JP2009218457A - 光半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 171
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 51
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 45
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 23
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 14
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 21
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/1443—Devices controlled by radiation with at least one potential jump or surface barrier
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/102—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier or surface barrier
- H01L31/103—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier or surface barrier the potential barrier being of the PN homojunction type
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
Abstract
【目的】受光感度の向上、動作の高速化およびノイズの低減を併せて実現する光半導体装置を提供する。
【解決手段】光半導体装置は、半導体基板1と、半導体基板1上に形成された受光素子2と、半導体基板1上に形成され、受光素子2に隣接して配置された光吸収素子4と、半導体基板1上に形成された信号処理用の半導体素子3とを備えている。また、光吸収素子4は第5の半導体層29を有しており、受光素子2の光吸収領域の構成と光吸収素子の光吸収領域との構成とは異なっている。
【選択図】図1
【解決手段】光半導体装置は、半導体基板1と、半導体基板1上に形成された受光素子2と、半導体基板1上に形成され、受光素子2に隣接して配置された光吸収素子4と、半導体基板1上に形成された信号処理用の半導体素子3とを備えている。また、光吸収素子4は第5の半導体層29を有しており、受光素子2の光吸収領域の構成と光吸収素子の光吸収領域との構成とは異なっている。
【選択図】図1
Description
本発明は、受光素子とトランジスタとが同一基板上に混載された光半導体装置に関する。
光半導体装置の代表的な素子である受光素子は、光信号を電気信号に変換する素子であり、様々な分野で用いられている。中でもCD(Compact Disc)やDVD(Digital Versatile Disc)等の光ディスク分野において、光ディスク上に記録されている信号を読み書きする光ピックアップ装置のキーデバイスとして重要である。近年、高性能化・高集積化の要請により、受光素子であるフォトダイオードと、バイポーラトランジスタ、抵抗、容量等の各種電子素子を同一基板上に混載したいわゆる光電子集積回路(OEIC)が実用化されている。また、光ディスクは高倍速化・多種ディスク対応・小型化が要求されており、OEICにおいても、高受光感度・高速・低ノイズ特性を有した受光素子と、高速・低ノイズ特性を有したバイポーラトランジスタとの混載が要求されている。特に最近は、光ディスクに対する大容量化の要求に従って、青色半導体レーザ(波長405nm)を光源として採用したBlu−ray(BD)または、HD−DVDの製品化が開始され、青色半導体レーザに対応した短波長領域で高速・高受光感度・低ノイズ特性を有するOEICが要請されている。
以下、第1の従来例に係る光半導体装置について説明する。
図7は、OEICである第1の従来例に係る光半導体装置の概略構成を示す断面図である。ここでは、p型のシリコン基板上に、受光素子としてpinフォトダイオード、バイポーラトランジスタとしてNPNトランジスタが形成されたものを例示する。
図7に示すように、第1の従来例の光半導体装置は、低濃度のp型不純物を含むシリコン基板101と、シリコン基板101上に形成されたNPNトランジスタ103と、シリコン基板101上に形成されたフォトダイオード102と、シリコン基板101上であってNPNトランジスタ103とフォトダイオード102との間の領域に形成された光吸収素子104とを備えている。また、従来の光半導体装置はシリコン基板101上に形成された高濃度のp型不純物を含む第1のp型埋め込み層105と、第1のp型埋め込み層105上に形成され、低濃度のp型不純物を含むp型エピタキシャル層106と、p型エピタキシャル層106上に形成されたn型エピタキシャル層107と、n型エピタキシャル層107上に形成され、光吸収素子104とフォトダイオード102とを分離するLOCOS分離層108と、n型エピタキシャル層107およびLOCOS分離層108上に形成された絶縁膜109とを備えている。
