JP2009157253A - 撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ローパスフィルタ104の表面に接触しながら移動することにより異物を除去する異物除去部材(支持板108及び植毛部材107)と、ローパスフィルタ104の前方で撮影光路を開放、遮蔽するシャッタ羽根31と、記シャッタ羽根31のローパスフィルタ104側への作動範囲を規制するカバー板30とを備え、カバー板30には、撮影光路用の開口と、撮影光路用の開口に連続し、異物除去部材の退避位置となる開口部30aとが形成されており、カバー板30と異物除去部材の少なくとも一部とが光軸に垂直な同一平面上に位置する。
【選択図】図5
Description
<第1の実施形態>
図1(a)は、デジタル一眼レフカメラの内部構造の分解斜視図である。不図示のカメラ本体内には、被写体側より、レンズを取り付けるマウント部を有するミラーボックス10と、フォーカルプレンシャッタ式のシャッタユニット20と、メインフレーム50と、異物除去機構を含む撮像素子ユニット100とが配置される。図1(b)は、これら構成要素を組み立てた状態を示す斜視図である。
図3及び図4を参照して、撮像素子ユニット100の構成及び動作について説明する。図3は、撮像素子ユニット100の分解斜視図である。図4は、撮像素子ユニット100を組み立てた状態を示す斜視図であり、(a)は異物除去部材が退避した状態を示し、(b)は異物除去部材がLPF104の下端に移動した状態を示す。
図6及び図7を参照して、シャッタユニット20の構成及び動作について説明する。図6は、シャッタユニット20の分解斜視図である。図7は、シャッタユニット20を組み立てた状態を示す斜視図であり、(a)はシャッタユニット20を被写体側から見た状態を示し、(b)は撮像面側から見た状態を示す。なお、シャッタユニット20は撮影光路中において、LPF104より被写体側(マウント側)に配設されている。
ここで、従来におけるカバー板と異物除去部材との位置関係と、本実施形態におけるカバー板と異物除去部材との位置関係との比較を行う。図17は、従来技術による異物除去機構まわりの構成を模式的に示す図である。尚、比較しやすいように、本実施形態で説明した構成要素に対応するものには同一の符号を付して説明する。被写体側より、シャッタプレート21、後幕33、中間板32、先幕31、カバー板30、異物除去部材(支持板108及び植毛部材107)、LPF104、撮像素子101等が配置されている。
図9及び図10を参照して、第2の実施形態を説明する。以下では、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明し、同一の構成及び動作の説明は省略する。第2の実施形態は、上記第1の実施形態と異物除去部材の支持板108の曲げ部の形状及び植毛部材107の形状が異なり、また、異物除去動作及びシャッタ動作シーケンスが異なる。
図11及び図12を参照して、第3の実施形態を説明する。以下では、上記第1、2の実施形態と異なる点を中心に説明し、同一の構成及び動作の説明は省略する。第3の実施形態は、上記第2の実施形態と異物除去動作及びシャッタ動作シーケンスが異なる。
図13を参照して、第4の実施形態を説明する。以下では、上記第1〜3の実施形態と異なる点を中心に説明し、同一の構成及び動作の説明は省略する。第4の実施形態は、上記第3の実施形態とシャッタ羽根の構成が異なる。
図14を参照して、第5の実施形態を説明する。以下では、上記第1〜4の実施形態と異なる点を中心に説明し、同一の構成及び動作の説明は省略する。第5の実施形態は、上記第2の実施形態と異物除去部材の構成が異なる。
図15及び図16を参照して、第6の実施形態を説明する。以下では、上記第1〜4の実施形態と異なる点を中心に説明し、同一の構成及び動作の説明は省略する。第6の実施形態は、上記第2の実施形態と異物除去部材の構成が異なる。
20 シャッタユニット
21 シャッタプレート
30 カバー板
31 先羽根群(先幕)
32 中間板
33 後羽根群(後幕)
44 シャッタ羽根
50 メインフレーム
100 撮像素子ユニット
101 撮像素子
102 ベース板
104 LPF(ローパスフィルタ)
107 植毛部材
108 支持板
109 モータアングル
110 モータ
111 リードスクリュ
112 ガイドバー
113 ガイドアングル
114 ガイドバー
115 駆動ガイド
116 ラック
201 帯電部材
301 ワイパ
302 板ばね
Claims (9)
- 光学部材の表面に沿って移動することにより異物を除去する異物除去部材と、
前記光学部材より被写体側に配設されて撮影光路を開放、遮蔽するシャッタ羽根と、
前記シャッタ羽根の前記光学部材側への作動範囲を規制するカバー板とを備え、
前記カバー板と前記異物除去部材の少なくとも一部とが光軸に垂直な同一平面上に位置することを特徴とする撮像装置。 - 前記カバー板には、撮影光路用の開口と、前記撮影光路用の開口に連続する開口部とが形成されており、前記開口部が前記異物除去部材の退避位置となることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。
- 前記開口部は、前記シャッタ羽根が前記撮影光路から退避する移動方向と逆側に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の撮像装置。
- 前記シャッタ羽根の移動軌跡と前記異物除去部材の移動軌跡とが光軸に垂直な同一平面上にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記異物除去部材を退避位置から移動させる前に、前記シャッタ羽根を撮影光路から退避させる構成にしたことを特徴とする請求項4に記載の撮像装置。
- 先幕の走行により露光を開始し、後幕の走行により露光を終了するシャッタ装置を備え、
前記シャッタ羽根は前記光学部材に近い側を走行する幕であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 異物除去動作中である旨を通知する通知手段を備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 異物除去動作中に撮影指示があった場合、前記異物除去部材を退避位置に退避させることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記異物除去部材は、前記光学部材の表面に付着した異物を除去する除去部材と、前記除去部材を支持する支持板とを備え、前記支持板には、前記光学部材側から離れる方向に凹む部位が形成されており、その部位に前記除去部材が設けられることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の撮像装置。
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