタクト層を露出させた後に行なったが、ICO膜の形成の後にn型コンタクト層を露出させてもよい。尚、上記の実施の形態では、電子線蒸着法を用いてICO膜を形成したが、イオンプレーティング法,スパッタ法によりICO膜を形成してもよい。
n型コンタクト層と接するn電極の最下層は、上記の実施の形態で挙げたV(バナジウム)以外でもn型コンタクト層とオーミック接触する金属であればよい。このような金属として、Ni(ニッケル),Ti(チタン),W(タングステン)が挙げられる。
pパッド電極の最上層及びn電極の最上層は、ボンディング性が良好なAu(金),Au合金,Al(アルミニウム),アルミニウム合金が好ましい。
更に、上記の実施の形態では、窒化物系半導体層の成長基板として、サファイア基板を用いたが、これに替えて、スピネル(MgAl2O4),窒化ガリウム(GaN),炭化珪素(SiC),酸化ガリウム(Ga2O3)等からなる結晶基板を用いてもよい。
その一例として、成長基板上に窒化物系半導体層を形成した後、p型コンタクト層の表面にAg(銀)やAg合金等の高い反射性金属を用いてp電極を形成した後、AuSn(金錫)等のハンダを介して、Cu等の金属やp型シリコン単結晶からなる支持基板と接合させた後、成長基板と窒化物半導体層との界面にレーザーを照射して成長基板を除去し、表出したn型層の表面にn電極を形成する窒化物系半導体発光素子が挙げられる。
2 バッファ層
3 n型層
4 p型層
10 p電極
11 pパッド電極
20 n電極
20a n電極下層20a
20a n電極上層20b
30 保護膜
Claims (4)
- 透光性電極を有する窒化物系半導体発光素子において、
前記透光性電極は酸化インジウムセリウムからなり、前記酸化インジウムセリウムの全体に対し、酸化セリウムが10wt%〜20wt%の割合で含有されている
ことを特徴とする窒化物系半導体発光素子。 - 前記透光性電極は、p電極として用いられることを特徴とする請求項1に記載の窒化物系半導体発光素子。
- 前記透光性電極は、p電極及びn電極として用いられることを特徴とする請求項1に記載の窒化物系半導体発光素子。
- 前記透光性電極の膜厚は、100nm〜1000nmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の窒化物系半導体発光素子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008075354A JP2009231549A (ja) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | 窒化物系半導体発光素子 |
US12/382,676 US8294136B2 (en) | 2008-03-24 | 2009-03-20 | Nitride-based semiconductor light emitting element |
KR1020090024395A KR101023600B1 (ko) | 2008-03-24 | 2009-03-23 | 질화물계 반도체 발광 소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008075354A JP2009231549A (ja) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | 窒化物系半導体発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009231549A true JP2009231549A (ja) | 2009-10-08 |
Family
ID=41132420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008075354A Pending JP2009231549A (ja) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | 窒化物系半導体発光素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8294136B2 (ja) |
JP (1) | JP2009231549A (ja) |
KR (1) | KR101023600B1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012069860A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光装置およびその製造方法 |
JP2014007181A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-16 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2015185548A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 豊田合成株式会社 | 半導体発光素子とその製造方法および発光装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010539727A (ja) * | 2008-04-17 | 2010-12-16 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | 太陽電池及びその製造方法 |
JP5733208B2 (ja) * | 2009-08-05 | 2015-06-10 | 住友金属鉱山株式会社 | イオンプレーティング用タブレットとその製造方法、および透明導電膜 |
JP5257372B2 (ja) | 2009-11-30 | 2013-08-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物蒸着材と透明導電膜および太陽電池 |
JP4968318B2 (ja) * | 2009-12-22 | 2012-07-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物蒸着材 |
JP5734935B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2015-06-17 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09176837A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電膜 |
JP2002313141A (ja) * | 2001-04-16 | 2002-10-25 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル |
JP2006108164A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Toyoda Gosei Co Ltd | 電極形成方法 |
JP2006279005A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Super Nova Optoelectronics Corp | 分極反転層を具えた窒化ガリウム系発光ダイオード |
JP2007158128A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体光素子 |
JP2008042143A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19948839A1 (de) * | 1999-10-11 | 2001-04-12 | Bps Alzenau Gmbh | Leitende transparente Schichten und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US6777805B2 (en) * | 2000-03-31 | 2004-08-17 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Group-III nitride compound semiconductor device |
