JP2009028679A - Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法 - Google Patents

Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009028679A
JP2009028679A JP2007197268A JP2007197268A JP2009028679A JP 2009028679 A JP2009028679 A JP 2009028679A JP 2007197268 A JP2007197268 A JP 2007197268A JP 2007197268 A JP2007197268 A JP 2007197268A JP 2009028679 A JP2009028679 A JP 2009028679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
concentration
waste liquid
liquid
waste
buffer tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007197268A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5186826B2 (ja
Inventor
Tomoshi Yoneda
智志 米田
Takahiro Sugano
高広 菅野
Nobuyuki Sato
伸行 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
JFE Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2007197268A priority Critical patent/JP5186826B2/ja
Application filed by JFE Steel Corp filed Critical JFE Steel Corp
Priority to EP20080791941 priority patent/EP2179970B1/en
Priority to PCT/JP2008/063711 priority patent/WO2009017178A1/ja
Priority to KR1020127027710A priority patent/KR101342177B1/ko
Priority to US12/667,270 priority patent/US8435413B2/en
Priority to CN2008800229210A priority patent/CN101687667B/zh
Priority to KR20097023764A priority patent/KR101311063B1/ko
Priority to TW97128387A priority patent/TWI409225B/zh
Publication of JP2009028679A publication Critical patent/JP2009028679A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5186826B2 publication Critical patent/JP5186826B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/26After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/008Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/105Phosphorus compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/16Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from metallurgical processes, i.e. from the production, refining or treatment of metals, e.g. galvanic wastes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B7/00Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
    • C22B7/006Wet processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

【課題】Pを含有する処理液を用いて被処理物を処理した際に、廃水処理場に、P濃度が高い廃液や多量のP含有廃液が送液されるのを防止し、またP濃度が高い廃液が廃水処理場に送液できなくないことによって起こる操業停止を防止する。
【解決手段】Pを含有する処理液の廃液を受け入れた後廃水処理場への送液又は廃液の貯留が可能な廃液バッファータンクを備えて、Pを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内にして被処理物を処理し、廃液バッファータンクでPを含有する処理液の廃液のP濃度を測定し、P濃度の測定値が許容上限未満のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃液バッファータンクから廃水処理場に送液し、P濃度の測定値が許容上限以上のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃水処理場に送液するのを停止して廃液バッファータンクに貯留し、かつPを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内の値に低下させて被処理物を処理する。
【選択図】図2

