JP2008519446A - 基板を処理するための方法、装置及びノズルユニット - Google Patents
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Abstract
Description
さらに超音波は、現像液の十分な混合を行い、その結果液体の局所的な飽和状態は避けられる。
図1は、本発明に基づくノズルユニットを処理すべき基板と関連して示す概略的な斜視図であり、
図2は、本発明に基づくノズルユニットの概略的な断面図であり、
図3は、本発明に基づくノズルユニットの概略的な下面図であり、
図4は、本発明に基づくノズルユニットの、基板に対する配置形式の異なる2つの実施例の概略的な断面図であり、
図5は、複数の超音波変換器を行列式に、つまり行方向若しくはX方向にも列方向若しくはY方向にも配列して成る本発明に基づくノズルユニットの概略図であり、
図6は、本発明に基づくノズルユニットの別の実施例の概略的な断面図である。
Claims (52)
- 基板を処理するための方法において、
処理すべき基板の局所的な表面領域に液体膜を、少なくとも1つの長尺のノズル装置及び該ノズル装置に隣接して配置された超音波変換装置若しくはメガ音波変換装置を備えたノズルユニットによって形成し、
前記超音波変換装置の少なくとも一部分を前記液体膜と接触させ、かつ
前記超音波変換装置によって超音波を前記液体膜内に作用させるようになっていることを特徴とする、基板を処理するための方法。 - 液体膜を、ノズルユニットの実質的に閉じられた底部構造部分と基板の処理すべき表面領域との間に形成する請求項1に記載の方法。
- 基板の種々の表面領域に液体膜を形成しかつ該表面領域内に超音波を作用させるために、ノズルユニットと基板との間の相対運動を生ぜしめる請求項1又は2に記載の方法。
- ノズルユニットと基板との間の相対運動の速度を変化させる請求項3に記載の方法。
- 相対運動の速度を、基板に対するノズルユニットの相対的な位置に依存して変化させる請求項4に記載の方法。
- 液体膜内への超音波の作用を処理中に変化させる請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
- 超音波の作用を基板に対するノズルユニットの相対的な位置に依存して変化させる請求項6に記載の方法。
- 液体膜内に作用される超音波の強さ及び/又は周波数を音波変換装置の少なくとも1つの部分領域で変化させる請求項6又は7に記載の方法。
- 基板への超音波の入射角を、基板の表面に対する音波変換装置の傾斜によって変える請求項6から8のいずれか1項に記載の方法。
- 基板の表面への超音波の入射角を105°と75°との間で変化させる請求項7に記載の方法。
- 音波変換装置は複数の変換器によって形成されており、各変換器を個別に及び/又はグループ毎に制御する請求項1から10のいずれか1項に記載の方法。
- 変換器を1つの列に沿って配置し若しくは行列式に配列してあり、該複数の変換器は異なる共振周波数を有している請求項11に記載の方法。
- 複数の変換器を互いに異なる強さ及び/又は周波数で制御する請求項11又は12に記載の方法。
- 液体膜を実質的に直線に沿って基板の全幅にわたって形成し、かつ超音波を実質的に直線に沿って基板の全幅にわたって前記液体膜内に作用させる請求項1から13のいずれか1項に記載の方法。
- 基板の幅にわたって超音波の作用を種々に制御する請求項1から14のいずれか1項に記載の方法。
- 液体膜の形成のための液体の組成を制御する請求項1から15のいずれか1項に記載の方法。
- ノズル装置は複数のノズルから成っており、複数のノズルを互いに異なって制御する請求項1から16のいずれか1項に記載の方法。
- 液体膜の形成のための局所的に互いに異なる液体若しくは量の互いに異なる液体を基板上に塗布する請求項15又は16に記載の方法。
- 液体膜を、音波変換装置の相対する側に配置された少なくとも2つのノズル装置を用いて形成する請求項1から18のいずれか1項に記載の方法。
- 音波変換装置の相対する側に配置されたノズルによって互いに異なる液体を供給する請求項18に記載の方法。
- 処理中に音波変換装置と基板の処理すべき表面との間に0.2乃至2.0mm、殊に0.7乃至1.4mmの平均的な間隔を維持する請求項1から20のいずれか1項に記載の方法。
- 平均的な間隔を処理中に変化させる請求項20に記載の方法。
- 液体膜の形成のための液体は現像液若しくはエッチング剤を含んでいる請求項1から22のいずれか1項に記載の方法。
- 液体膜は洗い流し液及び/又は洗浄液を含んでいる請求項1から23のいずれか1項に記載の方法。
- 変換器のうちの少なくとも1つの変換器を、液体膜内への超音波の作用中に少なくとも一時的に、センサーとして作動するように制御する請求項11から24のいずれか1項に記載の方法。
- 基板を液体及び超音波若しくはメガ音波によって処理するための装置において、
