JP2000176434A - 排水処理装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排水処理の負担を軽減して排水処理コストを
低減することができ、工場設備等の源水の使用量を低減
することができる排水処理装置および方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ＴＯＣ計４３の測定結果に応じて、弁４
７ａ，４８ａにより、排水をＴＯＣ濃度が基準値以上の
ものと基準値未満のものとに分離し、ＴＯＣ濃度が基準
値以上の排水は排水処理された後、放流され、ＴＯＣ濃
度が基準値未満の排水は、回収され再利用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造設備等
において排出される排水を処理する排水処理装置および
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造設備においては、多種多量の
薬品が使用され、これらが排水として排出されている
が、この排水は、半導体を直接製造するラインからの製
造工程の排水と、半導体を製造するために必要な設備か
ら生じる製造工程以外の排水とに区分けされる。

【０００３】この製造工程の排水としては、半導体結晶
を研磨して生じる微粒子を含む排水、ウエハを洗浄して
生じる油分や有機溶剤を含む排水、リソグラフィ工程に
おけるレジスト液や現像液等の排水、さらに、ウエハの
薬品による洗浄後に再汚染を防止するためにウエハを純
水により洗浄した際の排水など種々のものがある。ま
た、製造工程以外の排水としては、超純水製造装置によ
り純水を製造する際に生じる排水、各種ガスを排出した
後に洗浄により生じるガスの成分を含んだガス洗浄排
水、さらに、冷却水、生活排水などがある。

【０００４】上記のような製造工程の排水は、大略的に
は、無機金属、有機溶剤等を多く含む排水を適当な時期
に数％〜数十％の濃厚液に処理し、この濃厚液を業者に
引き取らせるまたは別途処理する場合と、希薄な有機系
水洗水、酸およびアルカリ系水洗水、純水によりウエハ
を洗浄した際の排水などの排水に所定の排水処理を施し
た後に、放流する場合とに大別される。また、製造工程
以外の排水も、同様に、所定の排水処理を施した後に放
流するようになっている。

【０００５】具体的には、図３に示す排水処理装置で
は、各処理ユニット等からの排水を排出するための排出
管１には、濃度計２が介装され、この濃度計２の下流側
で分岐された排出管１の２つの分岐管１ａ，１ｂには、
それぞれ、開閉弁３，４が設けられ、濃度計２からの信
号により弁開度が調整されるようになっている。一方の
分岐管１ａには、濃度計２により、例えばフッ素濃度
（Ｆ⁻）が５０ｐｐｍ以上であると判別された排水（濃
厚液）が流され、貯留タンク５に貯留された後、業者に
引き取られるようになっている。他方の分岐管１ｂに
は、フッ素濃度が５０ｐｐｍより低い排水が流され、排
水処理ユニット６により所定の排水処理がされた後、放
流されるようになっている。

【０００６】また、「超純水の科学」（リアライズ社）
Ｐ１７４〜Ｐ１７６には、排水回収装置入口において異
常排水の混入を防止するために排水の分別が行われるこ
と、および、その監視項目として、電気伝導率、ｐＨ、
ＴＯＣ（ｔｏｔａｌ ｏｒｇａｎｉｃ ｃａｒｂｏｎ）
などがあることが開示されている。そして、ＴＯＣ濃度
を計測する場合、現状のｐｐｍのレンジで使用すること
ができるＴＯＣ計は、測定値が出るまでに約１０分の計
測時間が必要であるため、その計測遅れをカバーするた
めに、その計測時間以上の滞留時間を持った水槽を３基
使用し、張り込み・ＴＯＣの計測・分別先への排出とい
うように使い分ける必要があることが記載されている。
また、簡便な方法として、一つの水槽を用い、ＴＯＣの
良好時には、下部にＴＯＣ計の測定時間以上の滞留部分
を保有しておき、異常時に全量排出するような方法が示
されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述した図３の排水処
理装置において、フッ素濃度が５０ｐｐｍより低く所定
の排水処理の後に放流する排水は、その約８０％がフッ
素濃度が５ｐｐｍ以下であり、この５ｐｐｍ以下のもの
が全体に占める割合が非常に多く、５ｐｐｍ以上のもの
の割合は非常に少ないため、上記のように、フッ素濃度
が５０ｐｐｍより低い排水の全てについて、上記排水処
理ユニット６により排水処理を行って放流することは、
過重な処理を行っていることになり、コスト高騰の要因
になっている。また、処理した排水の全てを放流してい
るため、工場設備等の全体に占める源水の使用量が多い
といった問題がある。さらに、上述のように、さまざま
な排水濃度に対応させるため、貯留タンクを３基準備
し、張り込み・ＴＯＣ濃度の計測・分別先への排出とい
うように使い分けて用いた場合には、装置が複雑になっ
たり、設置面積が大きくなるなどの問題を招来してい
た。さらにまた、貯留タンクが１基の場合には、高濃度
排水混入時にタンク内の全量を排出する必要がある等の
問題がある。