Description

本発明は、Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法に関する。
鉄鋼製品は、その製造工程で種々の処理が施され、その処理に伴って種々の廃液が排出される。この廃液の中には、未処理では有害物を含むものがある。有害物を含む廃液は、各製造工程から廃水処理場に送液され、廃水処理場で中和処理、沈澱処理等の処理を行って有害成分を難溶性物質として沈澱分離処理する(特許文献1、2等参照)。
例えば、溶融亜鉛めっきラインでは、亜鉛めっき工程の後処理として、亜鉛めっき鋼板をPを含有する表面調整液で洗浄処理後水洗する表面調整工程を行う(例えば特許文献3参照)。この表面調整工程の表面調整液および水洗水の廃水はP成分を含有するので、そのまま放水することができない。そのため、表面調整工程の廃液を亜鉛めっきライン内の廃水ピットに排出し、廃水ピットから廃水処理場に送液し、廃水処理場で中和処理、沈澱処理等の処理を行ってP成分を難溶性物質として沈澱分離処理する。
しかし、廃水処理場に送液された廃液のP濃度が高いと廃水処理場で中和処理、沈澱処理等の処理をすることができなくなるため、廃水処理場に送液できる廃液のP濃度上限が取り決められている。廃水ピットの廃液のP濃度が、このP濃度上限を超えると、直ちに廃水処理場への廃液の送液を停止する必要がある。廃水処理場への廃液の送液を停止すると、亜鉛めっきラインは操業停止が余儀なくされる。
P濃度上限を超える廃液が発生したときに溶融亜鉛めっきラインが操業停止となるのを防ぐために、廃液を貯留できる廃液バッファータンクを設け、廃液のP濃度がP濃度上限を超えたときは、廃水処理場への廃液の送液を停止して、廃液バッファータンクに廃液を貯留することが行われている。
しかし、廃水処理場への廃液の送液を停止したままの操業では、廃液バッファータンクが満杯になるまでの短時間しか操業できない。
また、廃液バッファータンクへ希釈水を投入して廃液のP濃度が廃水処理場に送液できるP濃度上限未満の濃度になるように希釈し、この希釈廃液を廃水処理場に送液することもできる。しかし、この方法は、廃液量が増加する問題がある。
特開平7−268659号公報 特開2002−200494号公報 特開2007−92093号公報
本発明は、上記問題点を考慮し、Pを含有する処理液を用いて被処理物を処理した際に、廃水処理場に、P濃度が高い廃液や多量のP含有廃液が送液されるのを防止でき、またP濃度が高い廃液が廃水処理場に送液できなくなることによって起こる操業停止を防止できるPを含有する処理液の廃液濃度制御方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決する本発明の手段は次のとおりである。
(1)廃水処理場に送液するPを含有する処理液の廃液のP濃度を制御する方法において、Pを含有する処理液の廃液を受け入れた後廃水処理場への送液又は廃液の貯留が可能な廃液バッファータンクを備えて、Pを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内にして被処理物を処理し、廃液バッファータンクでPを含有する処理液の廃液のP濃度を測定し、P濃度の測定値が許容上限未満のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃液バッファータンクから廃水処理場に送液し、P濃度の測定値が許容上限以上のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃水処理場に送液するのを停止して廃液バッファータンクに貯留し、かつPを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内の値に低下させて被処理物を処理することを特徴とするPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
(2) (1)において、廃液バッファータンクに貯留されるPを含有する処理液の廃液のP濃度の測定値が許容上限未満になったら、廃液バッファータンクから廃水処理場へのPを含有する処理液の廃液の送液を行うことを特徴とする(1)に記載のPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
(3)廃液バッファータンクから廃水処理場へのPを含有する処理液の廃液の送液を開始したらPを含有する処理液のP濃度を目標濃度範囲内の値に上昇させることを特徴とする(2)に記載のPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
本発明によれば、Pを含有する処理液の廃液のP濃度が許容上限に達したときに、処理液のP濃度を目標下限に低下させることで廃液のP濃度を許容上限未満に低下させることができるので、操業を継続しながら、P濃度が高い廃液や多量のP含有廃液が廃水処理場に送液されるのを防止することができる。
