JP2009022917A - 塩素製造用触媒の賦活方法及び塩素の製造方法 - Google Patents

塩素製造用触媒の賦活方法及び塩素の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009022917A
JP2009022917A JP2007190523A JP2007190523A JP2009022917A JP 2009022917 A JP2009022917 A JP 2009022917A JP 2007190523 A JP2007190523 A JP 2007190523A JP 2007190523 A JP2007190523 A JP 2007190523A JP 2009022917 A JP2009022917 A JP 2009022917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
gas
chlorine
contact
rate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007190523A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5169047B2 (ja
Inventor
Yohei Uchida
洋平 内田
Kohei Seki
航平 関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2007190523A priority Critical patent/JP5169047B2/ja
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to PCT/JP2008/063462 priority patent/WO2009014229A1/ja
Priority to BRPI0814117-7A2A priority patent/BRPI0814117A2/pt
Priority to KR1020107003531A priority patent/KR101493545B1/ko
Priority to CN2008801001038A priority patent/CN101754808B/zh
Priority to US12/669,757 priority patent/US20100183499A1/en
Priority to EP08791701A priority patent/EP2181764A4/en
Publication of JP2009022917A publication Critical patent/JP2009022917A/ja
Priority to US13/362,053 priority patent/US8318125B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5169047B2 publication Critical patent/JP5169047B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/90—Regeneration or reactivation
    • B01J23/96—Regeneration or reactivation of catalysts comprising metals, oxides or hydroxides of the noble metals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J38/00—Regeneration or reactivation of catalysts, in general
    • B01J38/04—Gas or vapour treating; Treating by using liquids vaporisable upon contacting spent catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J38/00—Regeneration or reactivation of catalysts, in general
    • B01J38/04—Gas or vapour treating; Treating by using liquids vaporisable upon contacting spent catalyst
    • B01J38/10—Gas or vapour treating; Treating by using liquids vaporisable upon contacting spent catalyst using elemental hydrogen
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J38/00—Regeneration or reactivation of catalysts, in general
    • B01J38/04—Gas or vapour treating; Treating by using liquids vaporisable upon contacting spent catalyst
    • B01J38/12—Treating with free oxygen-containing gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00—Halogens; Halogen acids
    • C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
    • C01B7/03—Preparation from chlorides
    • C01B7/04—Preparation of chlorine from hydrogen chloride
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/02—Boron or aluminium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/04—Alumina
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
    • B01J23/46—Ruthenium, rhodium, osmium or iridium
    • B01J23/462—Ruthenium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0201—Impregnation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/584—Recycling of catalysts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒の活性を効果的に回復させうる方法を提供する。
【解決手段】活性が低下した塩素製造用触媒を、一酸化炭素及び／又は水素を含有する還元性ガスで接触処理する。また、前記還元性ガスで接触処理した後、酸化性ガスで接触処理するとより効果的に触媒を賦活できる。塩素製造用触媒としては、ルテニウム触媒、特に酸化ルテニウムを含有する触媒が好適な対象となる。
【選択図】なし