フォトダイオード102は、上述のp型エピタキシャル層106の一部と、n型エピタキシャル層107の一部で構成されたn型のカソード層110の一部と、カソード層110の上に形成され、高濃度のn型不純物を含むカソードコンタクト層111の一部と、高濃度のp型不純物を含むアノード埋め込み層113と、アノード埋め込み層113上に設けられ、高濃度のp型不純物を含むアノードコンタクト層114と、カソードコンタクト層111上に形成された第1のカソード電極112と、アノードコンタクト層114上に形成された第1のアノード電極115とを有している。
NPNトランジスタ103は、p型エピタキシャル層106とn型エピタキシャル層107との間に形成され、高濃度のn型不純物を含むコレクタ埋め込み層116と、コレクタ埋め込み層116上に形成され、高濃度のn型不純物を含むコレクタコンタクト層117と、n型エピタキシャル層107のうちコレクタ埋め込み層116の上方に位置する領域に形成されたp型のベース層119と、ベース層119内に形成され、高濃度のn型不純物を含むエミッタ層121と、コレクタコンタクト層117上に形成されたコレクタ電極118と、ベース層119上に形成されたベース電極120と、エミッタ層121上に形成されたエミッタ電極122とを有している。
光吸収素子104は、p型エピタキシャル層106の一部と、p型エピタキシャル層106上に形成されたカソード層110の一部と、カソード層110上に形成されたカソードコンタクト層111の一部と、p型エピタキシャル層106上に形成されたp型のアノード埋め込み層113と、アノード埋め込み層113上に形成されたp型のアノードコンタクト層114と、カソードコンタクト層111上に形成された第2のカソード電極123と、アノードコンタクト層114上に形成された第2のアノード電極124とを有している。
以上のように構成された従来の光半導体装置について、以下その動作を説明する。
フォトダイオード102の上面に光が入射すると、カソード層110とアノードであるp型エピタキシャル層106とで吸収され、電子・正孔対が発生する。この時、フォトダイオード102に逆バイアスV1を印加すると、不純物濃度が低いp型エピタキシャル層106側に空乏層が広がり、空乏層近傍で発生した電子・正孔対のうち、電子はカソードコンタクト層111に、正孔はアノード埋め込み層113に拡散とドリフトによりそれぞれ分離されて到達し、キャリアがそれぞれ第1のカソード電極112と、第1のアノード電極115より光電流として取り出される。この光電流は、NPNトランジスタ103やシリコン基板101上に混載された抵抗素子や容量素子などで構成された電子回路により、増幅や信号処理されて出力され、光ディスクの記録や再生信号となる。
また、第1のp型埋め込み層105はシリコン基板101よりも高濃度のp型不純物を含むため、ポテンシャルバリアが形成される。シリコン基板101で発生したキャリアは、シリコン基板101が空乏化していないため拡散で移動するが、上記のポテンシャルバリアにより、第1のp型埋め込み層105で他方のキャリアと再結合し、p型エピタキシャル層106に到達しない。さらに、p型エピタキシャル層106中の不純物を低濃度にしてこの層を完全に空乏化させると、光電流は高速成分であるドリフト電流が支配的となり、低速成分である拡散電流がほとんど寄与しないため、フォトダイオード102の動作の高速化が可能となる。また、第1のp型埋め込み層105により形成される上述のポテンシャルバリアにより、シリコン基板101で発生したキャリアはNPNトランジスタ103にも到達しないため、トランジスタの誤動作やノイズ成分を抑制できる。
また、アノードであるp型エピタキシャル層106で発生したキャリアが、NPNトランジスタ103に到達すると、コレクタ電流成分となるため、回路の誤動作やノイズ成分になる。特に、フォトダイオード102に十分に集光されずに(フォトダイオード102の)外側に光が入射する場合には、p型エピタキシャル層106のうち、フォトダイオード102とNPNトランジスタ103との境界領域に位置する部分で多くのキャリアが発生するため、この不具合がより顕著になる。
これに対し、第1の従来例に係る光半導体装置では、光吸収素子104がフォトダイオード102とNPNトランジスタ103の間に形成されており、かつ、動作時には第2のカソード電極123と第2のアノード電極124との間に逆バイアスを印加する。これにより、光吸収素子104のカソード層110及びアノードであるp型エピタキシャル層106でフォトダイオードが形成されるため、漏れ出たキャリアはそれぞれカソードコンタクト層111とアノードコンタクト層114に吸収される。第2のカソード電極123と第2のアノード電極124の配線を、フォトダイオード102やNPNトランジスタ103の配線に接続しないようにすると、信号処理部に余分な成分が入らず、ノイズを低減することができる。
次に、漏れ出るキャリアを抑制するための、第2の従来例に係る光半導体装置について説明する。
図8は、第2の従来例に係る光半導体装置の概略構成を示す断面図である。この例では、光吸収素子は設けられておらず、フォトダイオード102の構成が第1の従来例と異なっている。