本発明の実施の形態について溶融亜鉛めっきラインの溶融めっき工程の後処理である表面調整工程を例に挙げて説明する。表面調整工程は、客先でのプレス成形性向上のために行われる。
図1は、溶融亜鉛めっきラインの表面調整工程を説明する概略図である。図1において、1は鋼板(溶融亜鉛めっき鋼板)、2は表面調整装置、3は水洗装置、4はドライヤー、5は廃水ピット、6は廃液バッファータンク、7は表調タンクである。
表調タンク7は、Pを含有する表面調整液を収容する。表面調整液のP濃度は、めっき鋼板の品質、操業性等を考慮して、目標濃度中央値C、目標上限値C、目標下限値Cが定められている。目標上限値C、目標下限値Cは、この範囲の濃度を表面調整液のP濃度設定値(後記)として採用しても、操業、品質上の問題がない濃度に定められており、C〜Cを目標濃度範囲とする。
表調タンク7は、表調タンク7に表面調整液原液を貯留する表原液補給タンク11、純水を補給する純水供給管12、P濃度計14および液位を検出する液位計(図示なし)を備え、表面調整液の濃度制御と液面制御をする。
液面制御は、低液位、高液位の2種類の液位を設定し、液位が低液位になると純水を補給し、高液位になると純水の補給を停止し、液位が概ね低液位と高液位の間にあるように制御する。
濃度制御は、制御する表面調整液のP濃度の設定値(この濃度をP濃度設定値という。)に対して、P濃度計14で測定したP濃度がP濃度設定値未満のときは、P濃度設定値とP濃度測定値の較差に基き、表調タンク7のP濃度がP濃度設定値になるように表調原液補給タンク11から表面調整液原液を補給する。通常操業では、表面調整液のP濃度設定値としては目標濃度中央値Cを採用する。
表面調整装置2は、表調タンク7に収容されるPを含有する表面調整液を、ポンプ22を用いてスプレー装置13から鋼板1に噴射し、出口にあるリンガーロール25で絞り取る。次に表面調整装置2を出た鋼板1を水洗装置3に導入する。水洗装置3は、純水供給管15から供給する純水をスプレー装置16から鋼板1に噴射し、出口にあるリンガーロール25で絞り取る。鋼板1を水洗装置3から導出しドライヤー4で乾燥した後出側の巻取り装置で巻取る。
表面調整装置2に供給したPを含有する表面調整液、水洗装置3の洗浄水は、各々の装置下部に接続したドレン管18を経て廃水ピット5に流入する。廃水ピット5の廃水は廃液バッファータンク6に送液する。
廃水ピット5は、廃液を廃液バッファータンク6に送液するポンプ23と廃液の液位を検出する液位計(図示なし)を備え、廃液の液位が予め設定した高液位になるとポンプ23を運転して廃液を廃液バッファータンク6に送液し、予め設定した低液位になるとポンプ23を停止する。
廃液バッファータンク6は、廃水ピット5から廃液を受け入れ、受け入れた廃液を廃水処理場に送液し又は廃液バッファータンク6に貯留する。廃液バッファータンク6のタンク容量は廃水ピット5に比べて大容量に構成され、タンク容量は、貯留する廃液量を考慮して適宜決定される。廃液バッファータンク6から廃水処理場へ送液できる廃液のP濃度の上限(以下、許容上限)は事前に取り決められている。
廃液バッファータンク6は、廃液を廃水処理場に送液するポンプ24、廃液バッファータンク6の廃液のP濃度を検出するP濃度計17および廃液の液位を検出する液位計(図示なし)を備える。液位は、廃液を廃水処理場に送液する際に用いる低液位1と低液位2(低液位1は低液位2より低位である。)および最高液位(貯液限界液位)が設定される。廃液バッファータンク6の貯液量を多くする観点から、低液位1、低液位2の位置は最高液位の位置に対してなるべく低い位置にすることが有利である。
廃液バッファータンク6は、P濃度計17で廃液のP濃度を測定し、P濃度の測定値が許容上限未満のときは、ポンプ24によって廃液を廃水処理場に送液する。廃液を廃水処理場に送液する際は、廃液の液位が低液位2になるとポンプ24を運転し、低液位1になるとポンプ24を停止する。
P濃度計17で測定するP濃度が、許容上限以上のときは、ポンプ24を停止して廃水処理場への送液を停止し、廃液バッファータンク6に廃液を貯留する。
上記の処理を行うと、表調タンク7の表面調整液の液位が低下するので、以下のようにして液面制御と濃度制御をする。液位が低液位になると純水供給管12から純水を補給し、液位が高液位になったら純水の供給を停止する。純水の補給によって表面調整液のP濃度が低下する。次に表調原液補給タンク11から表面調整液原液を補給する。P濃度計14で測定するP濃度の測定値とP濃度設定値の較差に応じて、ポンプ21を用いて表調原液補給タンク11から高濃度のPを含有する表面調整液原液を補給し、表調タンク7のP濃度が予め設定したP濃度設定値になるように制御する。
