JP2009164297A - 計算機ホログラム、生成方法及び露光装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 221
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 149
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 65
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims 1
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000002922 simulated annealing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70566—Polarisation control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/08—Synthesising holograms, i.e. holograms synthesized from objects or objects from holograms
- G03H1/0891—Processes or apparatus adapted to convert digital holographic data into a hologram
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0476—Holographic printer
- G03H2001/0478—Serial printer, i.e. point oriented processing
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2249—Holobject properties
- G03H2001/2276—Polarisation dependent holobject
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- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
- G03H1/30—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique discrete holograms only
- G03H2001/303—Interleaved sub-holograms, e.g. three RGB sub-holograms having interleaved pixels for reconstructing coloured holobject
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- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/31—Polarised light
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- G03H2223/00—Optical components
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- G03H2240/00—Hologram nature or properties
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- G03H2240/10—Physical parameter modulated by the hologram
- G03H2240/15—Polarisation modulation
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- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/20—Details of physical variations exhibited in the hologram
- G03H2240/40—Dynamic of the variations
- G03H2240/41—Binary
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/50—Parameters or numerical values associated with holography, e.g. peel strength
- G03H2240/55—Thickness
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/50—Reactivity or recording processes
- G03H2260/51—Photoanisotropic reactivity wherein polarized light induces material birefringence, e.g. azo-dye doped polymer
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
【解決手段】計算機ホログラム100は、入射光の偏光状態を変化させる複数の異方性セルと、入射光の偏光状態を変化させない等方性セルと、を有し、前記入射光の第1の方向の直線偏光成分が前記所定面PSに第1の光強度分布LI1を形成し、前記入射光の前記第1の方向に直交する第2の方向の直線偏光成分が前記所定面に前記第1の光強度分布とは異なる第2の光強度分布LI2を形成し、前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域MAにおいて、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とが等しくなるように、又は、πずれるように、前記複数の異方性セル及び前記複数の等方性セルの寸法及び配列が設定されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
10 照明装置
16 光源
18 照明光学系
181 引き回し光学系
182 ビーム整形光学系
183 偏光制御部
184 位相制御部
185 射出角度保存光学素子
186 リレー光学系
187 多光束発生部
188 リレー光学系
189 アパーチャ
190 ズーム光学系
191 多光束発生部
192 開口絞り
193 照射部
194 偏光状態調整部
20 レチクル
30 投影光学系
40 ウエハ
100 計算機ホログラム
110、110a乃至110d セル
112 異方性媒質
114 等方性媒質
110a0及び110a1 第1の異方性セル
110b0及び110b1 第2の異方性セル
110c0及び110c1 第1の等方性セル
110d0及び110d1 第2の異方性セル
Claims (10)
- 入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムであって、
入射光の偏光状態を変化させる異方性媒質を含む複数の異方性セルと、
入射光の偏光状態を変化させない等方性媒質を含む複数の等方性セルと、
を有し、
前記入射光の第1の方向の直線偏光成分が前記所定面に第1の光強度分布を形成し、
前記入射光の前記第1の方向に直交する第2の方向の直線偏光成分が前記所定面に前記第1の光強度分布とは異なる第2の光強度分布を形成し、
前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域において、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とが等しくなるように、又は、πずれるように、前記複数の異方性セル及び前記複数の等方性セルの寸法及び配列が設定されていることを特徴とする計算機ホログラム。 - 前記等方性媒質は、前記第1の方向の直線偏光成分に対する屈折率と前記第2の方向の直線偏光成分に対する屈折率との差が前記入射光の波長に対して0以上0.001以下であることを特徴とする請求項1に記載の計算機ホログラム。
- 前記入射光は、前記第1の方向の直線偏光成分と、前記第2の方向の直線偏光成分とを含む直線偏光であり、
前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域に光強度分布を形成する光は、前記第1の方向の直線偏光成分及び前記第2の方向の直線偏光成分を含む偏光であることを特徴とする請求項1又は2に記載の計算機ホログラム。 - 前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域は、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とが等しい等位相領域と、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とがπずれている反転位相領域とを含み、