【０００８】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であって、排水処理の負担を軽減して排水処理コストを
低減することができ、かつ工場設備等の源水の使用量を
低減することができる排水処理装置および方法を提供す
ることを目的とする。また、複雑かつ大型の設備を用い
ることなく総有機炭素濃度によって排水を分離すること
ができる排水処理装置および方法を提供することを目的
とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の第１の観点によれば、各種の製造装置から
排出された排水の不純物濃度を測定する不純物濃度測定
手段と、前記不純物濃度測定手段の測定結果に基づい
て、不純物濃度が基準値以上のものと基準値よりも低い
ものとに分離する分離手段と、不純物濃度が基準値以上
の排水に所定の排水処理を施して放流する排水処理・放
流手段と、不純物濃度が基準値よりも低い排水を回収す
る回収手段とを具備することを特徴とする排水処理装置
が提供される。

【００１０】本発明の第２の観点によれば、各種の製造
装置から排出された排水の総有機炭素の濃度を測定する
総有機炭素濃度測定装置と、前記総有機炭素濃度測定装
置を経た排水を、層流状態で移動させ、かつ順次排出す
るとともに、排水を導入してから排出するまでが総有機
炭素濃度測定装置における測定時間と対応するように該
排水を滞留させる滞留槽と、前記総有機炭素濃度測定装
置の測定値に基づいて、その値が基準値よりも低い排水
と、基準値以上の排水とを分離する分離手段と、前記総
有機炭素濃度測定装置の測定値が基準値以上の排水に所
定の排水処理を施して放流する排水処理・放流手段と、
前記総有機炭素濃度測定装置の測定値が基準値よりも低
い排水を回収する回収手段とを具備することを特徴とす
る排水処理装置が提供される。

【００１１】本発明の第３の観点によれば、各種の製造
装置から排出された排水の総有機炭素の濃度を測定する
総有機炭素濃度測定装置と、前記総有機炭素濃度測定装
置を経た排水を、排水を導入してから排出するまでが総
有機炭素濃度測定装置における測定時間と対応するよう
に該排水を滞留させる滞留槽と、前記滞留槽から排出さ
れた排水の導電率を測定する導電率測定装置と、前記総
有機炭素濃度測定装置の測定値および前記導電率測定装
置の測定値に基づいて、これらの値がいずれも基準値よ
りも低い排水と、これらの少なくとも一方が基準値以上
の排水とを分離する分離手段と、前記総有機炭素濃度測
定装置の測定値および前記導電率測定装置の測定値の少
なくとも一方が基準値以上の排水に所定の排水処理を施
して放流する排水処理・放流手段と、前記総有機炭素濃
度測定装置の測定値および前記導電率測定装置の測定値
のいずれも基準値よりも低い排水を回収する回収手段と
を具備することを特徴とする排水処理装置が提供され
る。

【００１２】本発明の第４の観点によれば、各種の製造
装置から排出された濃度排水の不純物濃度を測定する工
程と、前記不純物濃度の測定結果に基づいて、不純物濃
度が基準値以上のものと基準値よりも低いものとに分離
する工程と、不純物濃度が基準値以上の排水に所定の排
水処理を施して放流する工程と、不純物濃度が基準値よ
りも低い排水を回収する工程とを具備することを特徴と
する排水処理方法が提供される。