このような制御を表調タンク7で行うと、表面調整液原液を補給したときにP濃度が高濃度になる。表調タンク7のP濃度が高濃度になると、それに対応して廃液バッファータンク6に送液される廃液のP濃度が上昇する。
廃液バッファータンク6は、P濃度計17で測定するP濃度が、許容上限以上になったらポンプ24を停止し、廃水処理場への送液を停止して廃液を廃液バッファータンク6に貯留する。
同時に表調タンク7のP濃度の設定値を変更し、目標濃度範囲内の値に低下させる。このP濃度は、目標下限値Cに設定することが好ましい。表調タンク7のP濃度設定値を低下させる、好ましくは目標下限値Cに変更することによって、直ちに純水で希釈され廃液バッファータンク6に流入する廃液のP濃度が許容上限未満に低下する。
廃液バッファータンク6に貯留されたP濃度が許容濃度以上の廃液が、新たに送液されたP濃度が許容上限未満の廃液で希釈される。廃液バッファータンク6のP濃度計17で測定するP濃度が許容上限未満になったら、ポンプ24を運転し、廃液バッファータンク6に貯留された廃液を廃水処理場へ送液する。液位が低液位1に低下したらポンプ24を停止し、以降は低液位2でポンプ24を運転し、低液位1でポンプ24を停止する通常の廃液方法によって廃水処理場に廃液を送液する。
廃液バッファータンク6のP濃度計17で測定するP濃度が許容上限未満になり、廃液バッファータンク6のポンプ24の運転が再開されたら、表調タンク7のP濃度設定値を変更し、目標下限値Cから目標濃度範囲内の値に上昇させる。好ましくは、元の目標濃度中央値Cに設定する。
上記のように行うことで、操業を継続しながら、P濃度が高い廃液や多量のP含有廃液が廃水処理場に送液されることを防止できるようになる。なお、P濃度計17で測定するP濃度が許容上限未満になる前に廃液バッファータンク6の廃液量が最高液位に達したら操業を停止し、表面調整工程からの廃液の排出を停止する。
本発明法は、上記の処理工程から発生するPを含有する廃水に限らず、一般的なPを含有する処理液の廃水のP濃度制御方法として利用できる。
図1に示した溶融亜鉛めっきラインの表面調整工程において以下の条件で処理した。本実施例では、廃水処理場へ送液できる廃液のP濃度上限(許容上限)は6massppmである。
(1)表面調整装置
表面調整液P濃度:10massppm(目標濃度中央値)±5massppm(目標範囲)
目標下限値C:5massppm
表面調整液流量:5m/Hr
(2)水洗装置
純水流量:5m/Hr
(3)廃液バッファータンク
容量:100m
タンク容量100mは、表面調整処理必要材と不要材の処理を考慮した約10時間の操業が可能となる容量である。
表調タンク7のP濃度の設定値を10massppm(目標濃度中央値)にして表面調整工程を行った際に、廃液バッファータンク6のP濃度が上昇して廃液バッファータンク6の許容上限である6massppmになったときに、廃水処理場への廃液の送液を停止して廃液バッファータンク6に貯留し、同時に表調タンク7のP濃度の設定値10massppmを変更して5massppm(目標下限値)に設定した。
表調タンク7のP濃度の設定値を10massppmから5massppmに変更の前後における表調タンク7における表面調整液のP濃度設定値、P濃度計で測定したP濃度および廃液バッファータンク6のP濃度計で測定したP濃度の推移の一例を図2に示す。本実施例における廃液バッファータンク6のP濃度の目標値(廃液処理に好適な濃度)は3massppmである。
表調タンク7のP濃度の設定値を10massppmから5massppmに変更したことで、廃液バッファータンク6のP濃度は6massppmから3massppmに低下した。廃液バッファータンク6のP濃度が3massppmに低下した時点で廃液処理場への廃液の送液を再開した。この間、廃液バッファータンクの廃液の液位は最高液位より低く、ライン停止することなく操業を継続した。
なお、表調タンク7のP濃度設定値10massppmの条件下で廃液バッファータンク6のP濃度が6massppmに上昇したのは、表調タンク7の液位が低下して純水補給後に表調原液補給タンク11から表面調整液原液が補給されたことでP濃度が上昇したためである。
本発明は、Pを含有する処理液を用いて被処理物を処理した際に、廃水処理場にP濃度が高い廃液や多量のP含有廃液が送液されることを防止し、またP濃度が高い廃液が廃水処理場に送液できなくないことによって起こる操業停止を防止する廃液濃度制御方法として利用することができる。
溶融亜鉛めっき鋼板の製造工程の表面調整工程を説明する概略図である。 本発明法による廃液のP濃度の推移を説明する図である。
符号の説明
1 溶融亜鉛めっき鋼板
2 表面調整装置
3 水洗装置
4 ドライヤー
5 廃水ピット
6 廃液バッファータンク
7 表調タンク
11 表調原液補給タンク
12、15 純水供給管
13、16 スプレー装置
14、17 P濃度計
18 ドレン管
21〜24 ポンプ
25 リンガーロール