第2の従来例に係る光半導体装置は、シリコン基板101上に形成され、高濃度のn型不純物を含むn型埋め込み層126と、n型埋め込み層126上に形成され、高濃度のp型不純物を含むp型埋め込み層125と、p型埋め込み層125上に形成されたn型のカソード層110と、カソード層110上に形成されたn型のカソードコンタクト層111と、n型埋め込み層126上に形成され、高濃度のp型不純物を含むアノードコンタクト層114と、n型埋め込み層126上に形成されたn型コンタクト層127と、カソードコンタクト層111上に形成された第1のカソード電極112と、アノードコンタクト層114上に形成された第1のアノード電極115と、n型コンタクト層127上に形成されたダミーカソード電極128とを有している。
この構成では、n型エピタキシャル層107(カソード層110)とp型埋め込み層125間のPN接合によりフォトダイオードが形成されている。それに加えて、p型埋め込み層125とn型埋め込み層126間、及びn型埋め込み層126とシリコン基板101間にもPN接合が形成されている。
さらに、第1のカソード電極112と第1のアノード電極115間に逆バイアスV1が、ダミーカソード電極128と第1のアノード電極115間に逆バイアスV2が、それぞれ印加されている。そのため、シリコン基板101で吸収された光により発生したキャリアは、ダミーのフォトダイオードにより吸収され、n型埋め込み層126、n型コンタクト層127、ダミーカソード電極128の経路で移動し、光電流に寄与しない。よって遅い拡散電流成分が抑制され、高速化が可能となる。また、V1<V2とすることによりフォトダイオード102からNPNトランジスタ103へ漏れ出るキャリアも抑制できる。
特開昭63−160270号公報
特開平10−41488号公報
第1の従来例に係る光半導体装置では、フォトダイオード102から漏れ出るキャリアを完全に光吸収素子104に吸収させるために、一般的にV1<V2で使用される場合が多い。このとき、フォトダイオード102及び光吸収素子104のp型エピタキシャル層106は完全に空乏化され、かつ電位分布は光吸収素子104の方向に傾斜している。その結果、p型エピタキシャル層106及びn型エピタキシャル層107のうちフォトダイオード102の光吸収素子104近傍に位置する部分で発生したキャリアが、光吸収素子104の方向へ引っ張られ、光電流には寄与しなくなる。つまり、本来は光電流として寄与すべき成分が減少し、受光感度の低下を招く課題がある。さらに、p型エピタキシャル層106はフォトダイオード102の光吸収素子104に共通に用いられているため、両素子間のアイソレーション(分離)特性が悪く、リーク電流やノイズ成分が増大するという課題もある。
また、第2の従来例に係る光半導体装置では、NPNトランジスタ103の高速応答が要求される場合、コレクタ抵抗の低下等により周波数特性の悪化が起こるため、n型エピタキシャル層107をあまり厚くすることができない。その場合、光の吸収長の長い赤や赤外光に対して、感度が低下するという課題がある。また、ダミーフォトダイオードはフォトダイオード102に対して並列に接続された構造であるため、p型埋め込み層125とn型埋め込み層126との間、n型埋め込み層126とシリコン基板101との間、及びアノードコンタクト層114とn型コンタクト層127との間のそれぞれの接合容量がフォトダイオード102に対して寄生容量として付加されるため、CR積に左右される周波数特性の低下を招く原因となる。
本発明は、上記従来技術の不具合を解決するもので、受光感度の向上、動作の高速化およびノイズの低減を併せて実現する光半導体装置を提供することを目的とする。
前記の目的を達成するため、本発明の光半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に形成された受光素子と、前記半導体基板上に形成され、前記受光素子に隣接して配置された光吸収素子と、前記半導体基板上に形成された信号処理用の半導体素子とを備えた光半導体装置であって、前記受光素子の光吸収領域の構成と前記光吸収素子の光吸収領域との構成が異なっている。
このため、受光素子と光吸収素子の光吸収領域の構成を個別に調節することにより、感度を向上させつつノイズの低減を図り、半導体素子および受光素子の動作速度の向上を図ることができる。
具体的には、本発明の光半導体装置が前記半導体基板上に形成された第1導電型の第1の半導体層と、前記第1の半導体層上に形成された第2導電型の第2の半導体層とをさらに備え、前記受光素子は、前記第1の半導体層の一部と、前記第2の半導体層の一部で構成され、前記第1の半導体層とPN接合を形成する第3の半導体層と、前記第3の半導体層上に形成され、前記第3の半導体層よりも不純物濃度が高い第2導電型の第1のカソードコンタクト層と、前記第1の半導体層上に形成された第1導電型の第4の半導体層と、前記第4の半導体層上に形成された第1導電型の第1のアノードコンタクト層と、前記第1のカソードコンタクト層上に形成された第1のカソード電極と、前記第1のアノードコンタクト層上に形成された第1のアノード電極とを有しており、前記光吸収素子は、前記第1の半導体層の一部と、前記第1の半導体層上に形成され、前記第1の半導体層よりも不純物濃度が高い第1導電型の第5の半導体層と、前記第2の半導体層の一部で構成され、前記第5の半導体層上にPN接合された第2導電型の第6の半導体層と、前記第6の半導体層上に形成され、前記第6の半導体層よりも不純物濃度が高い第2導電型の第2のカソードコンタクト層と、前記第5の半導体層上に形成された第1導電型の第2のアノードコンタクト層と、前記第2のカソードコンタクト層上に形成された第2のカソード電極と、前記第2のアノードコンタクト層上に形成された第2のアノード電極とを有していてもよい。
この構成によれば、光吸収素子に第6の半導体層とPN接合する第5の半導体層が設けられているため、第1の半導体層のうち光吸収素子の下部に位置する部分は空乏化されない。このため、受光素子のうち光吸収素子近傍の部分で発生したキャリアが光吸収素子に流れなくなり、受光感度を向上させることができる。また、第5の半導体層と第1の半導体層との間、および第5の半導体層と受光素子と第2の半導体層との間にポテンシャルバリアが形成されるため、受光素子と光吸収素子とが電気的に分離され、リーク電流およびノイズ成分を低減することができる。さらに、光吸収素子は受光素子の寄生容量成分とならないので、受光素子の動作速度を向上させることができる。
本発明に係る光半導体装置によれば、第5の半導体層の存在により、受光感度を向上させ、リーク電流やノイズの発生を抑え、受光素子の動作の高速化を図ることができる。
(第1の実施形態)
以下、OEICである本発明の第1の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
以下、OEICである本発明の第1の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
図1は、第1の実施形態に係る光半導体装置の概略構成を示す断面図である。ここでは、p型のシリコン基板上に、受光素子としてpinフォトダイオードが形成され、バイポーラトランジスタ(半導体素子)としてNPNトランジスタが形成されたものを例示する。
図1に示すように、本実施形態の光半導体装置は、低濃度のp型不純物を含むシリコン等からなる半導体基板1と、半導体基板1上に形成されたNPNトランジスタ3と、半導体基板1上に形成されたフォトダイオード2と、半導体基板1上であってNPNトランジスタ3とフォトダイオード2との間の領域に形成された光吸収素子4とを備えている。また、本実施形態の光半導体装置は、半導体基板1上に形成され、高濃度のp型不純物を含む第1のp型埋め込み層5と、第1のp型埋め込み層5上に形成され、低濃度のp型不純物を含むp型エピタキシャル層(第1の半導体層)6と、p型エピタキシャル層6上に形成されたn型エピタキシャル層(第2の半導体層)7と、n型エピタキシャル層7上に形成され、光吸収素子4とフォトダイオード2とを分離するLOCOS分離層8と、n型エピタキシャル層7およびLOCOS分離層8上に形成された絶縁膜9とを備えている。
フォトダイオード2は、上述のp型エピタキシャル層6の一部と、n型エピタキシャル層7の一部で構成されたn型のカソード層(第3の半導体層)10aと、カソード層10aの上に形成され、高濃度のn型不純物を含むカソードコンタクト層11aと、高濃度のp型不純物を含み、p型エピタキシャル層6上に形成されたアノード埋め込み層(第4の半導体層)13aと、アノード埋め込み層13a上に設けられ、高濃度のp型不純物を含むアノードコンタクト層14aと、カソードコンタクト層11a上に形成された第1のカソード電極12と、アノードコンタクト層14a上に形成された第1のアノード電極15とを有している。
NPNトランジスタ3は、p型エピタキシャル層6とn型エピタキシャル層7との間に形成され、高濃度のn型不純物を含むコレクタ埋め込み層16と、コレクタ埋め込み層16上に形成され、高濃度のn型不純物を含むコレクタコンタクト層17と、n型エピタキシャル層7のうちコレクタ埋め込み層16の上方に位置する領域に形成されたp型のベース層19と、ベース層19内に形成され、高濃度のn型不純物を含むエミッタ層21と、コレクタコンタクト層17上に形成されたコレクタ電極18と、ベース層19上に形成されたベース電極20と、エミッタ層21上に形成されたエミッタ電極22とを有している。
光吸収素子4は、p型エピタキシャル層6の一部と、p型エピタキシャル層6上に形成され、高濃度のp型不純物を含む第2のp型埋め込み層(第5の半導体層)29と、第2のp型埋め込み層29上に形成され、n型エピタキシャル層7の一部で構成されたカソード層10bと、カソード層10b上に形成されたカソードコンタクト層11bと、第2のp型埋め込み層29上に形成され、高濃度のp型不純物を含むアノードコンタクト層14bと、カソードコンタクト層11b上に形成された第2のカソード電極23と、アノードコンタクト層14b上に形成された第2のアノード電極24とを有している。本実施形態の光半導体装置の特徴は、光吸収素子4において、p型エピタキシャル層6とカソード層10bとの間に、第1のp型エピタキシャル層よりもp型不純物濃度が高い第2のp型埋め込み層29が設けられていることにある。これにより、光吸収素子4におけるPN接合の位置はフォトダイオード2におけるPN接合の位置よりも浅くなっている。第2のp型埋め込み層29の膜厚は0.3μm以上5.0μm以下程度であり、不純物濃度は1×1016cm−3以上1×1020cm−3以下程度である。
以上のように構成された本実施形態の光半導体装置の動作について以下で説明する。