【００１３】本発明の第５の観点によれば、各種の製造
装置から排出された排水の総有機炭素の濃度を測定する
工程と、排水を滞留槽に導入し、その中を層流状態で移
動させ、かつ順次排出するとともに、排水を導入してか
ら排出するまでが前記総有機炭素の濃度を測定している
時間と対応するように前記排水を滞留させる工程と、有
機炭素濃度の測定値に基づいて、その値が基準値よりも
低い排水と、基準値以上の排水とを分離する工程と、前
記総有機炭素濃度の測定値が基準値以上の排水に所定の
排水処理を施して放流する工程と、前記総有機炭素濃度
の測定値が基準値よりも低い排水を回収する工程とを具
備することを特徴とする排水処理方法が提供される。

【００１４】本発明の第６の観点によれば、各種の製造
装置から排出された排水の総有機炭素の濃度を測定する
工程と、排水を滞留槽に導入し、その中を層流状態で移
動させ、かつ順次排出するとともに、排水を導入してか
ら排出するまでが前記総有機炭素の濃度を測定している
時間と対応するように前記排水を滞留させる工程と、前
記滞留槽から排出された排水の導電率を測定する工程
と、有機炭素濃度の測定値および導電率の測定値に基づ
いて、それらの値がいずれも基準値よりも低い排水と、
それらの少なくとも一方が基準値以上の排水とを分離す
る工程と、前記総有機炭素濃度の測定値および導電率の
測定値の少なくとも一方が基準値以上の排水に所定の排
水処理を施して放流する工程と、前記総有機炭素濃度の
測定値および導電率の測定値のいずれもが基準値よりも
低い排水を回収する工程とを具備することを特徴とする
排水処理方法が提供される。

【００１５】このような構成の本発明によれば、製造装
置からの排水を、不純物濃度が基準値以上のものと基準
値より低いものに分離し、不純物濃度の高い排水は、所
定の排水処理の後に放流し、不純物濃度の低い排水は回
収され、再利用することができるので、排水処理は不純
物濃度の高いもののみについて行えばよく、排水処理の
負担を軽減することができ、排水処理および放流のコス
トの低減を図ることができる。また、このように不純物
濃度の低い排水が回収され、再利用することができるの
で、工場設備等の全体に占める源水の使用量を削減する
ことができる。

【００１６】また、排水を総有機炭素量によって分離す
る場合には、総有機炭素濃度測定に比較的時間がかかる
ため、測定結果が出た時点では、測定対象の排水はかな
り下流側に到達しており、濃度によって連続的に排水を
分離することが実質的に困難であるが、上述したよう
に、排水を滞留槽に導入し、その中を層流状態で移動さ
せ、かつ順次排出するとともに、排水を導入してから排
出するまでが総有機炭素の濃度を測定している時間と対
応するように前記排水を滞留させるようにすれば、排水
を分離する地点には総有機炭素濃度の測定順に排水が到
達し、しかも排水がその地点に到達した際に、その総有
機炭素濃度の測定結果を分離手段に送るようにすること
ができるので、排水を総有機炭素濃度が基準値より低い
ものと、基準値以上のものとに連続的にかつ正確に分離
することができる。この場合に、滞留槽を設けるのみで
よいので、設備の複雑化および大型化を招来することが
ない。また、排水を分離する前に導電率を測定するよう
にすることにより、排水中の無機物質の濃度も把握する
ことができ、総有機炭素濃度および無機物質濃度のいず
れもが基準値より低い排水のみが回収され、再利用する
ことができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
排水処理装置および方法を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る排水処理装置のブロ
ック図であり、図２は、図１に示した排水処理装置に装
着された排水を不純物濃度に応じて分離する分離装置の
模式図である。

【００１８】図１に示すように、各種の製造装置１０
ａ，１０ｂ，……，１０ｎが設けられており、また、製
造工程以外の装置として、空調装置１１および流しユニ
ット１２が設けられている。