Claims (3)

  1. 廃水処理場に送液するPを含有する処理液の廃液のP濃度を制御する方法において、Pを含有する処理液の廃液を受け入れた後廃水処理場への送液又は廃液の貯留が可能な廃液バッファータンクを備えて、Pを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内にして被処理物を処理し、廃液バッファータンクでPを含有する処理液の廃液のP濃度を測定し、P濃度の測定値が許容上限未満のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃液バッファータンクから廃水処理場に送液し、P濃度の測定値が許容上限以上のときは、Pを含有する処理液の廃液を廃水処理場に送液するのを停止して廃液バッファータンクに貯留し、かつPを含有する処理液の濃度を目標濃度範囲内の値に低下させて被処理物を処理することを特徴とするPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
  2. 請求項1において、廃液バッファータンクに貯留されるPを含有する処理液の廃液のP濃度の測定値が許容上限未満になったら、廃液バッファータンクから廃水処理場へのPを含有する処理液の廃液の送液を行うことを特徴とする請求項1に記載のPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
  3. 廃液バッファータンクから廃水処理場へのPを含有する処理液の廃液の送液を開始したらPを含有する処理液のP濃度を目標範囲内の値に上昇させることを特徴とする請求項2に記載のPを含有する処理液の廃液濃度制御方法。
JP2007197268A 2007-07-30 2007-07-30 Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法 Expired - Fee Related JP5186826B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007197268A JP5186826B2 (ja) 2007-07-30 2007-07-30 Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法
PCT/JP2008/063711 WO2009017178A1 (ja) 2007-07-30 2008-07-24 Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法
KR1020127027710A KR101342177B1 (ko) 2007-07-30 2008-07-24 P를 함유하는 처리액의 폐액농도 제어방법
US12/667,270 US8435413B2 (en) 2007-07-30 2008-07-24 Method for controlling a waste water concentration of cleaning solution containing phosphorus
EP20080791941 EP2179970B1 (en) 2007-07-30 2008-07-24 Method of controlling concentration of p-containing treatment liquid waste
CN2008800229210A CN101687667B (zh) 2007-07-30 2008-07-24 含有p的处理液的废液浓度控制方法
KR20097023764A KR101311063B1 (ko) 2007-07-30 2008-07-24 P를 함유하는 처리액의 폐액농도 제어방법
TW97128387A TWI409225B (zh) 2007-07-30 2008-07-25 含磷處理液之廢液濃度控制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007197268A JP5186826B2 (ja) 2007-07-30 2007-07-30 Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009028679A true JP2009028679A (ja) 2009-02-12
JP5186826B2 JP5186826B2 (ja) 2013-04-24