本実施形態の光半導体装置の基本的な動作は図7に示す第1の従来例に係る光半導体装置と同様である。フォトダイオード2に上方から光が入射すると、入射光はカソード層10aとp型エピタキシャル層6とで吸収され、電子・正孔対が発生し、電子はカソードコンタクト層11aから第1のカソード電極12に主にドリフトにより到達し、正孔はアノード埋め込み層13aからアノードコンタクト層14aを介して第1のアノード電極15に主に拡散により到達する。これにより、光電流が発生する。例えば、n型エピタキシャル層7の膜厚を約1.0μm、不純物濃度を約1×1016cm−3、p型エピタキシャル層6の膜厚を10μm、不純物濃度を1×1014cm−3程度とすると、アノード側の空乏層の伸びは約10μm程度となり完全空乏化され、特にDVDで用いられる波長650nmより短波長の光では、空乏層(光吸収領域)中で入射光がほとんど吸収されることになる。つまり、光電流は拡散電流成分が低下しドリフト電流成分が支配的となるため、フォトダイオード2の高速応答が可能となる。
また、光吸収素子4において、第2のp型埋め込み層29がp型エピタキシャル層6とn型エピタキシャル層7(カソード層10b)と間に設けられており、フォトダイオード2の光吸収領域の構成は光吸収素子4の光吸収領域の構成とは異なっている。動作時には、光吸収素子4の第2のアノード電極24と第2のカソード電極23との間には逆バイアスV2を印加し、フォトダイオード2の第1のアノード電極15と第1のカソード電極12間には逆バイアスV1を印加する。このバイアス電圧V1、V2の条件の一例として、例えばV2≧V1の条件を満たすようにする。
上述のように駆動すれば、第2のp型埋め込み層29が設けられていることにより、光吸収素子4下部のp型エピタキシャル層6は空乏化されず光吸収素子4方向への電位勾配を持たない。そのため、フォトダイオード2内の光吸収素子4近傍の領域で発生したキャリアのうち、正孔はアノード埋め込み層13aからアノードコンタクト層14aへ移動し、電子はカソード層10aからカソードコンタクト層11aにのみ移動する。この結果、光吸収により発生したキャリアが効率良く光電流として寄与することになるため、受光感度が向上する。特に、青色光等の短波長光は吸収長が短いため、第2のp型埋め込み層29内でほとんどの光が吸収される。例えば、第2のp型埋め込み層29の深さを1.0μmとした場合では、波長405nmの青色光に対して99.9%の光がカソード層10aとカソードコンタクト層11aとで吸収される。従って、p型エピタキシャル層6で発生するキャリアはほとんど無く、漏れ出たキャリアが発生しないため、青色光に対する受光感度は従来の光半導体装置に比べて著しく向上する。なお、第2のp型埋め込み層29の不純物濃度のピーク位置の深さが入射光の吸収長よりも深ければ、受光感度が向上できるので好ましい。ここで、吸収長とは光が侵入することができる深さの目安で、光の強度が1/e=37%になる(63%の光が吸収される)深さのことである。
また、第2のp型埋め込み層29によりp型エピタキシャル層6との間、およびカソード層10aとの間にポテンシャルバリアが形成されるため、フォトダイオード2と光吸収素子4とは電気的に完全に分離され、受光素子と光吸収素子間のアイソレーション特性が向上し、リーク電流及びノイズ成分が低減できる。
さらに、光吸収素子4はフォトダイオード2の横方向に配置され、且つ光吸収素子4とフォトダイオード2のアノード及びカソードはそれぞれ独立であるため、光吸収素子4はフォトダイオード2に対する寄生容量成分とはならず、CR積の低減によりフォトダイオード2の動作速度の高速化を実現できる。
次に、本実施形態の光半導体装置の平面的な構成についても説明する。図2は、第1の実施形態に係る光半導体装置を概略的に示す平面図である。
図2に示すように、本実施形態の光半導体装置において、受光面32の周辺部に第1のカソード電極12、第1のアノード電極15が配置されている。ここで、図2では、第1のカソード電極12と第1のアノード電極15との間のLOCOS分離層は図示を省略している。
また、光吸収素子4は、フォトダイオード2を囲むように設けられている。すなわち、平面的に見て、ダミーアノード層35はフォトダイオード2を囲むように設けられ、カソードコンタクト層(ダミーカソード層)11bはダミーアノード層35を囲むように設けられ、アノードコンタクト層(第2のダミーアノード層)14bはカソードコンタクト層11bを囲むように設けられている。ここで、図2では第2のカソード電極23(図1参照)と第2のアノード電極24の図示を省略している。光吸収素子4がフォトダイオード2を囲むように設けられていることにより、フォトダイオード2の周辺部に入射する光によって発生したキャリアを効率良く吸収することができるので、ノイズ成分を抑制し、混色の発生を抑えることができる。
NPNトランジスタ3を含む回路ブロック38は、フォトダイオード2および光吸収素子4の周囲に配置されている。
フォトダイオード2の受光面の一辺の長さは例えば10〜100μm程度の四辺形であってもよく、直径が10〜100μm程度の円形等であってもよい。またしばしば、受光面32が複数に分割され、それぞれの受光面に対してカソード電極またはアノード電極が形成された分割型フォトダイオードも用いられる。また、光吸収素子4の幅は数μm〜数10μm程度である。
次に、本実施形態の光半導体装置の製造方法を説明する。図4(a)〜(f)は、第1の実施形態に係る光半導体装置の製造方法を示す断面図である。ここで、符号40はフォトダイオード形成領域を示し、符号41は光吸収素子形成領域を示し、符号42はNPNトランジスタ形成領域を示す。
まず、図4(a)に示すように、ホウ素(B)などのp型不純物イオンを例えばドーズ量1×1014cm−2程度で半導体基板1中に注入することにより、第1のp型埋め込み層5を形成する。次いで、図4(b)に示すように、膜厚が例えば10μmで1×1014cm−3程度のp型不純物を含む半導体からなるp型エピタキシャル層6をCVD法などにより第1のp型埋め込み層5上に形成する。