US7217344B2 (en) * | 2002-06-14 | 2007-05-15 | Streaming Sales Llc | Transparent conductive film for flat panel displays |
TW561637B (en) * | 2002-10-16 | 2003-11-11 | Epistar Corp | LED having contact layer with dual dopant state |
KR200376685Y1 (ko) | 2004-09-16 | 2005-03-11 | 슈퍼노바 옵토일렉트로닉스 코포레이션 | 갈륨 질화물계 ⅲ-ⅴ족 화합물 반도체의 발광 디바이스 |
TWM265766U (en) * | 2004-09-16 | 2005-05-21 | Super Nova Optoelectronics Cor | Structure of GaN light emitting device |
JP4805648B2 (ja) | 2005-10-19 | 2011-11-02 | 出光興産株式会社 | 半導体薄膜及びその製造方法 |
US20070170596A1 (en) * | 2006-01-26 | 2007-07-26 | Way-Jze Wen | Flip-chip light emitting diode with high light-emitting efficiency |
JP4314623B2 (ja) * | 2006-12-07 | 2009-08-19 | 日東電工株式会社 | 透明導電性積層体及びタッチパネル |
-
2008
- 2008-03-24 JP JP2008075354A patent/JP2009231549A/ja active Pending
-
2009
- 2009-03-20 US US12/382,676 patent/US8294136B2/en active Active
- 2009-03-23 KR KR1020090024395A patent/KR101023600B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09176837A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電膜 |
JP2002313141A (ja) * | 2001-04-16 | 2002-10-25 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル |
JP2006108164A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Toyoda Gosei Co Ltd | 電極形成方法 |
JP2006279005A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Super Nova Optoelectronics Corp | 分極反転層を具えた窒化ガリウム系発光ダイオード |
JP2007158128A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体光素子 |
JP2008042143A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012069860A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光装置およびその製造方法 |
JP2014007181A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-16 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2015185548A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 豊田合成株式会社 | 半導体発光素子とその製造方法および発光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8294136B2 (en) | 2012-10-23 |
KR20090101840A (ko) | 2009-09-29 |
KR101023600B1 (ko) | 2011-03-21 |
US20090250683A1 (en) | 2009-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5115425B2 (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子 | |
JP4137936B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
JP4782022B2 (ja) | 電極の形成方法 | |
JP4987398B2 (ja) | 窒化物系半導体発光素子 | |
JP4091048B2 (ja) | 窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP2009231549A (ja) | 窒化物系半導体発光素子 | |
JP4438422B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
US20090267109A1 (en) | Compound semiconductor light-emitting device and method for manufacturing the same | |
WO2010150501A1 (ja) | 発光素子、その製造方法、ランプ、電子機器及び機械装置 | |
US8610167B2 (en) | Group III nitride compound semiconductor light-emitting device and method for producing the same | |
JP2008294306A (ja) | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 | |
JP2011066461A (ja) | 半導体発光素子 | |
TWI416760B (zh) | 三族氮化物系化合物半導體發光元件及其製造方法 | |
JP2006066903A (ja) | 半導体発光素子用正極 | |
JP2006074019A (ja) | 半導体発光素子用の透光性電極 | |
JP2008294188A (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
US20120244653A1 (en) | Method for producing group iii nitride semiconductor light emitting element | |
JP2018093160A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 | |
JP2008171997A (ja) | GaN系半導体発光素子 | |
JP2007115941A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体及び発光素子 | |
JP2006024913A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用透光性正極および発光素子 | |
JP2013122950A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子 | |
JP5379703B2 (ja) | 紫外半導体発光素子 | |
JP2013179150A (ja) | 発光ダイオードの製造方法 | |
KR20160117178A (ko) | 반도체 발광 소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100329 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120405 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121002 |