ノズルユニットを設けてあり、該ノズルユニットは、基板上への液体膜の形成のための長く延びるノズル装置及び該ノズル装置に隣接して配置されていて基板上の液体膜内への超音波若しくはメガ音波の作用のための変換装置を備えており、少なくとも1つのノズル装置及び変換装置は実質的に同じ方向に向いており、
基板及び/又はノズルユニットのための運動装置を設けてあり、該運動装置は基板の表面に対するノズルユニットの位置決めを行うようになっており、少なくとも1つのノズル装置及び超音波変換装置は基板の表面上に規定された間隔に調節され、かつ変換装置は基板の表面上に形成された液体膜と接触するようになっていることを特徴とする、基板を処理するための装置。 - 運動装置の制御のための制御装置を設けてあり、ノズル装置及び変換装置は基板の表面に対して所定の間隔で基板の上面に沿って移動させられるようになっている請求項26に記載の装置。
- 長く延びる別の少なくとも1つのノズル装置を設けてあり、変換装置は、長く延びる少なくとも2つのノズル装置間に配置されている請求項26又は27に記載の装置。
- 長く延びるノズル装置のうちの少なくとも1つのノズル装置は、変換装置の中央平面に向けられている請求項28に記載の装置。
- 変換装置は、複数の超音波用の変換器若しくはメガ音波用の変換器によって形成されている請求項26から29のいずれか1項に記載の装置。
- 複数の変換器は異なる共振周波数を有している請求項30に記載の装置。
- 複数の変換器は互いに隣接して一列に配置され若しくは行列式に配列されている請求項30又は31に記載の装置。
- 複数の変換器の個別若しくはグループ毎の制御のための制御装置を設けてある請求項30から32のいずれか1項に記載の装置。
- 変換器に生ぜしめられる周波数及び/又はエネルギーの変化のための制御装置を設けてある請求項30から33のいずれか1項に記載の装置。
- 変換装置の表面と基板の表面との間の角度の調節のための装置を設けてある請求項26から34のいずれか1項に記載の装置。
- 角度は0°と±15°との間で調節されるようになっている請求項35に記載の装置。
- 規定された平均の間隔は0.2mmと2mmとの間で、殊に0.7mmと1.4mmとの間で調節されるようになっている請求項26から36のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つのノズル装置への液体の供給のための装置を設けてある請求項26から37のいずれか1項に記載の装置。
- 互いに異なるノズル装置のため若しくはノズル装置の互いに異なる出口ノズルのための互いに異なる液体の供給の制御のための装置を設けてある請求項38に記載の装置。
- 少なくとも1つのノズル装置と変換装置とは共通の1つの本体に設けられていて、実質的に閉じられた底部構造部分を形成している請求項26から39のいずれか1項に記載の装置。
- 実質的に閉じられた底部構造部分は変換装置の領域でノズル装置の領域よりも突出している請求項40に記載の装置。
- 少なくとも1つのノズル装置と変換装置とは実質的に互いに平行に延びている請求項26から41のいずれか1項に記載の装置。
- 変換器を超音波センサー若しくはメガ音波センサーとして若しくは超音波送信器若しくはメガ音波送信器として制御するための装置を設けてある請求項26から42のいずれか1項に記載の装置。
- 長く延びる少なくとも1つのノズル装置及び該ノズル装置に隣接して配置された超音波変換装置若しくはメガ音波変換装置を備えたノズルユニットであり、ノズル装置と変換装置とは実質的に同じ方向に向いていて、ノズルユニットの実質的に閉じられた1つの底部構造部分を形成していることを特徴とする、ノズルユニット。
- 長く延びる別の少なくとも1つのノズル装置を設けてあり、変換装置は長く延びる少なくとも2つのノズル装置間に配置されている請求項44に記載のノズルユニット。
- 長く延びる少なくとも1つのノズル装置は、変換装置の中央平面に向けられている請求項44又は45に記載のノズルユニット。
- 変換装置は複数の超音波用の変換器若しくは複数のメガ音波用の変換器によって形成されている請求項46に記載のノズルユニット。
- 複数の変換器は互いに隣接して一列に配置され若しくは行列式に配列されている請求項47に記載のノズルユニット。
- 複数の変換器は異なる共振周波数を有している請求項47又は48に記載のノズルユニット。
- 変換装置と少なくとも1つのノズル装置とは実質的に互いに平行に延びている請求項44から49のいずれか1項に記載のノズルユニット。
- 基板を処理するための方法において、液体膜を基板の局所的な表面領域に、長く延びる少なくとも1つのノズル装置から成るノズルユニットによって形成し、ノズル装置の長さにわたって互いに異なる液体を塗布し、液体膜に超音波若しくはメガ音波を作用させることを特徴とする、基板を処理するための方法。
- 請求項1乃至17及び請求項19乃至24のうちの1つの請求項若しくは複数の請求項に記載の手段を組み合わせる請求項51に記載の方法である。
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