次に、図4(c)に示すように、Bなどのp型不純物イオンを例えばドーズ量1×1014cm−2程度でp型エピタキシャル層6中に注入することにより、フォトダイオード形成領域40ではアノード埋め込み層13aを形成し、光吸収素子形成領域41では第2のp型埋め込み層29を形成する。また、アンチモン(Sb)などのn型不純物イオンを例えばドーズ量1×1014cm−2程度でp型エピタキシャル層6中に注入することにより、NPNトランジスタ形成領域42ではコレクタ埋め込み層16を形成する。
次に、図4(d)に示すように、膜厚が例えば1.0μmで1×1016cm−3程度のn型不純物を含む半導体からなるn型エピタキシャル層7をCVD法などにより、p型エピタキシャル層6、アノード埋め込み層13a、第2のp型埋め込み層29、およびコレクタ埋め込み層16の上に形成する。
次いで、図4(e)に示すように、公知の方法によりLOCOS分離層8を形成した後、イオン注入法などを用いて、フォトダイオード形成領域40ではn型エピタキシャル層7内にn型のカソードコンタクト層11aおよびp型のアノードコンタクト層14aを形成し、光吸収素子形成領域41ではn型エピタキシャル層7内にn型のカソードコンタクト層11b、p型のアノードコンタクト層14b、p型のダミーアノード層35をそれぞれ形成する。また、NPNトランジスタ形成領域42ではn型のコレクタコンタクト層17、p型のベース層19、n型のエミッタ層21等をそれぞれ形成する。
次に、光半導体装置の上面部に絶縁膜9を形成した後、カソードコンタクト層11a上に第1のカソード電極12を、アノードコンタクト層14a上に第1のアノード電極15を、カソードコンタクト層11b上に第2のカソード電極23を、アノードコンタクト層14b上に第2のアノード電極24を、ベース層19上にベース電極20を、エミッタ層21上にエミッタ電極22をそれぞれ形成する。以上のようにして本実施形態の光半導体装置を製造することができる。本実施形態の光半導体装置はアノード埋め込み層13aと同時に形成することができるため、従来の光半導体装置と同じ工程数で、同一の設備を用いて製造することが可能である。このため、上述の方法によれば、製造コストを増やすことなく高感度で低ノイズ特性を有し、高速動作が可能な光半導体装置を提供することが可能となる。
(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の第2の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
図5は、第2の実施形態に係る光半導体装置の概略構成を示す断面図である。同図に示すように、本実施形態の光半導体装置は、第1の実施形態の光半導体装置のカソードコンタクト層11b上に表面吸収層30を形成したものである。本実施形態の光半導体装置において、表面吸収層30以外の構成は第1の実施形態と同じである。
表面吸収層30は、入射光を吸収できる材料で構成されていればよく、例えば多結晶シリコンや非晶質シリコンなど、可視光に対する吸収係数が結晶シリコンよりも大きい材料で構成されていれば特に好ましい。多結晶シリコンや非晶質シリコンの可視光に対する吸収係数は結晶シリコンに比べて3〜10倍程度大きいため、光吸収層が薄くても入射光が大きく吸収される。例えば、表面吸収層30が非晶質シリコンで構成された場合、波長405nmの青色光に対する吸収係数は70μm−1(単結晶シリコンでは10μm−1)であり、表面吸収層30の膜厚が20nmの場合での入射光の吸収率は約75%、膜厚が50nmの場合での吸収率は約97%で、ほとんどの光が表面吸収層30で吸収される。また、非晶質シリコンの波長650nmの赤色光に対する吸収係数は1.5μm−1(単結晶シリコンでは0.3μm−1)であり、表面吸収層30の膜厚が200nmの場合の入射光の吸収率は約26%、膜厚が500nmの場合の吸収率は約53%であり、かなりの割合の光を吸収することができる。ここで、光吸収素子4中にPN接合を形成した場合、吸収光によって生成したキャリアは第2のカソード電極23から吸い取られ、信号用の光電流としては寄与しない。表面吸収層30を設けることで、同層を透過してカソードコンタクト層11bや第2のp型埋め込み層29に入る光の割合が減少するため、光吸収素子4での光の吸収効率が向上する。表面吸収層30を設けない場合は、シリコン結晶の赤色光・赤外光に対する吸収係数が小さいため、n型エピタキシャル層7の膜厚を厚くする必要がある。しかし、n型エピタキシャル層7を厚くするとNPNトランジスタ3におけるコレクタ抵抗が増大するため、n型エピタキシャル層7をあまり厚くすることができない。これに対し、本実施形態の光半導体装置では、例えばn型の表面吸収層30を設けることにより、n型エピタキシャル層7を薄くしても吸収効率向上が確保でき、ノイズ特性の改善とトランジスタの高速化との両立が可能となる。また、表面吸収層30の膜厚範囲は材料によって異なるが、例えば非晶質シリコンで構成する場合には、100〜1000nm程度にするのが好ましい。
(第3の実施形態)
以下、本発明の第3の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の第3の実施形態に係る光半導体装置について、図面を参照しながら説明する。
