JP2009043826A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009043826A5 JP2009043826A5 JP2007205472A JP2007205472A JP2009043826A5 JP 2009043826 A5 JP2009043826 A5 JP 2009043826A5 JP 2007205472 A JP2007205472 A JP 2007205472A JP 2007205472 A JP2007205472 A JP 2007205472A JP 2009043826 A5 JP2009043826 A5 JP 2009043826A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- conversion element
- processing means
- lines
- protective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (4)
- 入射する放射線を電気信号に変換するセンサ基板を有する撮像装置において、
前記センサ基板は、
変換素子と、前記変換素子に接続されたスイッチ素子とを有する複数の画素と、
前記複数の画素上に配置された保護層と、
前記変換素子に電気的に接続された複数のバイアス線と、
前記スイッチ素子に電気的に接続された複数の信号線とを有し、
前記複数のバイアス線の各々と前記複数の信号線の各々は前記保護層の領域内で所定間隔で交互に配置され、前記保護層の領域外へ延びており、
前記複数のバイアス線は前記保護層の領域外で接続配線を介して相互に接続され、且つ、前記接続配線は前記複数の信号線と交差して配置されていることを特徴とする撮像装置。 - 前記複数のバイアス線を外部回路接続電極に引き出す引き出し配線と、前記複数の信号線を外部回路接続電極に引き出す引き出し配線とは、異なる金属層で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。
- 前記変換素子が光電変換素子であり、前記センサ基板は前記光電変換素子上に配置されたシンチレータ層を有することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、
前記放射線を発生させるための放射線源と、を具備することを特徴とする放射線撮像システム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007205472A JP5235350B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 撮像装置及び放射線撮像システム |
US12/185,445 US7932946B2 (en) | 2007-08-07 | 2008-08-04 | Imaging apparatus and radiation imaging system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007205472A JP5235350B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 撮像装置及び放射線撮像システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009043826A JP2009043826A (ja) | 2009-02-26 |
JP2009043826A5 true JP2009043826A5 (ja) | 2010-08-19 |
JP5235350B2 JP5235350B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=40346102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007205472A Active JP5235350B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 撮像装置及び放射線撮像システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7932946B2 (ja) |
JP (1) | JP5235350B2 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5196739B2 (ja) | 2006-06-09 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
JP5489542B2 (ja) * | 2008-07-01 | 2014-05-14 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置及び放射線撮像システム |
JP5439837B2 (ja) | 2009-02-10 | 2014-03-12 | ソニー株式会社 | 表示装置 |
JP6057511B2 (ja) | 2011-12-21 | 2017-01-11 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及び放射線撮像システム |
JP5954983B2 (ja) | 2011-12-21 | 2016-07-20 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及び放射線撮像システム、並びに撮像装置の製造方法 |
JP6585910B2 (ja) | 2014-05-01 | 2019-10-02 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
JP6480670B2 (ja) | 2014-05-01 | 2019-03-13 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
WO2016104339A1 (ja) * | 2014-12-25 | 2016-06-30 | シャープ株式会社 | フォトセンサ基板、及びその製造方法 |
JP6570315B2 (ja) | 2015-05-22 | 2019-09-04 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
CN107636831A (zh) * | 2015-06-04 | 2018-01-26 | 夏普株式会社 | 光电传感器基板 |
JP6929104B2 (ja) | 2017-04-05 | 2021-09-01 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法及びプログラム |
JP6928746B2 (ja) * | 2017-04-10 | 2021-09-01 | ブリルニクス シンガポール プライベート リミテッド | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、および電子機器 |
JP6990986B2 (ja) | 2017-04-27 | 2022-01-12 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法及びプログラム |
JP6853729B2 (ja) | 2017-05-08 | 2021-03-31 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法及びプログラム |
JP6788547B2 (ja) | 2017-05-09 | 2020-11-25 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、その制御方法、制御装置、及び、放射線撮像システム |
JP6877289B2 (ja) | 2017-07-31 | 2021-05-26 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置、放射線検出システム、及び放射線出装置の製造方法 |
JP7045834B2 (ja) | 2017-11-10 | 2022-04-01 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像システム |
JP7079113B2 (ja) | 2018-02-21 | 2022-06-01 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
JP7198003B2 (ja) | 2018-06-22 | 2022-12-28 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法およびプログラム |
JP6659182B2 (ja) | 2018-07-23 | 2020-03-04 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、その製造方法及び放射線撮像システム |
EP3661190B1 (en) | 2018-11-27 | 2024-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation imaging apparatus and radiation imaging system |
JP7397635B2 (ja) | 2019-11-22 | 2023-12-13 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置、放射線検出システム、制御方法及びプログラム |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002050754A (ja) * | 2000-05-08 | 2002-02-15 | Canon Inc | 半導体装置とその製造方法、放射線検出装置とそれを用いた放射線検出システム |
JP2003270351A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Canon Inc | 放射線撮像装置 |
JP4501341B2 (ja) * | 2002-12-04 | 2010-07-14 | カシオ計算機株式会社 | デバイス検査方法 |
JP2004325261A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Canon Inc | 放射線画像撮像装置 |
JP4845352B2 (ja) * | 2004-06-15 | 2011-12-28 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、その製造方法及び放射線撮像システム |
JP2006189377A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Canon Inc | シンチレータパネル、放射線検出装置、及び放射線検出システム |
JP4908947B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2012-04-04 | キヤノン株式会社 | 変換装置、放射線検出装置、及び放射線検出システム |
JP5043373B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2012-10-10 | キヤノン株式会社 | 変換装置、放射線検出装置、及び放射線検出システム |
JP5173234B2 (ja) * | 2006-05-24 | 2013-04-03 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
-
2007
- 2007-08-07 JP JP2007205472A patent/JP5235350B2/ja active Active
-
2008
- 2008-08-04 US US12/185,445 patent/US7932946B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009043826A5 (ja) | ||
JP6957112B2 (ja) | 固体撮像装置及び電子機器 | |
JP2007059887A5 (ja) | ||
US10425624B2 (en) | Solid-state image capturing device and electronic device | |
JP2009044135A5 (ja) | ||
JP2007049124A5 (ja) | ||
JP2012002700A5 (ja) | ||
JP2007049123A5 (ja) | ||
JP2012019057A5 (ja) | ||
JP2016220116A5 (ja) | ||
JP2012112726A5 (ja) | ||
KR20090087278A (ko) | 엑스레이 검출기 및 이의 제조방법 | |
JP2012112725A5 (ja) | ||
JP2007329434A5 (ja) | ||
JP2015227851A (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像システム | |
WO2011089528A3 (en) | Methods and apparatus for multi-camera x-ray flat panel detector | |
JP2013219082A5 (ja) | ||
JP2008244445A5 (ja) | ||
JP5700973B2 (ja) | 検出装置及び放射線検出システム | |
JP2016033982A5 (ja) | ||
WO2017169881A1 (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、集積基板、及び、電子機器 | |
JP2011198855A5 (ja) | ||
JP2012038857A5 (ja) | ||
JP2007329433A5 (ja) | ||
JP2011071862A5 (ja) |