JP2009076809A - ガス供給装置、半導体製造装置及びガス供給装置用部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス供給装置1の接続用ブロック22は、ガスに対して耐食性を有するセラミック又は貴金属からなり、ガスと接触する接ガス部を構成する耐食性ブロック部材22aと、耐食性ブロック部材22aを嵌合させるための嵌合穴28を有し、耐食性ブロック部材22aの周囲を囲むように設けられ、耐食性ブロック部材22aを保護する金属製ブロック部材22bとから構成されている。
【選択図】図2
Description
Claims (8)
- ガス供給を制御するための複数のガス制御機構と、これらのガス制御機構の間を接続するガス流路を形成するガス流路部とを具備し、ガス供給源からのガスを、被処理物を処理するための処理チャンバー内に供給するためのガス供給装置であって、
前記ガス制御機構として、少なくとも、ガス流量を制御するためのガス流量制御機構と、ガスの供給・停止を制御するための弁機構とを有し、
前記ガス制御機構及び前記ガス流路部の少なくとも一部が、
前記ガスに対して耐食性を有するセラミック又は貴金属からなり、前記ガスと接触する接ガス部の少なくとも一部を構成する耐食性ブロック部材と、
前記耐食性ブロック部材を嵌合させるための嵌合穴を有し、前記耐食性ブロック部材の周囲を保護する金属製ブロック部材とから構成されている
ことを特徴とするガス供給装置。 - 請求項1記載のガス供給装置であって、
前記耐食性ブロックが、ガラス状カーボン又はサファイアからなることを特徴とするガス供給装置。 - 請求項1又は2記載のガス供給装置であって、
前記ガス制御機構として、さらにガス圧を制御するための圧力制御機構を具備したことを特徴とするガス供給装置。 - ガス供給源からのガスを、被処理物を処理するための処理チャンバー内に供給するためのガス供給装置を具備した半導体製造装置であって、
前記ガス供給装置は、ガス供給を制御するための複数のガス制御機構と、これらのガス制御機構の間を接続するガス流路を形成するガス流路部とを具備し、かつ、前記ガス制御機構として、少なくとも、ガス流量を制御するためのガス流量制御機構と、ガスの供給・停止を制御するための弁機構とを有し、
前記ガス制御機構及び前記ガス流路部の少なくとも一部が、
前記ガスに対して耐食性を有するセラミック又は貴金属からなり、前記ガスと接触する接ガス部の少なくとも一部を構成する耐食性ブロック部材と、
前記耐食性ブロック部材を嵌合させるための嵌合穴を有し、前記耐食性ブロック部材の周囲を保護する金属製ブロック部材とから構成されている
ことを特徴とする半導体製造装置。 - 請求項4記載の半導体製造装置であって、
前記耐食性ブロックが、ガラス状カーボン又はサファイアからなることを特徴とする半導体製造装置。 - 請求項4又は5記載の半導体製造装置であって、
前記ガス制御機構として、さらにガス圧を制御するための圧力制御機構を具備したことを特徴とする半導体製造装置。 - ガスを供給するガス供給装置のガス流路の一部を構成するためのガス供給装置用部品であって、
前記ガスに対して耐食性を有するセラミック又は貴金属からなり、前記ガスと接触する接ガス部の少なくとも一部を構成する耐食性ブロック部材と、
前記耐食性ブロック部材を嵌合させるための嵌合穴を有し、前記耐食性ブロック部材の周囲を保護する金属製ブロック部材と
を具備したことを特徴とするガス供給装置用部品。 - 請求項7記載のガス供給装置用部品であって、
前記耐食性ブロックが、ガラス状カーボン又はサファイアからなることを特徴とするガス供給装置用部品。
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