図6は、第3の実施形態に係る光半導体装置の概略構成を示す断面図である。同図に示すように、本実施形態の光半導体装置は、フォトダイオード2のうち光吸収素子4の近傍に位置する領域に、p型エピタキシャル層6上に形成され、高濃度のp型不純物を含むアノード埋め込み層13bと、アノード埋め込み層13b上に形成され、高濃度のp型不純物を含むアノードコンタクト層14cと、アノードコンタクト層14c上に形成された第3のアノード電極31とが設けられていることを特徴とする。これら以外の構成は、第1の実施形態に係る光半導体装置と同様である。また、図3は、第3の実施形態に係る光半導体装置を概略的に示す平面図である。
動作時には第1のカソード電極12と第3のアノード電極31との間に逆バイアスV1が印加され、第1のカソード電極12と第1のアノード電極15との間に逆バイアスV1が印加される。
本実施形態の光半導体装置では、第1の実施形態に係る光半導体装置と同様の効果が得られるのに加えて、アノード埋め込み層13bとアノードコンタクト層14cがフォトダイオード2の光吸収素子4側に形成されているため、アノード埋め込み層13bを中心に電気力線が集中し、電位勾配が形成される。その結果、キャリアはアノード埋め込み層13bに吸い込まれ、光吸収素子方向へのキャリアの移動を抑制され、受光感度の更なる向上が可能となる。
さらに、フォトダイオード2のうち光吸収素子4近傍の境界領域で発生したキャリアの走行距離が大幅に短縮されてドリフトによるキャリアの移動時間が短くなるので、フォトダイオード2の動作をさらに高速化することが可能となる。
また、本実施形態の光半導体装置において、アノード埋め込み層13bはアノード埋め込み層13aと同時に形成でき、アノードコンタクト層14cはアノードコンタクト層14a、14bと同時に形成でき、第3のアノード電極31は他の電極と同時に形成できる。このため、第1の実施形態の光半導体装置と同じ工程数で製造することが可能である。
なお、以上で説明した各実施形態の光半導体装置では半導体基板としてシリコン基板を用いたが、例えば長波長域で広く用いられているゲルマニウム基板や、化合物半導体であってもよく、サファイア等の半導体以外の物質からなる基板を用いてもよい。
また本発明の光半導体装置では、受光素子としてpinフォトダイオードが用いられたが、アバランシェフォトダイオード、フォトトランジスタなどを用いてもよい。また、トランジスタとしてNPNトランジスタを用いたが、PNPトランジスタやMOSトランジスタについても適用可能であることは言うまでもない。
また、上述の実施形態では半導体基板および第1のp型埋め込み層5上のエピタキシャル層の導電型をp型としたが、n型にしてもよい。この場合には、各層の導電型を全て反転させる。
以上で説明したように、本発明は、BDプレーヤーやレコーダー等、OEICを利用する種々の装置の実現に有用である。
1 半導体基板
2 フォトダイオード
3 NPNトランジスタ
4 光吸収素子
5 第1のp型埋め込み層
6 p型エピタキシャル層
7 n型エピタキシャル層
8 LOCOS分離層
9 絶縁膜
10a、10b カソード層
11a、11b カソードコンタクト層
12 第1のカソード電極
13a、13b アノード埋め込み層
14a、14b、14c アノードコンタクト層
15 第1のアノード電極
16 コレクタ埋め込み層
17 コレクタコンタクト層
18 コレクタ電極
19 ベース層
20 ベース電極
21 エミッタ層
22 エミッタ電極
23 第2のカソード電極
24 第2のアノード電極
29 第2のp型埋め込み層
30 表面吸収層
31 第3のアノード電極
32 受光面
35 ダミーアノード層
38 回路ブロック
40 フォトダイオード形成領域
41 光吸収素子形成領域
42 NPNトランジスタ形成領域
2 フォトダイオード
3 NPNトランジスタ
4 光吸収素子
5 第1のp型埋め込み層
6 p型エピタキシャル層
7 n型エピタキシャル層
8 LOCOS分離層
9 絶縁膜
10a、10b カソード層
11a、11b カソードコンタクト層
12 第1のカソード電極
13a、13b アノード埋め込み層
14a、14b、14c アノードコンタクト層
15 第1のアノード電極
16 コレクタ埋め込み層
17 コレクタコンタクト層
18 コレクタ電極
19 ベース層
20 ベース電極
21 エミッタ層
22 エミッタ電極
23 第2のカソード電極
24 第2のアノード電極
29 第2のp型埋め込み層
30 表面吸収層
31 第3のアノード電極
32 受光面
35 ダミーアノード層
38 回路ブロック
40 フォトダイオード形成領域
41 光吸収素子形成領域
42 NPNトランジスタ形成領域
Claims (11)
- 半導体基板と、前記半導体基板上に形成された受光素子と、前記半導体基板上に形成され、前記受光素子に隣接して配置された光吸収素子と、前記半導体基板上に形成された信号処理用の半導体素子とを備えた光半導体装置であって、
前記受光素子の光吸収領域の構成と前記光吸収素子の光吸収領域との構成が異なっている光半導体装置。 - 前記光吸収素子におけるPN接合の位置は前記受光素子におけるPN接合の位置よりも浅くなっていることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記半導体基板上に形成された第1導電型の第1の半導体層と、