Description

本発明は、塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒を賦活する方法に関する。また、本発明は、この方法で賦活した塩素製造用触媒を用いて塩化水素を酸素で酸化することにより、塩素を製造する方法にも関係している。
塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法として、特開２００７−７５２１号公報（特許文献１）には、活性が低下した塩素製造用触媒を、実質的に酸素及び／又は不活性ガスのみからなるガスと接触させる方法が記載されている。
特開２００７−７５２１号公報
しかしながら、上記文献に記載の方法では、活性が低下した塩素製造用触媒の活性を、必ずしも十分には回復することができなかった。
そこで、本発明の目的は、活性が低下した塩素製造用触媒の活性を効果的に回復させうる方法を提供することにある。
本発明者等は鋭意研究を行った結果、活性が低下した塩素製造用触媒を、所定の還元性ガスで処理することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒を、一酸化炭素及び／又は水素を含有する還元性ガスで接触処理することを特徴とする塩素製造用触媒の賦活方法を提供するものである。
また、本発明によれば、上記方法により賦活した塩素製造用触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化することにより、塩素を製造する方法も提供される。
本発明の賦活方法によれば、活性が低下した塩素製造用触媒の活性を効果的に回復させることができ、この方法により塩素製造用触媒を賦活して再使用することにより、コスト的に有利に塩素を製造することができる。
本発明が賦活処理の対象とする触媒は、塩化水素を酸素で酸化して塩素を製造する際に使用される塩素製造用の触媒（以下、単に触媒ということがある）である。塩素製造用触媒としては、例えば、銅触媒、クロム触媒、ルテニウム触媒などが挙げられる。
銅触媒の好適な例としては、一般にＤｅａｃｏｎ触媒と称される、塩化銅と塩化カリウムに第三成分として種々の化合物を添加してなる触媒を挙げることができる。クロム触媒の好適な例としては、特開昭６１−１３６９０２号公報、特開昭６１−２７５１０４号公報、特開昭６２−１１３７０１号公報及び特開昭６２−２７０４０５号公報に示される如き、酸化クロムを含有する触媒を挙げることができる。また、ルテニウム触媒の好適な例としては、特開平９−６７１０３号公報、特開平１０−３３８５０２号公報、特開２０００−２８１３１４号公報、特開２００２−７９０９３号公報及び特開２００２−２９２２７９号公報に示される如き、酸化ルテニウムを含有する触媒を挙げることができる。
中でも、ルテニウム触媒、特に酸化ルテニウムを含有する触媒に対し、本発明の方法は好適に用いられる。酸化ルテニウムを含有する触媒は、例えば、実質的に酸化ルテニウムのみからなるものであってもよいし、酸化ルテニウムが、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化ニオブ、活性炭などの担体に担持されてなる担持酸化ルテニウムであってもよいし、酸化ルテニウムと、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化ニオブなどの他の酸化物とからなる複合酸化物であってもよい。
上記の如き触媒を用いる塩素の製造は、通常、触媒が充填された固定床反応器又は触媒を流動させた流動床反応器中に、塩化水素及び酸素を供給しながら、気相条件下に連続式で行われる。その際、例えば特開２００１−１９４０５号公報に示される如く、塩化水素及び酸素に加えて、水蒸気を供給すると、触媒層の温度分布を平滑化できて有利である。
反応温度は、通常１００〜５００℃、好ましくは２００〜４００℃であり、反応圧力は、通常０．１〜５ＭＰａ程度である。酸素源としては、空気を使用してもよいし、純酸素を使用してもよい。塩化水素を完全に塩素に酸化するためには、理論上、塩化水素１モルに対し酸素１／４モルが必要であるが、通常、この理論量の０．１〜１０倍の酸素が使用される。塩化水素の供給速度は、触媒層の体積あたりのガスの体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＧＨＳＶで表して、通常１０〜２００００ｈ-1程度である。
塩化水素源として使用できる塩化水素含有ガスとしては、例えば、水素と塩素との反応により生成するガスや、塩酸の加熱により発生するガスの他、塩素化合物の熱分解反応又は燃焼反応、ホスゲンによる有機化合物のカルボニル化反応、塩素による有機化合物の塩素化反応、クロロフルオロアルカンの製造により発生する各種副生ガス、さらには焼却炉から発生する燃焼排ガスなどが挙げられる。
ここで、塩素化合物の熱分解反応としては、例えば、１，２−ジクロロエタンから塩化ビニルが生成する反応、クロロジフルオロメタンからテトラフルオロエチレンが生成する反応などが挙げられ、ホスゲンによる有機化合物のカルボニル化反応としては、例えば、アミンからイソシアネートが生成する反応、ヒドロキシ化合物から炭酸エステルが生成する反応などが挙げられ、塩素による有機化合物の塩素化反応としては、例えば、プロピレンから塩化アリルが生成する反応、エタンから塩化エチルが生成する反応、ベンゼンからクロロベンゼンが生成する反応などが挙げられる。また、クロロフルオロアルカンの製造としては、例えば、四塩化炭素とフッ化水素の反応によるジクロロジフルオロメタンとトリクロロモノフルオロメタンの製造、メタンと塩素とフッ化水素の反応によるジクロロジフルオロメタンとトリクロロモノフルオロメタンの製造などが挙げられる。
上記酸化反応では、通常、運転時間の経過につれて、すなわち触媒の使用時間の経過につれて、触媒の活性が徐々に低下していく。また、運転中の操作ミスや機器の不具合などが原因となって、予定外の触媒活性の低下も起こりうる。例えば、反応温度の制御が困難になって、触媒が長時間、高温にさらされたり、酸素の供給が停止して、触媒が酸素不在下に長時間、塩化水素と接触したりすると、触媒の活性が低下することがある。さらに、スタートアップの際に酸素の供給開始が遅れたり、反応を一旦停止する際に塩化水素の供給停止が遅れたりして、触媒が酸素不在下に長時間、塩化水素と接触しても、触媒の活性が低下することがある。また、上記酸化反応により生じたガスを濃硫酸で洗浄脱水した後、塩素を分離し、残りのガス（残ガス）を原料として回収して、再度、上記酸化反応に用いることがあるが、該残ガス中に硫黄分が含まれていると触媒活性を低下させることがある。さらに、例えば、アミンをホスゲンと反応させてイソシアネートを生成する際に副生する塩化水素には、ホスゲン由来の硫化カルボニル、硫化水素、二硫化炭素、酸化硫黄などの不純物が含まれることがあるが、かかる塩化水素を原料として前記酸化反応に用いると触媒活性を低下させることがある。そこで、本発明は、このように活性が低下した触媒の活性を回復させるべく、一酸化炭素及び／又は水素を含有する還元性ガスで接触処理を行うものである。特に、活性が低下した触媒のうち、硫黄分を含んだ塩化水素を原料として前記酸化反応に用いた結果、活性が低下した触媒に対して、本発明は好適に採用される。
