JP2009158575A - 光電変換装置および光電変換装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1導電型半導体の第1主面には凹部が形成されており、第1導電型半導体の第1主面、貫通孔の内壁面および第1導電型半導体の第2主面に形成された第2導電型半導体と、第1導電型半導体の第1主面の凹部を埋めるようにして形成された受光面電極と、第1導電型半導体の第2主面上に形成された第1電極と、貫通孔の内壁面の第2導電型半導体に接して貫通孔の内部に形成された貫通孔電極部と、第1導電型半導体の第2主面の第2導電型半導体上に貫通孔電極部と接して形成された第2電極とを備え、受光面電極と第2電極とが貫通孔電極部によって電気的に接続されている光電変換装置とその光電変換装置の製造方法である。
【選択図】図1
Description
まず、図4に示すように、p型シリコン基板等からなるp型半導体1に貫通孔19を形成する。ここで、p型半導体1は、たとえば0.1〜20Ωcm程度の抵抗値に設定されていることが好ましい。また、貫通孔19の形成方法は特に限定されないが、たとえばレーザ光の照射によるレーザ加工等によって形成することができる。また、貫通孔19の形状や寸法も特に限定されず、たとえば貫通孔19の開口部の形状を四角形(正方形または長方形等)や円形とすることが可能である。
次に、図5に示すように、p型半導体1の第1主面1aの貫通孔19の開口部を含むように貫通孔19の開口部よりも外側の領域をp型半導体1の厚さ方向に部分的に除去することによって第1凹部26を形成する。ここで、第1凹部26の形成は、たとえばレーザ光をp型半導体1の第1主面1aに照射してp型半導体1の一部を除去すること等によって行なうことができる。
次に、図7に示すように、p型半導体1の表面(p型半導体1の第1主面1a、貫通孔19の内壁面1b、p型半導体1の第2主面1c)の内側にn型半導体3を形成する。ここで、n型半導体3の形成は、たとえば、p型半導体1の表面(第1主面1a、内壁面1bおよび第2主面1c)にn型不純物を導入することによって行なうことができる。
次に、図8に示すように、p型半導体1の第1主面1aのn型半導体3上に反射防止膜23を形成する。ここで、反射防止膜23は、p型半導体1の第1主面1aの全面に形成されてもよいが、p型半導体1の第1主面1aの受光面電極(第1メイン電極5a、サブ電極5b、第2メイン電極5c)を形成する領域に開口を有するように形成することもできる。
次に、図9に示すように、p型半導体1の第2主面1cに裏面電極13を形成する。ここで、裏面電極13は、たとえば、アルミニウムを含むペーストをp型半導体1の第2主面1cに印刷した後に焼成することによって形成することができる。アルミニウムを含むペーストを焼成することによって裏面電極13の直下にアルミニウムが拡散して高濃度p型層15を形成することができる。
次に、図9に示すように、p型半導体1の第2主面1cの裏面電極13上に第1電極2を形成するとともに、貫通孔19の内部に貫通孔電極部9を形成し、さらにはp型半導体1の第2主面1cのn型半導体3の一部と貫通孔電極部9の端部を覆うようにして第2電極7を形成する。なお、第2電極7は、第2電極7と裏面電極13との間にpn接合分離部21が設けられるように形成することができる。
次に、図10に示すように、p型半導体1の第1主面1a上に受光面電極(第1メイン電極5a、サブ電極5b、第2メイン電極5c)が形成される。ここで、受光面電極(第1メイン電極5a、サブ電極5b、第2メイン電極5c)は、p型半導体1の第1主面1aのn型半導体3に電気的に接続されていて、n型半導体3から光電変換装置10で発生した電力を回収することができるものであれば特に限定されない。
次に、図10に示すように、p型半導体1の第2主面1cに環状に溝を形成することによりpn接合分離部21を形成して光電変換装置10の製造が完了する。ここで、pn接合分離部21は、たとえばp型半導体1の第2主面1cにレーザ光を照射してp型半導体1の一部を除去すること等により形成することができる。
以上で説明したように、本発明の光電変換装置10においては、印刷等の方法で簡易にp型半導体1の第1主面1aの凹部(第1凹部26および第2凹部27)に受光面電極(第1メイン電極5aおよび第2メイン電極5c)を埋めるようにして形成することによって受光面電極(第1メイン電極5aおよび第2メイン電極5c)を深く(厚く)形成することができる。
まず、図4に示すように、外形155×155mm、厚さ0.20mm、比抵抗2Ωcmのp型多結晶シリコン基板からなるp型半導体1に、レーザ光を照射して貫通孔19を4列×8列で計32個形成した。貫通孔19の開口部の形状は円形であり、その直径はおおよそ0.30mm程度であった。
p型半導体1の第1主面1aに凹部(第1凹部26および第2凹部27)を形成せずにp型半導体1の第1主面1aを平坦な状態としたことならびに受光面電極のメイン電極として第2メイン電極5cを形成せずに幅1.5mmの第1メイン電極5aのみを形成したこと以外は実施例1と同様にして光電変換装置を作製した。
p型半導体1の第1主面1aに凹部(第1凹部26および第2凹部27)を形成せずにp型半導体1の第1主面1aを平坦な状態としたこと以外は実施例1と同様にして光電変換装置を作製した。
Claims (2)
- 第1導電型半導体と、前記第1導電型半導体の第1主面と第2主面との間を貫通する貫通孔と、を含み、
前記第1導電型半導体の前記第1主面には凹部が形成されており、
前記第1導電型半導体の前記第1主面、前記貫通孔の内壁面および前記第1導電型半導体の前記第2主面に形成された第2導電型半導体と、
前記第1導電型半導体の前記第1主面の前記凹部を埋めるようにして形成された受光面電極と、
前記第1導電型半導体の前記第2主面上に形成された第1電極と、
前記貫通孔の前記内壁面の前記第2導電型半導体に接して前記貫通孔の内部に形成された貫通孔電極部と、
前記第1導電型半導体の前記第2主面の前記第2導電型半導体上に前記貫通孔電極部と接して形成された第2電極と、を備え、
前記受光面電極と前記第2電極とが前記貫通孔電極部によって電気的に接続されている、光電変換装置。 - 請求項1に記載の光電変換装置を製造する方法であって、
導電性ペーストを前記凹部を埋めるように設置する工程と、
前記凹部に設置された前記導電性ペーストを焼成することにより前記受光面電極の少なくとも一部を形成する工程と、を含む、光電変換装置の製造方法。
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