JP2009109636A - 偏光板および偏光板の製造方法ならびに液晶プロジェクタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】偏光板10の製造方法では、マスタ版200を用いて、下地層13Aをパターン形成するための凸版201を作製したのち、この凸版201に、無電解めっきの触媒材料を含む触媒層13A−1を形成する。一方、基板11上には密着層12を形成しておく。凸板201と基板11とを、触媒層13A−1と密着層12とが対向するように圧着させることにより、基板11に対して、所望のパターンで下地層13Aが一括形成される。下地層13Aをパターン形成した基板11に対して、無電解めっき処理を施すことにより、この下地層13Aのパターンに対応してめっき層13Bが形成される。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る偏光板10の概略構成を表す断面図である。
(1)線状突起13の断面を、例えば透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)により観察し、無電解めっき処理の触媒材料(下地層13A)を検出する。
(2)線状突起13に共析可能な金属が含まれているかどうかを、例えばSIMS(Secondary Ion-microprobe Mass Spectrometer)、X線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)などにより検出する。例えば、めっき層13Bがニッケルを含んで構成されている場合には、これに加えてホウ素やリンなどが含まれているかどうかを検出する。
(3)線状突起13中に、無電解めっき処理で使用される有機化合物などの添加剤が含まれているかを、例えばSIMSにより検出する。
まず、図2(A)に示したように、線状突起13の形成予定領域に下地層13Aをパターン形成するための版(後述の凸板201)の型となるマスタ版200を作製する。このマスタ版200の凹凸パターンは、例えばサブミクロンオーダーの微細な周期構造であり、ナノインプリント技術でも応用されている電子ビームやレーザーを使った露光やフォトリソグラフィ法を用いて作製することができる。これにより、所望の精度のパターンを形成することが可能となる。マスタ版200としては、例えばシリコン、石英、ニッケルなどを用いることができる。但し、その後のプロセスに問題を生じない材料であればどのような材料を用いてもよい。
最後に、下地層13Aを形成した基板11に対して、無電解めっき処理を施すことにより、下地層13A上にめっき層13Bが析出される。この際、めっき液としては、例えばニッケルをめっき膜として析出させる場合には、上村工業社製のNi−B成膜用めっき液BEL−801(商品名)を用いることができる。めっき浴の温度は例えば60℃とし、浸漬時間は所望の膜厚によって適宜設定する。また、成膜レートは、例えば200nm/分とする。以上により、図1に示した偏光板10を完成する。
図6〜図8は、本発明の第2の実施の形態に係る偏光板の製造方法を工程順に表す断面図である。但し、本実施の形態では、下地層13Aをパターン形成する工程以外は、上記第1の実施の形態の偏光板10の製造方法と同様にして、図1に示したような偏光板10を製造することができる。従って、以下では、下地層13Aのパターン形成工程について説明する。また、上記実施の形態と同様の構成要素については、同一の符号を付し、適宜説明を省略するものとする。
次に、上記第1および第2の実施の形態に係る偏光板10の変形例について図9を参照して説明する。
次に、上記第1および第2の実施の形態で説明した偏光板10の適用例(液晶プロジェクタ1)について図10を参照して説明する。
Claims (8)
- 光透過性を有する基板と、
前記基板上に設けられると共に、面内の一の方向に沿って延在する複数の線状突起とを備え、
各線状突起は、前記基板の側から順に、無電解めっき処理の触媒材料を含む下地層と、この下地層を触媒として析出されためっき層とを有する
ことを特徴とする偏光板。 - 前記基板と前記下地層との間に、密着層が設けられている
ことを特徴とする請求項1記載の偏光板。 - 前記基板の前記複数の線状突起が設けられた面とは反対側の面に、光反射防止膜が形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の偏光板。 - 光透過性の基板上にその面内の一の方向に延在するように複数の線状突起を形成する偏光板の製造方法であって、
前記基板上の前記複数の線状突起の形成予定領域に、無電解めっき処理の触媒材料を含む下地層をパターン形成する工程と、
前記下地層をパターン形成した基板に、前記下地層を触媒として無電解めっき処理を施すことにより前記下地層上にめっき層を成膜して前記複数の線状突起を形成する工程と
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。 - 前記下地層をパターン形成する工程は、
前記複数の線状突起の形成予定領域に対応した凹凸パターンを表面に有する版を、型を用いて作製する工程と、
前記版の表面に、前記触媒材料を含む触媒層を形成する工程と、
前記触媒層が形成された版の凹凸パターンの凸面を前記基板に圧着させることにより、前記基板上の前記複数の線状突起の形成予定領域に前記触媒層を転写する工程と
を含むことを特徴とする請求項1記載の偏光版の製造方法。 - 前記下地層をパターン形成する工程は、
平版の表面に、前記触媒材料を含む触媒層を形成する工程と、
前記触媒層を形成した平版に、凹凸パターンを有する版の凸面を圧着させ、この凸面に一の触媒層を転写させることにより、前記複数の線状突起の形成予定領域に対応した他の触媒層を前記平版に残存させる工程と、
前記他の触媒層を残存させた平版を前記基板に圧着させることにより、前記他の触媒層を前記基板上に転写する工程と
を含むことを特徴とする請求項1記載の偏光板の製造方法。 - 光源と、
前記光源からの光を映像信号に基づいて変調する液晶パネルと、
前記液晶パネルの光入射側および光出射側に設けられた一対の偏光板と、
前記液晶パネルによって変調された光を投射する投射レンズとを備え、
前記一対の偏光板のうち少なくとも一の偏光板は、
光透過性を有する基板と、
前記基板上に設けられると共に、面内の一の方向に沿って延伸する複数の線状突起とを備え、
各線状突起は、前記基板の側から順に、無電解めっき処理の触媒材料を含む下地層と、この下地層を触媒として析出されためっき層とを有する
ことを特徴とする液晶プロジェクタ。 - 前記光源は、可視光の波長領域の光を射出するようになっている
ことを特徴とする請求項1記載の液晶プロジェクタ。
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