【００１９】この各種の製造装置１０ａ，１０ｂ，…
…，１０ｎからは、有機系、無機系、希薄なものなど排
水の種類に応じた複数の排水管１３ａ，１３ｂ，１３ｃ
が延びている。

【００２０】排水管１３ａには、有機系および無機系の
排水が流され、それぞれ、排水受けタンク１４，１５に
貯留され、その後、これら有機系および無機系の排水
は、業者に引き取られるまたは別途処理させるようにな
っている。

【００２１】排水管１３ｂには、他の有機系の排水が流
され、排水受けタンク１７に貯留され、同様に、業者に
引き取られるまたは別途処理されるようになっている。

【００２２】排水管１３ｃには、例えば、半導体ウエハ
の薬品による洗浄後に再汚染を防止するためにウエハを
純水により洗浄した際の排水などが流され、排水受けタ
ンク２０に貯留され、図２に詳細に示す機構により、こ
の排水を不純物濃度が基準値以上のものと基準値より低
いものとに分離し、不純物濃度が基準値以上のものは所
定の排水処理を施して放流する一方（図１に破線で示す
流れ）、不純物濃度が基準値よりも低いものは所定の処
理を施して回収され、再利用水として利用されるように
なっている（図１に実線で示す流れ）。

【００２３】具体的には、上記排水（例えば、フッ素濃
度（Ｆ⁻）が５０ｐｐｍより低いと判断されたもの）が
排水受けタンク２０に貯留され、滞留槽２１を経て分離
された排水のうちの不純物濃度の高いもの、具体的に
は、後述するＴＯＣ（総有機炭素）計４３（ｔｏｔａｌ
ｏｒｇａｎｉｃ ｃａｒｂｏｎ ａｎａｌｙｚｅｒ）
によって得られたＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ以上の排
水、または後述する導電率計４６によって得られた電気
伝導率が１００μｓ／ｃｍ以上の排水が、図１に破線で
示すライン２２を通って排水槽２３に流され、次いで、
反応槽および沈殿槽などからなる排水処理ユニット２４
により排水処理され、さらに、反応槽、濾過槽および活
性炭槽などからなる排水処理ユニット２５により排水処
理され、次いで、中間槽２６および監視槽２７を介し
て、河川等に放流される。

【００２４】滞留槽２１を経て分離された排水のうちの
不純物濃度の低いもの、具体的には、ＴＯＣ濃度が０．
５ｐｐｍより低くかつ電気伝導率が１００μｓ／ｃｍよ
り低い排水は、図１に実線で示す循環ライン３０を通っ
て、回収水受槽３１に至り、さらに活性炭、逆浸透膜、
ＵＶ殺菌、およびフィルターなどを有する処理ユニット
３２により処理され、次いで、中間タンクおよび１次純
水タンクなどからなる処理ユニット３３を経て再利用可
能な状態とされ回収される。この回収水は、上述した製
造工程における半導体製造装置およびそれ以外の装置で
ある空調装置１１および流しユニット１２に流されて、
再利用される。

【００２５】このように、本実施の形態では、製造装置
から排出され、例えばフッ素濃度が５０ｐｐｍより低い
と判断された排水が、不純物濃度が基準値以上のもの
と、不純物濃度が基準値より低いものとに分離され、濃
度が基準値以上の排水は、排水処理ユニット２４，２５
による排水処理の後に放流されている一方、不純物濃度
が基準値よりも低い排水は、処理ユニット３１，３２に
よる処理の後に回収されて再利用される。

【００２６】したがって、排水処理は不純物濃度の高い
もののみについて行えばよく、排水処理の負担を軽減す
ることができ、排水処理および放流のコストの低減を図
ることができる。また、このように工場設備等から排出
される排水のうち、不純物濃度が低いものを再利用水と
してリサイクル活用することができ、工場設備等の全体
に占める源水の使用量を削減することができる。特に、
不純物濃度が低いもの、例えばＴＯＣ濃度が０．５ｐｐ
ｍ未満のものが、８０％程度の大きな割合を占める場合
等に、排水処理の負担を著しく低減することができ、か
つ排水のうち大きな割合を占める部分を再利用すること
ができるので、源水の使用量を著しく少なくすることが
できる。