前記第1の半導体層上に形成された第2導電型の第2の半導体層とをさらに備え、
前記受光素子は、前記第1の半導体層の一部と、前記第2の半導体層の一部で構成され、前記第1の半導体層とPN接合を形成する第3の半導体層と、前記第3の半導体層上に形成され、前記第3の半導体層よりも不純物濃度が高い第2導電型の第1のカソードコンタクト層と、前記第1の半導体層上に形成された第1導電型の第4の半導体層と、前記第4の半導体層上に形成された第1導電型の第1のアノードコンタクト層と、前記第1のカソードコンタクト層上に形成された第1のカソード電極と、前記第1のアノードコンタクト層上に形成された第1のアノード電極とを有しており、
前記光吸収素子は、前記第1の半導体層の一部と、前記第1の半導体層上に形成され、前記第1の半導体層よりも不純物濃度が高い第1導電型の第5の半導体層と、前記第2の半導体層の一部で構成され、前記第5の半導体層上にPN接合された第2導電型の第6の半導体層と、前記第6の半導体層上に形成され、前記第6の半導体層よりも不純物濃度が高い第2導電型の第2のカソードコンタクト層と、前記第5の半導体層上に形成された第1導電型の第2のアノードコンタクト層と、前記第2のカソードコンタクト層上に形成された第2のカソード電極と、前記第2のアノードコンタクト層上に形成された第2のアノード電極とを有していることを特徴とする請求項1または2に記載の光半導体装置。 - 前記第5の半導体層の不純物濃度のピーク位置の深さが入射光の吸収長よりも深いことを特徴とする請求項3に記載の光半導体装置。
- 動作時には、前記第1のアノード電極と前記第1のカソード電極との間に逆バイアスが印加され、且つ前記第2のアノード電極と前記第2のカソード電極との間に逆バイアスが印加されることを特徴とする請求項3または4に記載の光半導体装置。
- 前記第2のアノード電極と前記第2のカソード電極との間に印加される逆バイアスは第1のアノード電極と前記第1のカソード電極との間に印加される逆バイアスと同一かまたは大きいことを特徴とする請求項5に記載の光半導体装置。
- 前記光吸収素子は、前記第2のカソードコンタクト上に設けられ、入射光を吸収する光吸収層をさらに有していることを特徴とする請求項3〜6のうちいずれか1つに記載の光半導体装置。
- 前記光吸収層は非晶質シリコンまたは多結晶シリコンで構成されていることを特徴とする請求項7に記載の光半導体装置。
- 前記受光素子は、前記第1の半導体層の上方であって、前記光吸収素子との境界領域に形成された第1導電型の第3のアノードコンタクト層と、前記第3のアノードコンタクト層上に形成された第3のアノード電極とをさらに有していることを特徴とする請求項3〜8のうちいずれか1つに記載の光半導体装置。
- 動作時には、前記第1のアノード電極と前記第1のカソード電極との間に逆バイアスが印加され、且つ前記第3のアノード電極と前記第1のカソード電極との間に逆バイアスが印加されることを特徴とする請求項9に記載の光半導体装置。
- 前記光吸収素子は、平面的に見て前記受光素子を囲んでいることを特徴とする請求項1〜10のうちいずれか1つに記載の光半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008062068A JP2009218457A (ja) | 2008-03-12 | 2008-03-12 | 光半導体装置 |
US12/397,765 US8030728B2 (en) | 2008-03-12 | 2009-03-04 | Optical semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008062068A JP2009218457A (ja) | 2008-03-12 | 2008-03-12 | 光半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009218457A true JP2009218457A (ja) | 2009-09-24 |
Family
ID=41062106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008062068A Pending JP2009218457A (ja) | 2008-03-12 | 2008-03-12 | 光半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8030728B2 (ja) |
JP (1) | JP2009218457A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US8901697B2 (en) * | 2012-03-16 | 2014-12-02 | Analog Devices, Inc. | Integrated circuit having a semiconducting via; an integrated circuit including a sensor, such as a photosensitive device, and a method of making said integrated circuit |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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