JP2008532331A5 - ガス分配装置及び基板処理チャンバ - Google Patents

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[0026]図７Ａ及び図７Ｂは、本発明の実施形態に従うガス分配装置段部の横断面図である。図７Ａにおいて、ガス分配装置の段部は、ガス分配装置面で、トレッド部とライザ部とを含む。ライザ部は、トレッド部に対して直角、又は、好ましくは角度７１０でもよい。角度７１０は、約９０度から約１８０度の範囲が可能である。特定の実施形態において、角度７１０は、約４５度である。ガス分配装置面上のアパーチャは、段部のライザ部に配置されている。アパーチャは、ライザ部に対し直角であるか、或いは、図７Ｂに描写されているように、角度７２０である。（ライザ部に対し直角に孔を有することにより、小さな振動で、より正確な孔の機械加工を行う）例えば、角度７２０は、約１５度から約１２０度までの範囲が可能である。

Claims (15)

  1. 処理チャンバ内で使用されるガス分配装置であって、
    ガス供給に結合されるように構成されたねじ部を有する本体であって、前記本体はまた遠位面及び前記ねじ部と前記遠位面との間に延びる中央部を有し、前記本体はガス入口と、複数のガス出口と、前記複数のガス出口に前記ガス入口を連結する前記ねじ部と前記中央部を通って延びるガス通路とを更に含み、前記本体はねじ部と中央部との間に配置された側座部を含み、前記側座部は前記本体から前記側座部の外周へと外側に延び、ここで前記中央部は前記本体から前記遠位面に向かって前記側座部の外周から外側に延びる凹形に湾曲したガス偏向表面を含み、及び前記遠位面は中央平坦部と傾斜した段部表面により前記中央平坦部から隔てられた凹んだ周辺平坦部とを有する連続した表面を含み、及び前記中央平坦部は前記遠位面の中心から前記傾斜した段部表面へと放射状に延び且つその直径は０．０１から３インチであり、そして前記凹んだ周辺平坦部は前記中央平坦部に対して凹んでおり及び前記複数のガス出口は前記傾斜した段部表面に配置される、前記本体
    を備える、前記ガス分配装置。
  2. 前記ガス分配装置は、単体である、請求項１に記載のガス分配装置。
  3. 前記ガス分配装置は、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、サファイヤ、炭化珪素のうち少なくとも一つを備える、請求項１に記載のガス分配装置。
  4. 前記傾斜した段部表面は、前記遠位面で円を形成し、前記複数のガス出口は、前記傾斜した段部表面の周りに均等に分布されている、請求項１に記載のガス分配装置。
  5. 前記ガス出口での前記ガス通路の軸方向が、前記傾斜した段部表面の傾斜に対し垂直である、請求項１に記載のガス分配装置。
  6. 前記傾斜した段部表面の傾斜は、９０度から１８０度の範囲にある、請求項１に記載のガス分配装置。
  7. 前記ガス出口での前記ガス通路の軸方向と、前記傾斜した段部表面とのなす角度が、１２０度から１５度の範囲にある、請求項１に記載のガス分配装置。
  8. 前記凹形に湾曲したガス偏向表面と前記遠位面との間に延びる少なくとも一つの洗浄ガス通路を更に備える、請求項１に記載のガス分配装置。
  9. 前記複数のガス出口は、少なくとも８個のアパーチャを含む、請求項１に記載のガス分配装置。
  10. 第２の傾斜した段部表面と、前記第２の傾斜した段部表面を通る少なくとも第２の複数のガス出口とを更に備える、請求項１に記載のガス分配装置。
  11. 基板処理チャンバであって、
    天井と側壁とを有する包囲体と、
    基板を支持可能な基板支持体と、
    前記基板支持体の上方で中央に位置決めされ且つ前記天井から前記基板支持体に向かって延びるガス分配装置であって、ガス供給に結合されるように構成されたねじ部を有する本体を備え、前記本体はまた遠位面及び前記ねじ部と前記遠位面との間に延びる中央部を有し、前記本体はガス入口と、複数のガス出口と、前記複数のガス出口に前記ガス入口を連結する前記ねじ部と前記中央部を通って延びるガス通路とを更に含み、前記本体はねじ部と中央部との間に配置された側座部を含み、前記側座部は前記本体から前記側座部の外周へと外側に延び、ここで前記中央部は前記本体から前記遠位面に向かって前記側座部の外周から外側に延びる凹形に湾曲したガス偏向表面を含み、及び前記遠位面は中央平坦部と傾斜した段部表面により前記中央平坦部から隔てられた凹んだ周辺平坦部とを有する連続した表面を含み、及び前記中央平坦部は前記遠位面の中心から前記傾斜した段部表面へと放射状に延び且つその直径は０．０１から３インチであり、そして前記凹んだ周辺平坦部は前記中央平坦部に対して凹んでおり及び前記複数のガス出口は前記傾斜した段部表面に配置される、前記ガス分配装置と、
    を備える、前記基板処理チャンバ。
  12. 前記本体の一部の周りに配置され且つ凹形に湾曲したガス偏向表面に向かってガスを導くように適合された環状ガス通路を画成する最上部ベントを更に備える、請求項１１に記載の基板処理チャンバ。
  13. 前記ガス分配装置は、単体である、請求項１１に記載の基板処理チャンバ。
  14. 前記ガス分配装置は、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムのうち少なくとも一つを備える、請求項１１に記載の基板処理チャンバ。
  15. 前記ガス出口での前記ガス通路の軸方向と、前記傾斜した段部表面とのなす角度が、１２０度から１５度の範囲にある、請求項１１に記載の基板処理チャンバ。
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