【００２７】次に、図２を参照して、排水を不純物濃度
に応じて分離する機構について説明する。図１にも示し
た排水管１３ｃには、排水受けタンク２０が介装されて
おり、この排水受けタンク２０には、排水の水位を計測
するためのリミッタースイッチ４１が設けられている。
この排水受けタンク２０の下流側には、ポンプ４２を介
して、ＴＯＣ計４３が介装されている。このＴＯＣ計４
３は、ＴＯＣ濃度を例えば所用時間３分間で測定するよ
うになっており、測定結果（すなわち、ＴＯＣ濃度が
０．５ｐｐｍ以上かそれ未満か）に応じて、後述する開
閉弁４７ａ，４８ａに信号を出力するようになってい
る。

【００２８】ＴＯＣ計４３の下流には、図１にも示した
滞留槽２１が配置されている。この滞留槽２１は排水を
下から導入して上から排出するようになっており、その
上部および下部には、導入された排水の流れを層流にす
るための整流板４５が設けられている。そして、この滞
留槽２１には排水を導入してから排出するまでがＴＯＣ
計４３における測定時間と対応するように排水が滞留さ
れる。整流板４５には多数の排水通過孔４５ａが形成さ
れており、排水がこの孔４５ａを通過することにより層
流となるようになっている。この整流板４５の大きさ
は、例えばφ１０００ｍｍであり、孔４５ａの大きさ
は、例えばφ６ｍｍである。なお、整流板４５の孔４５
ａの形状および個数を調整することにより、滞留槽２１
内を移動する排水の層流状態を制御し、排水が滞留槽２
１内を通過する時間を調整することができる。

【００２９】この滞留槽２１の下流には、排水の導電率
を測定するための導電率計４６が介装されている。この
導電率計４６により、排水の導電率が１００μｓ／ｃｍ
以上か未満かが測定され、測定結果に応じて、後述する
開閉弁４７ａ，４８ａに信号を出力するようになってい
る。なお、導電率は無機不純物濃度の指標であり、導電
率を測定することにより無機不純物量を把握することが
できる。

【００３０】この導電率計４６の下流おいては、配管１
３ｃは、配管４７および配管４８に分岐されており、排
水処理・放流側には、開閉弁４７ａが介装され、回収・
再利用側には、開閉弁４８ａが介装されている。これら
開閉弁４７ａ，４８ａの開閉は、上述したＴＯＣ計４３
および導電率計４６からの信号に応じて決定されるよう
になっている。

【００３１】導電率計４６の下流から排水受けタンク２
０に向けて循環ライン４９が設けられ、この循環ライン
４９には、上記リミッタースイッチ４１により開閉され
る開閉弁５０が介装されている。このように循環ライン
４９を設けているのは、各製造装置１０ａ，１０ｂ，…
…，１０ｎは、バッチ処理であり、排水が非連続で排出
されるため、排水受けタンク２０内の排水の量が少ない
ときには、分離槽２１の下流側から排水を排水受けタン
ク２０内に戻し、排水の排出量を極力連続的に調整する
ためである。

【００３２】また、図２に示すように、循環ライン４９
の先端部Ａは、排水受けタンク２０の奥底まで延長され
て、先端部Ａの管端が、常に、貯留する排水中に存する
状態とされる。すなわち、先端部Ａの管端が、排水受け
タンク２０中の排水に浸かっていない場合には、循環ラ
イン４９からのリターン排水が排水受けタンク２０内に
流入する際に、排水受けタンク２０内の排水中にエアー
が混入し、そのエアーによって、後段に配置されるＴＯ
Ｃ計４３でのＴＯＣ濃度計測の精度が悪化したり、滞留
槽２１内において、層流を形成し難いといった恐れがあ
るので、排水受けタンク２０へのリターン配管すなわち
循環ライン４９に、浸水する部分（先端部Ａ）を設け
て、エアー混入による層流破壊等を防止するようにして
いる。