一酸化炭素及び／又は水素を含有する還元性ガスは、一酸化炭素のみからなるガスでもよいし、水素のみからなるガスでもよいし、一酸化炭素と水素との混合ガスでもよい。また、これらガスに加え不活性ガスを含んでもよい。ここでいう不活性ガスは、触媒に対して実質的に酸化性及び還元性を示さず、また実質的に酸性及び塩基性を示さない中性の成分であり、例えば、水蒸気、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素などが挙げられ、必要に応じてそれらの２種以上を混合して用いることもできる。かかる不活性ガスとして、好ましくは窒素が用いられる。
上記還元性ガス中の一酸化炭素及び／又は水素の濃度は、通常０．１〜１００体積％、好ましくは１〜２０体積％である。かかる濃度が０．１体積％より低いと触媒の賦活に長時間を要することになる。
活性が低下した塩素製造用触媒を上記還元性ガスで接触処理する際の温度、すなわち、上記還元性ガスによる接触処理温度は、通常１００〜５００℃、好ましくは１５０〜４５０℃である。この温度が低すぎると、触媒の賦活に長時間を要し、この温度が高すぎると、触媒成分が揮散し易くなる。上記還元性ガスで接触処理する際の圧力は、通常０．０１〜３ＭＰａ、好ましくは０．１〜１ＭＰａである。上記還元性ガスによる接触処理は、固定床形式で行ってもよいし、流動床形式で行ってもよい。上記還元性ガスの供給速度は、触媒層の体積あたりのガスの体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＧＨＳＶで表して、通常１〜１０００００ｈ-1程度である。また、上記還元性ガスによる接触処理の時間は、通常０．５〜１００時間程度である。
活性が低下した塩素製造用触媒を上記還元性ガスで接触処理した後、酸化性ガスで接触処理すると、より効果的に触媒を賦活することができる。かかる酸化性ガスは、酸化性物質を含むガスであり、典型的には酸素含有ガスが挙げられる。この酸素源としては、通常、空気や純酸素が用いられ、必要に応じて上述した不活性ガスで希釈することができる。かかる不活性ガスとしては、好ましくは窒素が用いられる。
上記酸化性ガスが酸素含有ガスである場合、該ガス中の酸素濃度は、通常０．１〜１００体積％、好ましくは１０〜１００体積％である。
上記酸化性ガスによる接触処理温度は、通常２００〜５００℃、好ましくは２５０〜４５０℃である。この温度が低すぎると、触媒の賦活に長時間を要し、この温度が高すぎると、触媒成分が揮散し易くなる。上記酸化性ガスで接触処理する際の圧力は、通常０．１〜３ＭＰａ、好ましくは０．１〜１ＭＰａである。上記酸化性ガスによる接触処理は、固定床形式で行ってもよいし、流動床形式で行ってもよい。上記酸化性ガスの供給速度は、触媒層の体積あたりのガスの体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＧＨＳＶで表して、通常１〜１０００００ｈ-1程度である。また、上記酸化性ガスによる接触処理の時間は、通常０．５〜１００時間程度である。
本発明では、（１）活性が低下した塩素製造用触媒を、水で接触処理した後、上記還元性ガスで接触処理し、次いで上記酸化性ガスで接触処理するか、（２）活性が低下した塩素製造用触媒を、上記還元性ガスで接触処理した後、水で接触処理し、次いで上記酸化性ガスで接触処理するか、又は（３）活性が低下した塩素製造用触媒を、上記還元性ガスで接触処理した後、上記酸化性ガスで接触処理し、次いで水で接触処理すると、さらに効果的に触媒を賦活することができる。中でも、上記（１）の方法がより好ましい。
上記水による接触処理で使用する水としては、蒸留水、イオン交換水、超純水などの純度の高い水が好ましい。使用する水に不純物が多く含まれると、かかる不純物が触媒に付着して、触媒の活性を十分に賦活できない場合がある。ただし、使用する水に塩化水素が溶存していてもかまわない。
水による接触処理温度は、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜９０℃である。この温度が低すぎると触媒を十分に賦活できないことがある。また、水で接触処理する際の圧力は、通常０．１〜１ＭＰａ、好ましくは大気圧である。水による接触処理は、固定床形式で行ってもよいし、バッチ回分式で行ってもよい。固定床形式で行う場合、上記水の供給速度は、触媒の体積あたりの液の体積供給速度（０℃、１気圧換算）、すなわちＬＨＳＶで表して、通常０．０１〜１００ｈ-1程度であり、接触処理時間は、通常０．５〜１００時間程度である。固定床形式では水を循環させてもよい。また、バッチ回分方式で行う場合に使用する水の量は、触媒１重量部に対して、通常１〜１００重量部程度であり、接触処理時間は、通常０．５〜１２０時間程度である。また、接触処理回数は通常１〜１０回程度である。
かくして賦活された塩素製造用触媒は、塩化水素を酸素で酸化する反応に再使用することができ、このように触媒を賦活、再使用することにより、触媒コストを低減することができ、塩素をコスト的に有利に製造することができる。
前記酸化反応を固定床形式で行う場合は、触媒が充填された反応器中に塩化水素及び酸素からなる原料ガスを供給しながら酸化反応を行い、運転の継続が困難になる程度に触媒の活性が低下したら、原料ガスの供給を停止し、次いで触媒が反応器中に充填されたまま本発明の賦活処理を行った後、原料ガスの供給を再開して前記酸化反応を行い、以後、必要によりこれら賦活処理と酸化反応とを繰り返し行う処方が、有利に採用される。また、前記酸化反応を流動床形式で行う場合は、酸化反応を行いながら、反応器から触媒の一部を連続的又は間歇的に抜き出して、別の容器内で賦活処理した後、反応器に戻すという処方、すなわち、触媒を反応器と賦活処理用の容器の間で循環させる処方が有利に採用される。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。例中、ガスの供給速度（ｍｌ／ｍｉｎ）は、特記ない限り、０℃、１気圧の換算値である。
参考例１
（ａ）新品触媒の調製
酸化チタン５０重量部〔堺化学(株)製のＳＴＲ−６０Ｒ、１００％ルチル型〕、α−アルミナ１００重量部〔住友化学(株)製のＡＥＳ−１２〕、チタニアゾル１３．２重量部〔堺化学(株)製のＣＳＢ、チタニア含有量３８重量％〕、及びメチルセルロース２重量部〔信越化学(株)製のメトローズ６５ＳＨ−４０００〕を混合し、次いで純水を加えて混練した。この混合物を直径３．０ｍｍφの円柱状に押出し、乾燥した後、長さ４〜６ｍｍ程度に破砕した。得られた成型体を空気中、８００℃で３時間焼成し、酸化チタンとα−アルミナの混合物からなる担体を得た。この担体に、塩化ルテニウムの水溶液を含浸し、乾燥した後、空気中、２５０℃で２時間焼成することにより、酸化ルテニウムが２重量％の担持率で上記担体に担持されてなる青灰色の担持酸化ルテニウムを得た。この担持酸化ルテニウム（新品触媒）をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０２重量％であった。
（ｂ）活性が低下した触媒（以下、劣化触媒という）の取得
上記参考例１（ａ）で得た新品触媒を、反応器に充填した。次に、塩化水素（硫黄分を１３０体積ｐｐｂ含む）と酸素とからなる原料ガスを、該反応器に供給しながら酸化反応を行うことにより、劣化触媒を調製した。かかる劣化触媒を抜き出し、ＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．１４重量％であった。
実施例１
（ａ）劣化触媒の賦活処理
（還元性ガスによる接触処理）
参考例１（ｂ）の劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、一酸化炭素ガスを３．２ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを２８．８ｍｌ／ｍｉｎ（０．０８ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、一酸化炭素ガスの供給を停止し、窒素ガスの供給を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）とした後、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、塩化水素ガス（硫黄分を１９体積ｐｐｂ含む）を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）、及び酸素ガスを４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給することにより、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間の時点で、反応管出口のガスを３０重量％ヨウ化カリウム水溶液に流通させることによりサンプリングを２０分間行い、ヨウ素滴定法により塩素の生成量を測定し、塩素の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）を求めた。この塩素の生成速度と上記の塩化水素の供給速度から、下式により塩化水素の転化率を計算し、表１に示した。
塩化水素の転化率（％）＝〔塩素の生成速度（ｍｏｌ／ｌ）×２÷塩化水素の供給速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００
実施例２
（ａ）劣化触媒の賦活処理
（還元性ガスによる接触処理）
参考例１（ｂ）の劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、一酸化炭素ガスを３．２ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを２８．８ｍｌ／ｍｉｎ（０．０８ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、２時間保持した。
（酸化性ガスによる接触処理）
上記還元性ガスによる接触処理に引き続き、一酸化炭素ガスの供給を停止し、酸素を４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを１６０ｍｌ／ｍｉｎ（０．４３ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、３５０℃で２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）の酸化性ガスによる接触処理に引き続き、酸素の供給を停止し、窒素の供給を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）とした後、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、塩化水素ガス（硫黄分を１９体積ｐｐｂ含む）を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）、及び酸素ガスを４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給することにより、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間の時点で、反応管出口のガスを３０重量％ヨウ化カリウム水溶液に流通させることによりサンプリングを２０分間行い、ヨウ素滴定法により塩素の生成量を測定し、塩素の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）を求めた。この塩素の生成速度と上記の塩化水素の供給速度から、上述した式により塩化水素の転化率を計算した。結果を表１に示す。
実施例３
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を３００℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例４
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。尚、本評価後の触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０８重量％であった。
実施例５
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の酸化性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を２８０℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。尚、本評価後の触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．１２重量％であった。
実施例６
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を３００℃とし、実施例２（ａ）の酸化性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例７
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の酸化性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例８
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例２（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とし、実施例２（ａ）の酸化性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例２（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例９
（ａ）劣化触媒の賦活処理
（還元性ガスによる接触処理）
参考例１（ｂ）の劣化触媒２．４ｇを、内径１４ｍｍの石英製反応管に充填した。この中に、窒素ガスを９０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、電気炉にて、触媒層の温度を３５０℃にした。引き続き窒素ガスを同速度で供給しながら、水素ガスを１０ｍｌ／ｍｉｎ（０．０２７ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、１．５時間保持した。次いで、水素ガスの供給を停止した後、窒素ガスを供給しながら１００℃以下にし、触媒を抜き出した。
（酸化性ガスによる接触処理）
上記還元性ガスによる接触処理により得られた触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした。次いで、酸素を４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを１６０ｍｌ／ｍｉｎ（０．４３ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例１０
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例９（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を２００℃とし、保持時間を２時間とした以外は、実施例９（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例１１
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例９（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を２５０℃とした以外は、実施例９（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。尚、本評価後の触媒をＩＣＰ発光分析法により分析したところ、硫黄含有量は０．０９重量％であった。
実施例１２
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例９（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例９（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
実施例１３
（ａ）劣化触媒の賦活処理
実施例９（ａ）の還元性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とし、実施例９（ａ）の酸化性ガスによる接触処理において、触媒層の温度を４００℃とした以外は、実施例９（ａ）と同様の条件で、触媒の賦活処理を行った。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
比較例１（劣化触媒の評価；賦活処理未実施）
参考例１（ｂ）の劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴中に反応管を浸して、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、１５分経過後、窒素ガスの供給を停止し、塩化水素ガス（硫黄分を１９体積ｐｐｂ含む）を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）、及び酸素ガスを４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給することにより、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間の時点で、実施例２（ｂ）と同様に、サンプリングを行って塩素の生成速度を求め、塩化水素の転化率を計算した。結果を表１に示す。
比較例２（賦活処理として酸化性ガスによる接触処理のみを実施）
（ａ）劣化触媒の賦活処理
参考例１（ｂ）の劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃に昇温した。次いで、酸素を４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを１６０ｍｌ／ｍｉｎ（０．４３ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表１に示す。
比較例３（賦活処理として不活性ガスによる接触処理のみを実施）
（ａ）劣化触媒の賦活処理
参考例１（ｂ）の劣化触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴中に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした後、２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、窒素の供給を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）とした後、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、塩化水素ガス（硫黄分を１９体積ｐｐｂ含む）を８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）、及び酸素ガスを４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給することにより、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間の時点で、実施例２（ｂ）と同様に、サンプリングを行って塩素の生成速度を求め、塩化水素の転化率を計算した。結果を表１に示す。
Figure 2009022917
実施例１４
（ａ）劣化触媒の賦活処理
（水による接触処理）
参考例１（ｂ）の劣化触媒５ｇとイオン交換水５０ｇとを容器に入れ、これらを混合し、２５℃で１４時間静置した後上澄み液をデカンテーションにより除去した。次いで、静置時間を２０時間、９４時間とした以外は先と同様の操作を２回繰り返した後、６０℃で２時間乾燥して、水処理触媒を得た。
（還元性ガスによる接触処理）
上記で得られた水処理触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴に反応管を浸して、触媒層の温度を３５０℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、一酸化炭素ガスを３．２ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを２８．８ｍｌ／ｍｉｎ（０．０８ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、２時間保持した。
（酸化性ガスによる接触処理）
上記還元性ガスによる接触処理に引き続き、一酸化炭素ガスの供給を停止し、酸素を４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．００９ｍｏｌ／ｈ）、及び窒素ガスを１６０ｍｌ／ｍｉｎ（０．４３ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給し、４００℃で２時間保持した。
（ｂ）賦活触媒の評価
上記（ａ）に引き続き、実施例２（ｂ）と同様に、賦活触媒の評価を行った。結果を表２に示す。
比較例４（賦活処理として水による接触処理のみを実施）
実施例１４（ａ）の水処理触媒１ｇを、内径１３ｍｍのニッケル製反応管に充填し、さらに触媒層のガス入口側に予熱層として、α−アルミナ球〔ニッカトー（株）製のＳＳＡ９９５〕１２ｇを充填した。この中に、窒素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給しながら、溶融塩〔硝酸カリウム／亜硝酸ナトリウム＝１／１（重量比）〕を熱媒体とする塩浴中に反応管を浸して、触媒層の温度を２８１〜２８２℃にした。次いで、窒素ガスの供給を停止し、塩化水素ガスを８０ｍｌ／ｍｉｎ（０．２１ｍｏｌ／ｈ）、及び酸素ガスを４０ｍｌ／ｍｉｎ（０．１１ｍｏｌ／ｈ）の速度で供給することにより、触媒層温度２８１〜２８２℃で酸化反応を行った。反応開始から１．５時間の時点で、実施例２（ｂ）と同様に、サンプリングを行って塩素の生成速度を求め、塩化水素の転化率を計算した。結果を表２に示す。
Figure 2009022917

Claims (9)

  1. 塩化水素を酸素で酸化する反応に使用される塩素製造用触媒の賦活方法であって、活性が低下した塩素製造用触媒を、一酸化炭素及び／又は水素を含有する還元性ガスで接触処理することを特徴とする塩素製造用触媒の賦活方法。
  2. 活性が低下した塩素製造用触媒を、前記還元性ガスで接触処理した後、酸化性ガスで接触処理する請求項１に記載の方法。
  3. 活性が低下した塩素製造用触媒を、水で接触処理した後、前記還元性ガスで接触処理し、次いで酸化性ガスで接触処理する請求項１又は２に記載の方法。
  4. 活性が低下した塩素製造用触媒を、前記還元性ガスで接触処理した後、水で接触処理し、次いで酸化性ガスで接触処理する請求項１又は２に記載の方法。
  5. 活性が低下した塩素製造用触媒を、前記還元性ガスで接触処理した後、酸化性ガスで接触処理し、次いで水で接触処理する請求項１又は２に記載の方法。
  6. 前記還元性ガスによる接触処理温度が１５０〜４５０℃である請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
  7. 前記酸化性ガスによる接触処理温度が２５０〜４５０℃である請求項２〜６のいずれかに記載の方法。
  8. 塩素製造用触媒が、酸化ルテニウムを含有する触媒である請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
  9. 請求項１〜８のいずれかに記載の方法により塩素製造用触媒を賦活し、この賦活触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化することを特徴とする塩素の製造方法。
JP2007190523A 2007-07-23 2007-07-23 塩素の製造方法 Active JP5169047B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007190523A JP5169047B2 (ja) 2007-07-23 2007-07-23 塩素の製造方法
BRPI0814117-7A2A BRPI0814117A2 (pt) 2007-07-23 2008-07-18 Método para ativar catalisador para produção de cloro
KR1020107003531A KR101493545B1 (ko) 2007-07-23 2008-07-18 염소를 제조하기 위한 촉매의 부활 방법
CN2008801001038A CN101754808B (zh) 2007-07-23 2008-07-18 用于制造氯的催化剂的活化方法
PCT/JP2008/063462 WO2009014229A1 (ja) 2007-07-23 2008-07-18 塩素を製造するための触媒の賦活方法
US12/669,757 US20100183499A1 (en) 2007-07-23 2008-07-18 Method for activating catalyst for chlorine production
EP08791701A EP2181764A4 (en) 2007-07-23 2008-07-18 PROCESS FOR ACTIVATION OF A CATALYST FOR THE PRODUCTION OF CHLORINE
US13/362,053 US8318125B2 (en) 2007-07-23 2012-01-31 Method for activating catalyst for chlorine production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007190523A JP5169047B2 (ja) 2007-07-23 2007-07-23 塩素の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009022917A true JP2009022917A (ja) 2009-02-05
JP5169047B2 JP5169047B2 (ja) 2013-03-27

Family

ID=40281471

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007190523A Active JP5169047B2 (ja) 2007-07-23 2007-07-23 塩素の製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (2) US20100183499A1 (ja)
EP (1) EP2181764A4 (ja)
JP (1) JP5169047B2 (ja)
KR (1) KR101493545B1 (ja)
CN (1) CN101754808B (ja)
BR (1) BRPI0814117A2 (ja)
WO (1) WO2009014229A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010050546A1 (ja) * 2008-10-30 2010-05-06 住友化学株式会社 塩素の製造方法
WO2010137504A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 住友化学株式会社 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
WO2010137505A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 住友化学株式会社 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
US20120087855A1 (en) * 2009-06-10 2012-04-12 Basf Se Process for the oxidation of hydrogen chloride over a catalyst having a low surface roughness
JP2012513885A (ja) * 2008-12-30 2012-06-21 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 塩化水素酸化用の酸化ルテニウム含有触媒の再生方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012033078A1 (ja) * 2010-09-10 2012-03-15 東亞合成株式会社 セラミック成形用添加剤
EP3756758B1 (en) * 2019-04-30 2024-05-01 Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences Catalyst for preparing vinyl chloride by cracking 1,2-dichloroethane and preparation and regeneration methods therefor
CN112916053A (zh) * 2019-12-06 2021-06-08 中国科学院大连化学物理研究所 一种催化剂的再生方法
CN111905724B (zh) * 2020-07-08 2023-04-25 深圳大学 氧化钌催化剂及其制备方法和应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62256930A (ja) * 1986-04-28 1987-11-09 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk ルテニウムを回収する方法
JP2002292279A (ja) * 2001-01-29 2002-10-08 Sumitomo Chem Co Ltd 担持酸化ルテニウム触媒および塩素の製造方法
JP2005289800A (ja) * 2004-03-22 2005-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素の製造方法
JP2006219325A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 酸化アルミニウム−酸化チタン混合成形体の製造方法
JP2007021484A (ja) * 2005-06-13 2007-02-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 酸化用触媒の製造方法、塩素の製造方法、並びに一酸化炭素及び／又は不飽和炭化水素の酸化方法
JP2007175700A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 担持ルテニウムの製造方法および塩素の製造方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2451870A (en) * 1942-09-04 1948-10-19 Standard Oil Dev Co Chlorine manufacture
US2602021A (en) * 1948-06-30 1952-07-01 Kellogg M W Co Catalytic production of chlorine
BE573980A (ja) * 1958-01-09
US3198750A (en) * 1962-12-26 1965-08-03 Standard Oil Co Mixed antimony oxide-uranium oxide oxidation catalyst
US3308151A (en) * 1965-01-11 1967-03-07 Standard Oil Co Process for the oxidation of olefinammonia mixtures to unsaturated nitriles
TR16751A (tr) * 1969-07-12 1973-05-01 Degussa Hidrojenleme safhasinda kiymetil madenden tasiyici katalizatoerler kullanilarak hidrojenper oksit imali usulleri
US4107280A (en) * 1977-08-01 1978-08-15 Battelle Memorial Institute Oxidation of hydrogen halides to elemental halogens with catalytic molten salt mixtures
US4729981A (en) * 1981-10-13 1988-03-08 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. ROR-activated catalyst for synthesis gas conversion
US4925819A (en) * 1983-11-10 1990-05-15 Exxon Research & Engineering Company Method of regenerating a deactivated catalyst
JPS61275104A (ja) 1985-05-28 1986-12-05 Mitsui Toatsu Chem Inc 塩素の製造方法
JPS61136902A (ja) 1984-12-03 1986-06-24 Mitsui Toatsu Chem Inc 塩素の製造方法
JPH0615402B2 (ja) 1985-11-14 1994-03-02 三井東圧化学株式会社 塩素の製造方法
JPS62270405A (ja) 1986-05-19 1987-11-24 Mitsui Toatsu Chem Inc 塩素の製造方法
US4738948A (en) * 1986-07-02 1988-04-19 Exxon Research And Engineering Company Cobalt-ruthenium catalysts for Fischer-Tropsch synthesis and process for their preparation
JP2602828B2 (ja) * 1987-04-14 1997-04-23 富士写真フイルム株式会社 スチルカメラ付きビデオカメラ
US5154911A (en) * 1989-11-02 1992-10-13 University Of Southern California Efficient method for the chemical production of chlorine and the separation of hydrogen chloride from complex mixtures
DE69006467T2 (de) * 1989-11-22 1994-05-26 Mitsui Toatsu Chemicals Verfahren zur Regenerierung eines Chromoxid-Katalysators.
US5084264A (en) * 1989-12-12 1992-01-28 Battelle Memorial Institute Process for oxidation of hydrogen halides to elemental halogens
JP3284879B2 (ja) 1995-05-18 2002-05-20 住友化学工業株式会社 塩素の製造方法
DE19533659A1 (de) * 1995-09-12 1997-03-13 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Chlor aus Chlorwasserstoff
US5837636A (en) * 1995-10-20 1998-11-17 Uop Llc Method for reducing chloride emissions from a catalyst regeneration process
US6475943B1 (en) * 1995-11-08 2002-11-05 Shell Oil Company Catalyst activation process
US5908607A (en) * 1996-08-08 1999-06-01 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Process for producing chlorine
JPH10338502A (ja) 1996-10-31 1998-12-22 Sumitomo Chem Co Ltd 塩素の製造方法
US6852667B2 (en) * 1998-02-16 2005-02-08 Sumitomo Chemical Company Limited Process for producing chlorine
JP3870596B2 (ja) 1998-02-16 2007-01-17 住友化学株式会社 塩素の製造方法
JP4081591B2 (ja) 1999-07-12 2008-04-30 住友化学株式会社 塩素の製造方法
JP3775179B2 (ja) 1999-08-05 2006-05-17 住友化学株式会社 担持酸化ルテニウム触媒の製造方法及び塩素の製造方法
US6800579B2 (en) * 2002-01-29 2004-10-05 Exxonmobil Research And Engineering Company Catalyst regeneration
DE10244996A1 (de) * 2002-09-26 2004-04-01 Basf Ag Katalysator für die katalytische Chlorwasserstoff-Oxidation
DE10336522A1 (de) * 2003-08-08 2005-02-24 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Chlor
JP4367381B2 (ja) 2005-06-29 2009-11-18 住友化学株式会社 塩素製造用触媒の賦活方法及び塩素の製造方法
DE102005061954A1 (de) * 2005-12-23 2007-07-05 Basf Ag Verfahren zur Wiedergewinnung von Ruthenium aus gebrauchten Rutheniumoxid-haltigen Katalysatoren

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62256930A (ja) * 1986-04-28 1987-11-09 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk ルテニウムを回収する方法
JP2002292279A (ja) * 2001-01-29 2002-10-08 Sumitomo Chem Co Ltd 担持酸化ルテニウム触媒および塩素の製造方法
JP2005289800A (ja) * 2004-03-22 2005-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素の製造方法
JP2006219325A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 酸化アルミニウム−酸化チタン混合成形体の製造方法
JP2007021484A (ja) * 2005-06-13 2007-02-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 酸化用触媒の製造方法、塩素の製造方法、並びに一酸化炭素及び／又は不飽和炭化水素の酸化方法
JP2007175700A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 担持ルテニウムの製造方法および塩素の製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010050546A1 (ja) * 2008-10-30 2010-05-06 住友化学株式会社 塩素の製造方法
JP2012513885A (ja) * 2008-12-30 2012-06-21 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 塩化水素酸化用の酸化ルテニウム含有触媒の再生方法
WO2010137504A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 住友化学株式会社 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
WO2010137505A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 住友化学株式会社 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
JP2010274217A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
JP2010274216A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
CN102413927A (zh) * 2009-05-29 2012-04-11 住友化学株式会社 氯制造用催化剂的活化方法和氯的制造方法
CN102448607A (zh) * 2009-05-29 2012-05-09 住友化学株式会社 氯制造用催化剂的活化方法以及氯的制造方法
DE112010002611T5 (de) 2009-05-29 2012-08-23 Sumitomo Chemical Company, Limited Verfahren zur Aktivierung eines Katalysators für die Chlorherstellung und Verfahren zur Herstellung von Chlor
US20120087855A1 (en) * 2009-06-10 2012-04-12 Basf Se Process for the oxidation of hydrogen chloride over a catalyst having a low surface roughness

Also Published As

Publication number Publication date
US8318125B2 (en) 2012-11-27
US20120128575A1 (en) 2012-05-24
KR101493545B1 (ko) 2015-02-13
CN101754808B (zh) 2013-11-13
KR20100044856A (ko) 2010-04-30
JP5169047B2 (ja) 2013-03-27
EP2181764A4 (en) 2011-08-24
US20100183499A1 (en) 2010-07-22
EP2181764A1 (en) 2010-05-05
BRPI0814117A2 (pt) 2015-02-03
WO2009014229A1 (ja) 2009-01-29
CN101754808A (zh) 2010-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5169047B2 (ja) 塩素の製造方法
US8889578B2 (en) Processes for regenerating sulfur-poisoned, ruthenium and/or ruthenium compound-containing catalysts
JP4935604B2 (ja) 担持酸化ルテニウムの製造方法
JP4367381B2 (ja) 塩素製造用触媒の賦活方法及び塩素の製造方法
US7858065B2 (en) Process for producing supported ruthenium and process for producing chlorine
JP4438771B2 (ja) 酸化用触媒の製造方法、塩素の製造方法、並びに一酸化炭素及び／又は不飽和炭化水素の酸化方法
US20210154657A1 (en) Method for regenerating a toxified catalyst containing ruthenium or ruthenium compounds
JP4839661B2 (ja) 塩素の製造方法
EP3900827A1 (en) Hydrogen chloride oxidation reaction catalyst for preparing chlorine, and preparation method therefor
JP5368883B2 (ja) 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
JP4487975B2 (ja) 酸化用触媒の製造方法、塩素の製造方法、並びに一酸化炭素及び／又は不飽和炭化水素の酸化方法
JP4479716B2 (ja) 担持ルテニウムの再生方法および塩素の製造方法
WO2010137504A1 (ja) 塩素製造用触媒の賦活方法および塩素の製造方法
JP5249716B2 (ja) 一酸化炭素および／または不飽和炭化水素の酸化方法
JP4432876B2 (ja) 塩素製造用触媒及び塩素の製造方法
JP5249717B2 (ja) 一酸化炭素および／または不飽和炭化水素の酸化方法
JP2008142696A (ja) フッ素含有化合物ガス分解用担体担持含硫黄ジルコニウム酸化物触媒及び当該触媒を用いたフッ素化合物含有化合物ガス又はフッ素含有化合物ガスを含む排ガスの分解方法
JP2011162382A (ja) 塩素の製造方法
JP5365540B2 (ja) 有機化合物の酸化方法
JP2012091977A (ja) 塩素の製造方法
JP2012135722A (ja) 担持酸化ルテニウムの製造方法及び塩素の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120904

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121101

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121217

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5169047

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160111

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350