前記等位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向と前記反転位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向とが異なることを特徴とする請求項3に記載の計算機ホログラム。 - 前記等位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向と前記入射光の偏光方向とが等しい、又は、前記等位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向と前記入射光の偏光方向とが形成する鋭角の間に前記第1の方向及び前記第2の方向が含まれないことを特徴とする請求項4に記載の計算機ホログラム。
- 前記反転位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向と前記入射光の偏光方向とが垂直の関係にある、又は、前記反転位相領域に光強度分布を形成する直線偏光の偏光方向と前記入射光の偏光方向とが形成する鋭角の間に前記第1の方向及び前記第2の方向が含まれることを特徴とする請求項4に記載の計算機ホログラム。
- 前記入射光は、前記第1の方向の直線偏光成分の振幅と前記第2の方向の直線偏光成分の振幅とが等しい直線偏光であることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計算機ホログラム。
- 前記異方性媒質は、複屈折材料、又は、構造複屈折を生じる凹凸構造を含むことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の計算機ホログラム。
- 入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムを製造するためのデータを生成する生成方法であって、
前記所定面に形成するべき光強度分布を、第1の方向の直線偏光成分を含む第1の光強度分布と前記第1の方向に直交する第2の方向の直線偏光成分を含む第2の光強度分布とに分割して、前記第1の光強度分布の形状及び前記第2の光強度分布の形状を決定する第1の決定ステップと、
前記入射光の偏光方向と前記所定面に形成するべき光強度分布の偏光方向との関係に応じて、前記第1の光強度分布の位相及び前記第2の光強度分布の位相を決定する第2の決定ステップと、
前記第1の決定ステップで形状及び前記第2の決定ステップで位相が決定された前記第1の光強度分布を形成する計算機ホログラムを規定する第1のデータと、前記第1の決定ステップで形状及び前記第2の決定ステップで位相が決定された前記第2の光強度分布を形成する計算機ホログラムを規定する第2のデータとを生成する生成ステップと、
前記生成ステップで生成された第1のデータと第2のデータとを統合する統合ステップと、
を有することを特徴とする生成方法。 - 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、
を有し、
前記照明光学系は、請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の計算機ホログラムを含むことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007341123A JP5032972B2 (ja) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 計算機ホログラム、生成方法及び露光装置 |
US12/681,895 US8373914B2 (en) | 2007-12-28 | 2008-12-08 | Computer generated hologram including plural isotropic and anisotropic cells for forming combined intensity distribution, generation method, and exposure apparatus |
KR1020107016424A KR101179939B1 (ko) | 2007-12-28 | 2008-12-08 | 계산기 홀로그램, 생성 방법 및 노광 장치 |
EP08866265.5A EP2225770B1 (en) | 2007-12-28 | 2008-12-08 | Computer generated hologram, generation method, and exposure apparatus |
PCT/JP2008/072723 WO2009084409A1 (en) | 2007-12-28 | 2008-12-08 | Computer generated hologram, generation method, and exposure apparatus |
TW097150077A TWI391989B (zh) | 2007-12-28 | 2008-12-22 | 全像,產生方法,及曝光設備 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007341123A JP5032972B2 (ja) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 計算機ホログラム、生成方法及び露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009164297A true JP2009164297A (ja) | 2009-07-23 |
JP2009164297A5 JP2009164297A5 (ja) | 2011-02-10 |
JP5032972B2 JP5032972B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=40824130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007341123A Expired - Fee Related JP5032972B2 (ja) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 計算機ホログラム、生成方法及び露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8373914B2 (ja) |
EP (1) | EP2225770B1 (ja) |
JP (1) | JP5032972B2 (ja) |
KR (1) | KR101179939B1 (ja) |
TW (1) | TWI391989B (ja) |
WO (1) | WO2009084409A1 (ja) |
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- 2007-12-28 JP JP2007341123A patent/JP5032972B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 2008-12-08 EP EP08866265.5A patent/EP2225770B1/en not_active Not-in-force
- 2008-12-08 KR KR1020107016424A patent/KR101179939B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-12-08 US US12/681,895 patent/US8373914B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-08 WO PCT/JP2008/072723 patent/WO2009084409A1/en active Application Filing
- 2008-12-22 TW TW097150077A patent/TWI391989B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5032972B2 (ja) | 2012-09-26 |
EP2225770B1 (en) | 2015-04-01 |
WO2009084409A1 (en) | 2009-07-09 |
US8373914B2 (en) | 2013-02-12 |
US20100208315A1 (en) | 2010-08-19 |
KR101179939B1 (ko) | 2012-09-07 |
EP2225770A1 (en) | 2010-09-08 |
EP2225770A4 (en) | 2011-05-18 |
TW200943382A (en) | 2009-10-16 |
KR20100103634A (ko) | 2010-09-27 |
TWI391989B (zh) | 2013-04-01 |
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Legal Events
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |