JP2009080348A - 電子写真現像用キャリア芯材およびその製造方法、磁性キャリア並びに電子写真現像剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
ソフトフェライトと、SiO2と、を含む粒子で構成された電子写真現像剤用キャリア芯材であって、当該電子写真現像剤用キャリア芯材中において、SiO2が3次元網目構造を形成しており、当該電子写真現像剤用キャリア芯材の粉末XRDパターンにおいて、SiO2のクオーツ結晶のピーク強度をI1、SiO2のクリストバライト結晶のピーク強度をI2としたとき、ピーク強度比(I1/I2)が0.35以上である電子写真現像剤用キャリア芯材を製造した。
【選択図】図3
Description
その結果、特許文献1に係る磁性キャリアは、樹脂膜の剥れや磁性キャリアのわれ、かけを引き起こし、画像特性の低下をきたすことを確認した。
次に、特許文献2に係る磁性キャリアは、電圧依存性を低下させるに足るSiO2量を添加すると、今度は、磁性キャリア粉として必要な磁化が得られない場合があるという問題が生じた。
また、特許文献3に係る磁性キャリアは、高抵抗率化処理工程により高抵抗率化する場合、磁性相、SiO2相、以外の相(Fe2O3等)が生成するため、磁性キャリアの強度が低下するという課題があった。
ソフトフェライトと、SiO2と、を含む粒子で構成された電子写真現像剤用キャリア芯材であって、
当該電子写真現像剤用キャリア芯材中において、SiO2が3次元網目構造を形成しており、
当該電子写真現像剤用キャリア芯材の粉末XRDパターンにおいて、SiO2のクオーツ結晶のピーク強度をI1、SiO2のクリストバライト結晶のピーク強度をI2としたとき、ピーク強度比(I1/I2)が0.35以上であることを特徴とする電子写真現像剤用キャリア芯材である。
前記電子写真現像剤用キャリア芯材中のSiO2含有量が、Si換算で15wt%以下であることを特徴とする第1の手段に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材である。
前記ソフトフェライトが、一般式MxFe3−xO4(但し、Mは2価をとる1種又は2種以上の金属、0≦x≦1.0)で表されることを特徴とする第1または第2の手段に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材である。
前記Mが、Fe、Mg、Mnから選択される1種又は2種以上の金属であることを特徴とする第3の手段に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材である。
前記電子写真現像剤用キャリア芯材の、印加電圧10Vにおける抵抗率をR1、印加電圧100Vにおける抵抗率をR2としたとき、当該抵抗率の比(R1/R2)が10以下
であることを特徴とする第1〜第4の手段のいずれかに記載の電子写真現像用キャリア芯材である。
平均粒子径が、15μm以上、70μm以下であることを特徴とする第1〜第5の手段のいずれかに記載の電子写真現像剤用キャリア芯材である。
一般式:MnxFe3−xO4(但し、0≦x≦1.0)で表記される組成のソフトフェライトが生成するように成分調整されたFe原料およびMn原料と、結晶シリカとを混合してスラリーを得る工程と、
前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、
前記造粒物を1200℃以上、1400℃以下にて焼成し、磁性相を有する焼成物を得る工程と、
得られた焼成物に解粒処理を行って粉末化し、その後に所定の粒度分布を持たせる工程とを有することを特徴とする第1〜第3の手段のいずれかに記載の電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法である。
第1〜第6の手段のいずれかに記載の電子写真現像剤用キャリア芯材へ、樹脂を充填、または、樹脂を充填かつ被覆、してなることを特徴とする電子写真現像用磁性キャリア粉である。
第8の手段に記載の電子写真現像剤用磁性キャリア粉とトナーとを含むことを特徴とする電子写真現像剤である。
本発明に係るキャリア芯材は、ソフトフェライト中にSiO2の3次元網目構造が形成されたものである。
まず、キャリア芯材を構成するソフトフェライトは、一般式MxFe3−xO4(但し、0≦x≦1.0)で表されるものが好ましい。このとき、Mは、Fe、Mg、Mn、Ca、Ti、Cu、Zn、Sr、Ni等の2価をとる金属から選ばれる1種又は2種以上が好ましい。ここで、近年の環境問題を考慮すると、Mは重金属を含まないものが好ましい。そこで、当該観点からは、MがFeであるFe3O4で表されるマグネタイトや、MがMnであるMnxFe3−xO4で表されるマンガンフェライト、MがMgであるMgxFe3−xO4で表されるマグネシウムフェライトが最も好ましい。
本発明に係るキャリア芯材中のSiO2は3次元網目構造を形成している。これは、当該キャリア芯材中のSiO2原料として結晶シリカを用い、焼成温度1200℃〜140
0℃の範囲内で焼成を行うことにより、キャリア芯材を構成するソフトフェライト中でSiO2の結晶構造が変化し、さらに、SiO2の3次元網目構造が形成されたものと考えられる。
そして、当該SiO2の3次元網目構造が機械的強度も併せ持つことで、当該キャリア芯材が磁性キャリア粉となったときに必要な磁化を有し、高抵抗かつ電圧依存性が低い上に、機械的強度も有するキャリア芯材を得ることが出来るのだと考えられる。
電子写真現像剤用キャリア芯材中に含有されるSiO2の粉末XRDパターンの測定方法について説明する。
まず、本発明に係るキャリア芯材を塩酸中で煮沸してフェライト相を溶解させ、残渣分をろ過、洗浄した後、乾燥させ、電子写真現像剤用キャリア芯材中に含有されるSiO2とした。得られたSiO2の粉末XRDパターンはX線回折装置(リガク製、RINT2000)を用いて測定した。X線源はコバルトを使用し、加速電圧40kV、電流30mAでX線を発生させた。粉末X線の測定条件は走査モード;FT、発散スリット;1/2°、散乱スピード;1/2°、受光スリット;0.15mm、回転速度;5.000rpm、走査範囲;25.000〜32.000°、サンプリング幅;0.01°、計数時間5秒、積算回数3回で測定を行った。得られたXRDパターンよりピークトップをピーク位置としてピーク強度を算出した。
本発明のキャリア芯材は、レーザー回折式粒度分布測定装置(日機装株式会社製マイクロトラック、Model 9320−X100)による平均粒子径D50の値において、
概ね15〜70μm程度が好ましく、25〜50μmのものがより好適である。15μm以上あればキャリア付着が発生し難く好ましい。また、70μm以下であれば、所望の画像を得る事ができ好ましいからである。
本発明のキャリア芯材は、印加電圧10Vにおける抵抗率R1、印加電圧100Vにおける抵抗率R2の比(R1/R2)が10以下であり好ましい。これは、(R1/R2)が10以下であることとは、換言すれば、抵抗率の電圧依存性が低いことであり、電荷のリークが発生し難くなることである。この結果、電子写真現像において、安定した画像を得ることができ好ましい。
れぞれの電極板の背後に断面積240mm2の磁石を配置して電極間に被測定粉体のブリッジを形成させる。この状態で電極間に10V、または、100Vの直流電圧を印加し、被測定粉体を流れる電流値を4端子法により測定し、電気抵抗値を算出する。その電気抵抗値と、電極間距離2mmおよび断面積240mm2から、被測定粉体の抵抗率を算出する(但し、抵抗率=電気抵抗値×断面積÷電極間距離)。なお、使用する磁石は粉体がブリッジを形成できる限り、種々のものが使用できるが、後述実施例では表面磁束密度が1000ガウス以上の永久磁石(フェライト磁石)を使用している。
Fe供給源としては金属Fe、Fe3O4、Fe2O3が好適に使用できる。Mnの原料としては、Mn供給源として金属Mn、MnO2、Mn2O3、Mn3O4、MnCO3が、好適に使用できる。そして、これらの原料の配合比を、該ソフトフェライトの目的組成と一致させて秤量し混合する。さらに、SiO2としては結晶シリカが好適に使用できる。上記、配合比に所定量のSiO2を秤量し混合して、金属原料混合物を得る。
尚、当該結晶シリカは、上述のXRDパターンを満たすものであれば市販品を用いることが出来る。その場合、当該結晶シリカは、平均粒子径が1μm程度(0.5μm〜4μm)のものが好ましい。
上記の原料を秤量した後、これらを媒体液中で混合撹拌することによってスラリー化する(スラリー化工程)。スラリー化する前に、原料の混合物に対して必要に応じて乾式で粉砕処理を加えてもよい。原料粉と媒体液の混合比は、スラリーの固形分濃度が50〜90質量%になるようにすることが望ましい。媒体液は、水にバインダー、分散剤等を添加したものを用意する。その他、潤滑剤や、焼結促進剤として、リンやホウ酸等を添加することができる。混合攪拌して得られたスラリーに対し、さらに湿式粉砕を施すことが好ましい。
造粒は、上記スラリーを噴霧乾燥機に導入することによって好適に実施できる。これにより、概ね、粒子径が10〜200μmの造粒粉を得ることができる(造粒工程)。得られた造粒粉は製品最終粒径を考慮し、振動ふるい等を用いて、大きすぎる粒子や微粉を除去することにより粒度調整することが望ましい。
次に、造粒粉を1200〜1400℃に加熱した炉に投入して、ソフトフェライトを合成するための一般的な手法で焼成することにより、フェライトを生成させる(焼成工程)。また、焼成の際には、炉内の酸素分圧を制御して焼成を行う。炉内の酸素分圧の制御は窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス、または、これらの不活性ガスと酸素との混合ガスを炉内にフローさせることにより達成可能である。
本発明者らはSiO2の結晶構造と粒子内部でのSiO2の状態について検討をおこなった。その結果、1200℃〜1400℃の温度範囲において粒子内部のSiO2が構造転移をし、SiO2同士が成長を始めることがわかった。1200℃以上ではSiO2の構造転移が起き、粒子内部でSiO2の3次元網目構造が強固となるために目的の抵抗値を得ることができるため、好ましい。1400℃以下ではSiO2の液相の発生による粒子同士の焼結が起こらないため、好ましい。
本発明に係る電子写真現像剤用キャリア芯材をシリコーン系樹脂やアクリル樹脂等で被覆し、帯電性の付与および耐久性の向上させることで電子写真現像剤用磁性キャリアを得ることが出来る。当該シリコーン系樹脂等の被覆方法は、公知の手法により行えば良い。
本発明に係る電子写真現像剤用磁性キャリアと適宜なトナーとを混合することで、本発明に係る電子写真現像剤を得ることが出来る。
Fe2O310kg、Mn3O43.6kg、SiO2を2.7kg、純水5kg中に分散し、分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム系分散剤を60g添加して混合物とした。
SiO2は、XRDパターンにおいて2θ=30〜32°に最大ピーク強度を有する結晶シリカを使用した。
当該混合物を湿式ボールミルにより粉砕処理し、Fe2O3とMn3O4とSiO2の混合スラリーを得た。原料の混合比は、前述のフェライトの組成式MnxFe3−xO4において、x=0.82となるよう算出したものである。
発明の詳細な説明にて記載したように、フェライト相を塩酸中で煮沸溶解し、残渣分をろ過、洗浄した後、乾燥させて電子写真現像剤用キャリア芯材中に含有されるSiO2を
得た。当該SiO2のXRDパターンを測定した。当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に▲と太実線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(G)に示した。尚、図2(B)と後述する図2(A)(C)は、いずれも縦軸に抵抗率、横軸に印可電圧をとったグラフである。
焼成において焼成温度を1250℃とした以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの実施例2に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材を得た。
得られた実施例2に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に●と太一点鎖線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(H)に示した。
Fe2O3を10kg、Mn3O4を3.6kg、SiO2(結晶シリカ)を5.4kgとした以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの実施例3に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた実施例3に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(C)(XRDパターン)、および図2(C)に▲と太実線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(K)に示した。
焼成において焼成温度を1250℃とした以外は、実施例3と同様にして、平均粒径35μmの実施例4に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた実施例4に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(C)(XRDパターン)、および図2(C)に●と太一点鎖線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(L)に示した。
Fe2O3を10kg、Mn3O4を3.6kg、SiO2(結晶シリカ)を1.4kgとし、焼成において焼成温度を1200℃とした以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの実施例5に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた実施例5に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(A)(XRDパターン)、および図2(A)に▲と太実線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(C)に示した。
焼成において焼成温度を1250℃とした以外は、実施例5と同様にして、平均粒径35μmの実施例8に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた実施例8に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(A)(XRDパターン)、図2(A)に●と太一点鎖線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(D)に示した。
焼成において焼成温度を1120℃とした以外は、実施例1と同様にして、平均粒径3
5μmの比較例1に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例1に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に◆と細短破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(E)に示した。
焼成において焼成温度を1150℃とした以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの比較例2に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例2に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に■と細長破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(F)に示した。
焼成において焼成温度を1120℃とした以外は、実施例3と同様にして、平均粒径35μmの比較例3に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例3に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(C)(XRDパターン)、および図2(C)に◆と細短破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(I)に示した。