【００３３】以上のような構成の機構において、排水受
けタンク２０内の排水は、ポンプ４２を介して、ＴＯＣ
計４３で連続的にサンプリングされＴＯＣ濃度が測定さ
れる。ＴＯＣ計４３を経た排水は、滞留槽２１内に下か
ら流入され、滞留槽２１に設けられた整流板４５により
層流にされ、上から順次排出される。そして、この滞留
槽２１は、排水を導入してから排出するまでがＴＯＣ濃
度を測定している時間と対応するように排水を滞留させ
る。したがって、排水を分離する地点にはＴＯＣ濃度の
測定順に排水が到達し、しかも排水がその地点に到達し
た際に、そのＴＯＣ濃度の測定信号を開閉弁４７ａ、４
８ａに送るようにすることができる。この滞留槽２１か
ら流出された排水は、導電率計４６により導電率が測定
される。その後、ＴＯＣ濃度計４３および導電率計４６
からの信号に応じて開閉弁４７ａ，４８ａが開閉され、
フッ素濃度が５０ｐｐｍ未満の排水のうち不純物濃度の
高いもの（ＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ以上、または、導
電率が１００μｓ／ｃｍ以上の排水）と、不純物濃度の
低いもの（ＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ未満および導電率
が１００μｓ／ｃｍ未満の排水）とに分離されて、図１
に示したように高濃度のものは排水処理された後放流さ
れ、濃度の低いものは回収されて再利用に供される。

【００３４】このように、排水が滞留槽２１中を層流状
態で移動され、かつ順次排出されるとともに、排水を導
入してから排出するまでがＴＯＣ濃度を測定している時
間と対応するように排水を滞留させるので、ＴＯＣ計４
３において測定に例えば３分間かかるとしても、排水を
分離する地点にはＴＯＣ濃度の測定順に排水が到達し、
しかも排水がその地点に到達した際に、その測定信号を
開閉弁４７ａ，４８ａに送るようにすることができるの
で、排水をＴＯＣ濃度に応じて連続的にかつ正確に分離
することができる。また、導電率計４６により排水の導
電率を測定するようにしているので、排水中の無機物質
の濃度も把握することができ、ＴＯＣ濃度および無機物
質濃度のいずれもが基準値より低い排水のみを回収して
再利用することができる。

【００３５】また、このように、ＴＯＣ濃度および導電
率を実際に測定できるため、どの排水ラインからの排水
かを把握することができ、排水ラインの管理を行うこと
ができる。

【００３６】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。例えば、不純物を測定す
るためにＴＯＣ濃度計および導電率計を用いたが、他の
ものであってもよい。また、層流を形成するために整流
板を用いたが、これに限らず他の手段で層流を形成して
もよい。さらに、上記実施の形態では、本発明を半導体
製造設備に適用した場合について説明したが、これに限
らず他の種々の製造設備に適用することが可能である。

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
製造装置からの排水を、不純物濃度が基準値以上のもの
と基準値より低いものに分離し、不純物濃度の高い排水
は、所定の排水処理の後に放流し、不純物濃度の低い排
水は回収され、再利用することができるので、排水処理
は不純物濃度の高いもののみについて行えばよく、排水
処理の負担を軽減することができ、排水処理および放流
のコストの低減を図ることができる。また、このように
不純物濃度の低い排水が回収され、再利用することがで
きるので、工場設備等の全体に占める源水の使用量を削
減することができる。

【００３８】また、排水を滞留槽に導入し、その中を層
流状態で移動させ、かつ順次排出するとともに、排水を
導入してから排出するまでが総有機炭素の濃度を測定し
ている時間と対応するように前記排水を滞留させるの
で、排水を分離する地点には総有機炭素濃度の測定順に
排水が到達し、しかも排水がその地点に到達した際に、
その総有機炭素濃度の測定結果を分離手段に送るように
することができるので、排水を総有機炭素濃度が基準値
より低いものと、基準値以上のものとに、連続的にかつ
正確に分離することができる。この場合に、滞留槽を設
けるのみでよいので、設備の複雑化および大型化を招来
することがない。また、排水を分離する前に導電率を測
定するようにすることにより、排水中の無機物質の濃度
も把握することができ、総有機炭素濃度および無機物質
濃度のいずれもが基準値より低い排水のみを回収して再
利用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る排水処理装置のブロ
ック図。

【図２】図１に示した排水処理装置に装着された排水を
濃度に応じて分離する分離装置の模式図。

【図３】従来に係る排水処理装置の模式図。

【符号の説明】

１０ａ，１０ｂ，……，１０ｎ；製造装置 １１；空調装置 １２；流しユニット １３ａ，１３ｂ，１３ｃ；排水管 ２０；排水受けタンク ２１；滞留槽 ２４，２５；排水処理ユニット ３１；回収槽 ３２，３３；処理ユニット ４１；リミッタースイッチ ４２；ポンプ ４３；ＴＯＣ計（総有機炭素濃度測定装置） ４５；整流板 ４６；導電率計（導電率測定装置） ４７，４８；開閉弁 ４９；循環ライン ５０；開閉弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小松 晴彦 東京都府中市住吉町２丁目30番７号 東京 エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者 篠田 智之 東京都府中市住吉町２丁目30番７号 東京 エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者 林 輝幸 東京都港区赤坂五丁目３番６号 東京エレ クトロン株式会社内 (72)発明者 金子 公仁 東京都港区赤坂五丁目３番６号 東京エレ クトロン株式会社内 (72)発明者 村田 興平 東京都新宿区西新宿一丁目25番１号 大成 建設株式会社内 (72)発明者 川原 正人 東京都新宿区西新宿一丁目25番１号 大成 建設株式会社内 (72)発明者 椚 友彦 東京都新宿区西新宿三丁目４番７号 栗田 工業株式会社内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 各種の製造装置から排出された排水の不
   純物濃度を測定する不純物濃度測定手段と、 前記不純物濃度測定手段の測定結果に基づいて、不純物
   濃度が基準値以上のものと基準値よりも低いものとに分
   離する分離手段と、 不純物濃度が基準値以上の排水に所定の排水処理を施し
   て放流する排水処理・放流手段と、 不純物濃度が基準値よりも低い排水を回収する回収手段
   とを具備することを特徴とする排水処理装置。
2. 【請求項２】 前記不純物濃度測定手段は、排水中の総
   有機炭素の濃度測定を行うことを特徴とする請求項１に
   記載の排水処理装置。
3. 【請求項３】 前記不純物濃度測定手段は、さらに、排
   水の導電率の測定を行うことを特徴とする請求項２に記
   載の排水処理装置。
4. 【請求項４】 各種の製造装置から排出された排水の総
   有機炭素の濃度を測定する総有機炭素濃度測定装置と、 前記総有機炭素濃度測定装置を経た排水を、層流状態で
   移動させ、かつ順次排出するとともに、排水を導入して
   から排出するまでが総有機炭素濃度測定装置における測
   定時間と対応するように該排水を滞留させる滞留槽と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値に基づいて、その
   値が基準値よりも低い排水と、基準値以上の排水とを分
   離する分離手段と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値が基準値以上の排
   水に所定の排水処理を施して放流する排水処理・放流手
   段と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値が基準値よりも低
   い排水を回収する回収手段とを具備することを特徴とす
   る排水処理装置。
5. 【請求項５】 前記分離手段は、前記総有機炭素濃度の
   値が基準値よりも低い排水を通流させる配管と、前記総
   有機炭素濃度の値が基準値以上の排水を通流させる配管
   と、排水をこれら配管に振り分ける弁機構とを有するこ
   とを特徴とす請求項４に記載の排水処理装置。
6. 【請求項６】 各種の製造装置から排出された排水の総
   有機炭素の濃度を測定する総有機炭素濃度測定装置と、 前記総有機炭素濃度測定装置を経た排水を、層流状態で
   移動させ、かつ順次排出するとともに、排水を導入して
   から排出するまでが総有機炭素濃度測定装置における測