Family

ID=40304408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007197268A Expired - Fee Related JP5186826B2 (ja) 2007-07-30 2007-07-30 Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8435413B2 (ja)
EP (1) EP2179970B1 (ja)
JP (1) JP5186826B2 (ja)
KR (2) KR101342177B1 (ja)
CN (1) CN101687667B (ja)
TW (1) TWI409225B (ja)
WO (1) WO2009017178A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8931682B2 (en) 2007-06-04 2015-01-13 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Robotically-controlled shaft based rotary drive systems for surgical instruments
CN104458824A (zh) * 2014-12-23 2015-03-25 冠礼控制科技(上海)有限公司 高精度浓度计及其测量方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5033132A (ja) * 1973-07-28 1975-03-31
JP2000176434A (ja) * 1998-12-11 2000-06-27 Tokyo Electron Ltd 排水処理装置および方法
JP2001049413A (ja) * 1999-08-02 2001-02-20 Nippon Steel Corp 溶融亜鉛めっき鋼板及びその製造方法
JP2003033771A (ja) * 2001-07-24 2003-02-04 Ebara Corp 異常検知機構を有する排水消毒装置
JP2006169572A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Nippon Steel Corp 鋼板のボンデ処理装置及びボンデ処理装置における水洗廃水の再利用方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK167891D0 (da) 1991-10-01 1991-10-01 Krueger I Systems As Fremgangsmaade til styring af spildevandsrensningsanlaeg under anvendelse af mutible styringsfunktioner
JP2682433B2 (ja) 1994-04-01 1997-11-26 日本軽金属株式会社 アルミニウム材の表面処理における廃液処理方法
JP3679942B2 (ja) 1999-02-26 2005-08-03 株式会社東芝 処理水質制御装置
DE19921135A1 (de) * 1999-05-07 2000-11-09 Henkel Kgaa Verfahren zur nickelarmen Zinkphoshatierung mit anschließender Wasserbehandlung
JP3491023B2 (ja) 2000-12-28 2004-01-26 独立行政法人産業技術総合研究所 亜鉛及び鉄を含む酸廃液の処理方法及び処理剤
TWI298712B (en) * 2002-05-22 2008-07-11 Ebara Corp Method and apparatus for treating organic wastewater capable of recovering phosphorus
KR100537049B1 (ko) * 2003-03-07 2005-12-16 윤선숙 내·외장 2단 침전지형 활성슬러지법에 의한 하수 및 오·폐수처리장치 및 방법
KR101259907B1 (ko) * 2003-04-11 2013-05-02 홍상헌 다중 원판형 슬러지 농축장치
TWI292170B (en) * 2003-04-29 2008-01-01 Kaijo Kk Concentration control device for semiconductor processing apparatus
US7563748B2 (en) 2003-06-23 2009-07-21 Cognis Ip Management Gmbh Alcohol alkoxylate carriers for pesticide active ingredients
DE10354563B4 (de) * 2003-11-21 2006-05-04 Henkel Kgaa Abwasserreduziertes Phosphatierverfahren durch Aufarbeitung von Entfettungslösung und/oder Spülwasser
KR20050043855A (ko) * 2005-04-19 2005-05-11 강성환 자동제어 수처리공정
TW200644111A (en) * 2005-06-03 2006-12-16 Shine World Optronics Technology Inc Monitor method for the concentration of etching liquid
JP5124928B2 (ja) 2005-09-27 2013-01-23 Jfeスチール株式会社 合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5033132A (ja) * 1973-07-28 1975-03-31
JP2000176434A (ja) * 1998-12-11 2000-06-27 Tokyo Electron Ltd 排水処理装置および方法
JP2001049413A (ja) * 1999-08-02 2001-02-20 Nippon Steel Corp 溶融亜鉛めっき鋼板及びその製造方法
JP2003033771A (ja) * 2001-07-24 2003-02-04 Ebara Corp 異常検知機構を有する排水消毒装置
JP2006169572A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Nippon Steel Corp 鋼板のボンデ処理装置及びボンデ処理装置における水洗廃水の再利用方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20100181259A1 (en) 2010-07-22
TWI409225B (zh) 2013-09-21
US8435413B2 (en) 2013-05-07
KR101311063B1 (ko) 2013-09-24
CN101687667A (zh) 2010-03-31
KR20120124499A (ko) 2012-11-13
CN101687667B (zh) 2013-05-15
WO2009017178A1 (ja) 2009-02-05
TW200916416A (en) 2009-04-16
EP2179970A4 (en) 2011-08-31
KR20100002281A (ko) 2010-01-06
EP2179970A1 (en) 2010-04-28
JP5186826B2 (ja) 2013-04-24
KR101342177B1 (ko) 2013-12-16
EP2179970B1 (en) 2014-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100712970B1 (ko) 부식을 줄이기 위한 방법
US10112852B2 (en) RDPreheating water jackets
US6418958B1 (en) Dual solid chemical feed system
JP5186826B2 (ja) Pを含有する処理液の廃液濃度制御方法
JP5763100B2 (ja) 処理される材料の湿式化学処理のための方法およびデバイス
KR20130062525A (ko) 도금액 유지 장치
JP2021142467A (ja) 消化システム
KR101555024B1 (ko) 에스비알 공법에 의한 고도처리 방법 및 이에 사용되는 장치
JP2022538030A (ja) 殺菌装置を駆動操作する方法
TW200831719A (en) Apparatus and method for non-contact liquid sealing
JP7017287B2 (ja) 薬液の希釈添加方法
CN110383429B (zh) 基板处理方法和基板处理装置
JP2015039653A (ja) 水処理システム
JP2003286593A (ja) ステンレス鋼の酸洗設備及び同設備の酸洗液制御方法
JP2017190485A (ja) 金属イオン供給装置
JPH07175224A (ja) 基板表面処理装置
CN208454572U (zh) 一种用氯水除循环水中菌藻的工艺装置
JP2009106848A (ja) 金属フープ条の洗浄方法及び洗浄装置
JPH07328603A (ja) 液体処理装置
JP4021547B2 (ja) スラリー補給方法およびスラリー補給装置
JP2023182436A (ja) 酸化剤廃液の還元処理方法
JP2002205091A (ja) 嫌気性廃水処理システム
JP2018176108A (ja) ベルト型濃縮装置の運転方法およびベルト型濃縮装置
JP2010267825A (ja) 薬液供給装置および薬液供給方法
JP2005213625A (ja) 鋼材の表面処理装置における薬剤濃度調整方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100422

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20120321

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120327

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130107

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160201

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5186826

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees