JP2009021444A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法、および記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置は、ウエハWを回転可能に保持するスピンチャック20と、スピンチャック20によって保持されたウエハWの表面に洗浄液を供給する二流体ノズル10と、二流体ノズル10に連結され、当該二流体ノズル10を回転保持部20に保持されたウエハWの表面に沿って移動させる移動機構30と、を備えている。移動機構30には、移動機構30によって二流体ノズル10をウエハWの中央部からウエハWの周縁部に向かって移動させる際、n段階に分けて二流体ノズル10の移動速度vkを多段的に低下させるよう移動機構30を制御する制御部50が接続されている。制御部50は、ウエハWの中央部を洗浄する1段階目における二流体ノズル10の移動速度v1を、1段階目における二流体ノズル10の理想移動速度vd1よりも遅くする。
【選択図】図1
Description
k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、
制御部が、被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、
被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
前記コンピュータによって実行されることにより、洗浄部によって、回転保持部によって保持された被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄工程と、洗浄部に連結された移動機構によって、当該洗浄部を回転保持部に保持された被処理基板の表面に沿って移動させる移動工程と、を備え、k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
以下、本発明に係る基板洗浄装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図7は本発明の実施の形態を示す図である。
図1に示すように、基板洗浄装置は、被処理基板としての半導体ウエハW(以下、単にウエハWともいう)を回転可能に保持するスピンチャック(回転保持部)20と、スピンチャック20によって保持されたウエハWの表面に洗浄液を噴霧する二流体ノズル(洗浄部)10と、二流体ノズル10に連結され、当該二流体ノズル10をスピンチャック20に保持されたウエハWの表面に沿って移動させる移動機構30と、を備えている。なお、これらスピンチャック20、二流体ノズル10および移動機構30は、チャンバー11内に設置されている。
制御部50は、理想移動速度vdkに基づいて二流体ノズル10の移動速度vkを制御するとともに、ウエハWの中央部を洗浄する1段階目における二流体ノズル10の移動速度v1が
次に、上述した理想移動速度vdkの求め方について説明する。移動機構30が二流体ノズル10をr0毎に等距離で多段的に水平方向に移動させる場合には、
r=n×r0となり、
r0=r/n…(式1)
となる。
Sk’=Sk―Sk−1(ここでSkは半径k×r0の円の面積)
=π・rk 2―π・rk−1 2
=π・k2・r0 2―π・(k―1)2・r0 2
=π・(2k―1)・r0 2
となる(なお、S0=0)。
tk=t0×(2k−1)…(式2)とすればよい(t0は係数)。
rk=r0=vdk×tkとなるので、
vdk=r0/tk=r0/t0・(2k−1)…(式3)
となる。
次に、このような構成からなる本実施の形態による基板洗浄装置の作用効果について述べる。
〈実施例〉
11 チャンバー
12 外筒
16 洗浄液排出管
20 スピンチャック(回転保持部)
21 スピンベース
23 回転軸部
30 移動機構
31 回転軸部
32 アーム駆動機構
35 アーム
41 洗浄液タンク
42 気体供給機構
45 フィルタ
46,47 バルブ
48 洗浄液供給管
49 気体供給管
50 制御部
W ウエハ(被処理基板)
Claims (9)
- 被処理基板を回転可能に保持する回転保持部と、
回転保持部によって保持された被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄部と、
洗浄部に連結され、当該洗浄部を回転保持部に保持された被処理基板の表面に沿って移動させる移動機構と、
移動機構に接続され、移動機構によって洗浄部を被処理基板の中央部から被処理基板の周縁部に向かって移動させる際、n段階に分けて洗浄部の移動速度を多段的に低下させるよう移動機構を制御する制御部と、を備え、
k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、
制御部は、被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
- 制御部は、被処理基板の周縁端部を洗浄するn段階目における洗浄部の移動速度を、n段階目における洗浄部の理想移動速度
- 制御部は、k段階目における洗浄部の移動速度vkとした場合に、
- 制御部は、k段階目における洗浄部の移動速度vkとした場合に、洗浄部の移動速度vkを、基板の中央部側の被洗浄面を洗浄する段階、または、基板の中央部側の被洗浄面を洗浄する段階および基板の周縁部側の被洗浄面の洗浄する段階のみに限り、同じk段階の理想移動速度vdkより遅くすることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 回転保持部によって、被処理基板を回転可能に保持する保持工程と、
洗浄部によって、回転保持部によって保持された被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄工程と、
洗浄部に連結された移動機構によって、当該洗浄部を回転保持部に保持された被処理基板の表面に沿って移動させる移動工程と、を備え、
k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、
被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
- 被処理基板の周縁端部を洗浄するn段階目における洗浄部の移動速度を、n段階目における洗浄部の理想移動速度
- 洗浄部の移動速度vkを、
- k段階目における洗浄部の移動速度vkとした場合に、洗浄部の移動速度vkを、基板の中央部側の被洗浄面を洗浄する段階、または、基板の中央部側の被洗浄面を洗浄する段階および基板の周縁部側の被洗浄面の洗浄する段階のみに限り、同じk段階の理想移動速度vdkより遅くすることを特徴とする請求項5乃至7のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 基板洗浄装置を制御するコンピュータによって実行されるプログラムが記録された記録媒体であって、
前記コンピュータによって実行されることにより、
洗浄部によって、回転保持部によって保持された被処理基板の表面に洗浄液を供給する洗浄工程と、
洗浄部に連結された移動機構によって、当該洗浄部を回転保持部に保持された被処理基板の表面に沿って移動させる移動工程と、を備え、
k段階目(1≦k≦n)における洗浄部の理想移動速度vdkを
と定義づけた場合に、
被処理基板の中央部を洗浄する1段階目における洗浄部の移動速度を、1段階目における洗浄部の理想移動速度
前記基板洗浄装置に実施させることを特徴とする記録媒体。
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