焼成において焼成温度を1150℃とした以外は、実施例3と同様にして、平均粒径35μmの比較例4に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例4に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(C)(XRDパターン)、および図2(C)に■と細長破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(J)に示した。
焼成において焼成温度を1120℃とした以外は、実施例5と同様にして、平均粒径35μmの比較例5に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例5に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(A)(XRDパターン)、および図2(A)に◆と細短破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(A)に示した。
焼成において焼成温度を1150℃とした以外は、実施例5と同様にして、平均粒径35μmの比較例6に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例6に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(A)(XRDパターン)、および図2(A)に■と細長破線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図3(B)に示した。
焼成において焼成温度を1130℃とし、SiO2として非晶質シリカを用いた以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの比較例7に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例7に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に◇と細実線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図4(M)に示した。
焼成において焼成温度を1250℃とし、SiO2として非晶質シリカを用いた以外は、実施例1と同様にして、平均粒径35μmの比較例8に係る電子写真現像剤用キャリア芯材を得た。
得られた比較例8に係る電子写真現像剤用磁性キャリア芯材について、実施例1と同様の測定を行い、当該測定値、測定データを表1、図1(B)(XRDパターン)、および図2(B)に○と細一点鎖線を用いて示し、キャリア芯材におけるSiO2相構造の1000倍のSEM写真を図4(N)に示した。
に、上記結晶構造の変化とともにSiO2が粒子内部で成長し、強固な3次元網目構造を形成していることがわかる。一方、図2(A)〜(C)より明らかなように実施例1〜6に係るキャリア芯材は、電圧依存性が低く、且つ、高抵抗率を有していた。
Claims (9)
- ソフトフェライトと、SiO2と、を含む粒子で構成された電子写真現像剤用キャリア芯材であって、
当該電子写真現像剤用キャリア芯材中において、SiO2が3次元網目構造を形成しており、
当該電子写真現像剤用キャリア芯材の粉末XRDパターンにおいて、SiO2のクオーツ結晶のピーク強度をI1、SiO2のクリストバライト結晶のピーク強度をI2としたとき、ピーク強度比(I1/I2)が0.35以上であることを特徴とする電子写真現像剤用キャリア芯材。 - 前記電子写真現像剤用キャリア芯材中のSiO2含有量が、Si換算で15wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材。
- 前記ソフトフェライトが、一般式MxFe3−xO4(但し、Mは2価をとる1種又は2種以上の金属、0≦x≦1.0)で表されることを特徴とする請求項1または2に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材。
- 前記Mが、Fe、Mg、Mnから選択される1種又は2種以上の金属であることを特徴とする請求項3に記載の電子写真現像剤用キャリア芯材。
- 前記電子写真現像剤用キャリア芯材の、印加電圧10Vにおける抵抗率をR1、印加電圧100Vにおける抵抗率をR2としたとき、当該抵抗率の比(R1/R2)が10以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電子写真現像用キャリア芯材。
- 平均粒子径が、15μm以上、70μm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の電子写真現像用キャリア芯材。
- 一般式:MnxFe3−xO4(但し、0≦x≦1.0)で表記される組成のソフトフェライトが生成するように成分調整されたFe原料およびMn原料と、結晶シリカとを混合してスラリーを得る工程と、
前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、
前記造粒物を1200℃以上、1400℃以下にて焼成し、磁性相を有する焼成物を得る工程と、
得られた焼成物に解粒処理を行って粉末化し、その後に所定の粒度分布を持たせる工程と、を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法。 - 請求項1〜6のいずれかに記載の電子写真現像剤用キャリア芯材へ、樹脂を充填、または、樹脂を充填かつ被覆、してなることを特徴とする電子写真現像用磁性キャリア粉。
- 請求項8に記載の電子写真現像剤用磁性キャリア粉とトナーとを含むことを特徴とする電子写真現像剤。
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