   定時間と対応するように該排水を滞留させる滞留槽と、 前記滞留槽から排出された排水の導電率を測定する導電
   率測定装置と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値および前記導電率
   測定装置の測定値に基づいて、これらの値がいずれも基
   準値よりも低い排水と、これらの少なくとも一方が基準
   値以上の排水とを分離する分離手段と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値および前記導電率
   測定装置の測定値の少なくとも一方が基準値以上の排水
   に所定の排水処理を施して放流する排水処理・放流手段
   と、 前記総有機炭素濃度測定装置の測定値および前記導電率
   測定装置の測定値のいずれも基準値よりも低い排水を回
   収する回収手段とを具備することを特徴とする排水処理
   装置。
7. 【請求項７】 前記分離手段は、前記総有機炭素濃度お
   よび前記導電率の値のいずれもが基準値よりも低い排水
   を通流させる配管と、前記総有機炭素濃度および前記導
   電率の値の少なくとも一方が基準値以上の排水を通流さ
   せる配管と、排水をこれら配管に振り分ける弁機構とを
   有することを特徴とする請求項６に記載の排水処理装
   置。
8. 【請求項８】 前記滞留槽は、下から上に向けて排水が
   移動するとともに、排水を層流にするための整流板を有
   していることを特徴とする請求項４ないし請求項７のい
   ずれか１項に記載の排水処理装置。
9. 【請求項９】 前記総有機炭素濃度測定装置の上流側に
   設けられ、各種の製造装置から排出された排水を貯留す
   る排水受けタンクと、 この排水受けタンク内の排水の量が少ないときに、前記
   滞留槽の下流側から排水を前記排水受けタンク内に戻す
   ための循環ラインとをさらに具備することを特徴とする
   請求項４ないし請求項８のいずれか１項に記載の排水処
   理装置。
10. 【請求項１０】 各種の製造装置から排出された排水の
    不純物濃度を測定する工程と、 前記不純物濃度の測定結果に基づいて、不純物濃度が基
    準値以上のものと基準値よりも低いものとに分離する工
    程と、 不純物濃度が基準値以上の排水に所定の排水処理を施し
    て放流する工程と、 不純物濃度が基準値よりも低い排水を回収する工程とを
    具備することを特徴とする排水処理方法。
11. 【請求項１１】 各種の製造装置から排出された排水の
    総有機炭素の濃度を測定する工程と、 排水を滞留槽に導入し、その中を層流状態で移動させ、
    かつ順次排出するとともに、排水を導入してから排出す
    るまでが前記総有機炭素の濃度を測定している時間と対
    応するように前記排水を滞留させる工程と、 有機炭素濃度の測定値に基づいて、その値が基準値より
    も低い排水と、基準値以上の排水とを分離する工程と、 前記総有機炭素濃度の測定値が基準値以上の排水に所定
    の排水処理を施して放流する工程と、 前記総有機炭素濃度の測定値が基準値よりも低い排水を
    回収する工程とを具備することを特徴とする排水処理方
    法。
12. 【請求項１２】 各種の製造装置から排出された排水の
    総有機炭素の濃度を測定する工程と、 排水を滞留槽に導入し、その中を層流状態で移動させ、
    かつ順次排出するとともに、排水を導入してから排出す
    るまでが前記総有機炭素の濃度を測定している時間と対
    応するように前記排水を滞留させる工程と、 前記滞留槽から排出された排水の導電率を測定する工程
    と、 有機炭素濃度の測定値および導電率の測定値に基づい
    て、それらの値がいずれも基準値よりも低い排水と、そ
    れらの少なくとも一方が基準値以上の排水とを分離する
    工程と、 前記総有機炭素濃度の測定値および導電率の測定値の少
    なくとも一方が基準値以上の排水に所定の排水処理を施
    して放流する工程と、 前記総有機炭素濃度の測定値および導電率の測定値のい
    ずれもが基準値よりも低い排水を回収する工程とを具備
    することを特徴とする排水処理方法。