JP2008310842A - 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 Download PDF

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【課題】磁気ヘッドの動作をLUL時に安定して行うことができる磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】内周端面と外周端面とを面取り部を介して接続される表裏2つの主表面とでドーナツ状の円板を構成し、前記内周端面が成す穴に、情報記録装置を構成するスピンドルモータの回転自在なハブが嵌合して挿通され、該ハブに固定されるLUL方式で使用される磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板において、前記外周端面と接続される前記面取り部と前記主表面との境界であるCFエッジの真円度が2μm以下である。
【選択図】図1

Description

本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体に関する。
従来、コンピュータ等に用いられる磁気ディスク用基板としては、アルミニウム基板が一般的に用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化・薄板化とともに高記録密度化が図られ、磁気ヘッドの低浮上化とともに磁気ヘッド機構についてもCSS(Contact Start Stop)方式からLUL(Load Unload)方式に移行しつつある。LUL方式では、CSS方式に比べ磁気ヘッドの低浮上走行が可能であるため、より高密度記録が可能となり記録の大容量化に対応することができる。CSS方式からLUL方式への移行に伴い、アルミニウム基板に比べ硬度、強度ならびに平坦性に優れたガラス基板の採用が増えつつある。
磁気ディスクに使用するガラス基板は、平坦な主表面と、同心の外周端面と内周端面とを有するドーナツ状の形状をしている(特許文献1参照)。このガラス基板の主表面に磁性膜を設けて磁気ディスク(磁気記録媒体)としている。この磁気ディスクの内周端面で形成される穴を、HDD(ハードディスク駆動装置)を構成するSPM(スピンドルモータ)の回転軸(ハブ)に嵌め込んで固定する。これで、ガラス基板を基体とする磁気ディスクを高速で回転させることができ、この上を磁気ヘッドを浮上走行させることができる。
特開2006−236561号公報
特許文献1に記載のガラス基板の中心部の穴の直径の寸法精度を±20μm以内とすることで、磁気ディスク(磁気記録媒体)のHDD(ハードディスク駆動装置)への装着位置精度が向上するとしている。しかしながら、この装着位置精度の向上により磁気ディスクをHDDに良好に取り付けることができるが、動的、すなわち磁気ディスクを高速回転させた場合に磁気ディスクの挙動が起因してHDDの安定性が低下する場合がある。
ガラス基板は、内周端面と外周端面とを面取り部を介して接続される表裏2つの主表面とでドーナツ状の円板を構成する場合がある。ここで、外周端面と接続される面取り部と主表面との境界をCF(Chamfer:面取り)エッジと称することにする。
磁気ディスクのCFエッジがSPMのハブの中心に対して等距離となっていない場合、回転によるCFエッジの変動により、CFエッジと磁気ヘッドが停止するランプ位置との間隔が回転周期に合わせて変動することになる。このため、LUL方式のHDDにおいて、磁気ヘッドが磁気ディスク面から離陸・着陸する位置が変動することが考えられる。この間隔が変動することにより、LUL時のランプ位置から磁気ヘッドが記録媒体面上を浮上走行するまでの距離が変動することになる。
よって、HDDにおいて、CFエッジ付近では、LULの時、磁気ヘッドの動作が不安定なる。この結果、LUL動作時に磁気ヘッドがディスク面に衝突するヘッドクラッシュが発生することが考えられる。今後さらに磁気ディスクの回転速度の高速化が進むと、上記のCFエッジ位置の径方向の変動周期がより短くなることから、磁気ディスクのCFエッジ付近での磁気ヘッドの安定化を図ることはより困難になると考えられる。
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、磁気ヘッドの動作をLUL時に安定して行うことができる磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を提供することである。
上記の課題は、以下の構成により解決される。
1. 内周端面と外周端面とを面取り部を介して接続される表裏2つの主表面とでドーナツ状の円板を構成し、
前記内周端面が成す穴に、情報記録装置を構成するスピンドルモータの回転自在なハブが嵌合して挿通され、該ハブに固定されるLUL方式で使用される磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板において、
前記外周端面と接続される前記面取り部と前記主表面との境界であるCFエッジの真円度が2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
2. 前記境界の円周方向のうねりは、5μm乃至500μmの周期範囲で、最大値P−Vmaxが0.1μm以下であることを特徴とする1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
3. 前記内周端面の最内周の真円度が5μm以下であることを特徴とする1又は2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
4. 前記境界の中心と前記内周端面の最内周の中心との距離である同心度が5μm以下であることを特徴とする1乃至3の何れか一に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
5. 1乃至4の何れか一に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
本発明によれば、磁気記録媒体用ガラス基板をスピンドルモータのハブに固定する際に、外周端面と接続する面取り部と主表面との境界を基準に調整して固定することにより、磁気記録媒体用ガラス基板が回転する際、境界の径方向の振れは、2μm以下にすることができる。
よって、ハブに固定され高速回転される磁気記録媒体用ガラス基板の境界の振れは、LUL方式のHDD装置に使用する場合、ランプ位置と境界との間隔の変動量をLUL時の磁気ヘッドの動作が不安定とならない範囲とすることができる。
従って、磁気ヘッドの動作をLUL時に安定して行うことができる磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を提供することができる。
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。
図2は、本発明に係わる磁気記録媒体用ガラス基板1(以降、ガラス基板1とも称する。)の全体構成を示している。図2(a)はガラス基板を厚み方向に見た図を示し、(b)は(a)に示すA−A’における断面を示している。図2に示す様に、ガラス基板1は、中心に穴5が形成されたドーナツ状の円板形状をしている。7は主表面、8は面取り部、10tは外周端面、11は外周端面10tと接続される面取り部8と主表面7との境界(以降、CFエッジと称する。)、20tは内周端面、を示している。CFエッジ11、主表面7はガラス基板の表面、裏面にそれぞれあるが、どちらかの面に限定するものではない。
図1は、ガラス基板1を主表面7側から見た様子を、CFエッジ11及び内周端面の最内周20の形状を誇張して示している。図1において、10は外周端面の最外周、12はCFエッジ11に外接する円、14はCFエッジ11に内接する円、20は内周端面の最内周、22は内周端面の最内周20に外接する円、24は内周端面の最内周20に内接する円を示している。また、16はCFエッジの中心、26は内周端面の最内周20の中心を示している。
ここで、外周端面の最外周10とは、ガラス基板の主表面7に垂直な方向に投影して主表面と平行な面上にできる形状の外周を示す。また、内周端面の最内周20とは、ガラス基板を主表面に垂直な方向に投影して主表面と平行な面上にできる形状で、ガラス基板の穴の内周部分が投影されてできる形状の内周を示す。
CFエッジ11の中心及び内周端面の最内周20の中心は、最小二乗中心法(LSC)を用いて決めている。この方法で決めた中心に基づいて、CFエッジ11に外接する円及び内接する円を決めて、その半径の差をCFエッジ11の真円度とし、内周端面の最内周20に外接する円及び内接する円を決めて、その半径の差を内周端面の最内周20の真円度とする。また、内周端面の最内周20の中心とCFエッジ11の中心との距離を同心度とする。CFエッジにおける真円度は、次のようにして測定することが出来る。
(1)ガラス基板全域の干渉縞を得る。例えば、フィゾー型レーザ干渉計型式WYKO−400G(WYKO社)にて干渉縞を表示させる。
(2)干渉縞の縞データを取入れる。例えば、干渉縞をビデオカメラにて撮影し、ビデオ信号をデジタル信号に変換する装置(一般にグラバーと呼ばれる画像入出力ボード)にPC(パーソナルコンピュータ)を接続し、デジタルデータとしてPCに取り込む。
(3)干渉縞画像のエッジ強調処理をする。例えば、2値化、微分処理等が出来る一般の画像処理ソフトを用いて、PCに取り込んだデジタルデータにエッジ強調処理を行う。
(4)真円度を算出する。(3)で定義したエッジ部(輪郭)のデータを用いて最小二乗中心法(LSC)によりCFエッジ11の中心16を求める。この中心に基づいて内接円(半径r1)と外接円(半径r2)を求め、r2−r1をCFエッジの真円度とする。また、内接円と外接円との平均半径の周囲に沿って、うねりの最大値P−Vmaxを求める。この時、5μm乃至500μmの周期範囲として、最大値P−Vmaxは、基準長における輪郭曲線の山の高さ最大値と谷の深さの最大値と和し、JIS B 0601−2001の最大高さRzに準拠して求められる値である。
内周端面における真円度は、例えば、ラウンドテスト型式RA−H1500A(ミツトヨ(株))等を用いて測定することができる。また、同心度は、CFエッジ11の中心位置及び内周端面の最内周20の中心位置をそれぞれの測定方法で求めた外周端面の最外周を基準とする座標に換算する。次に、それぞれの測定方法で求めた外周端面の最外周を重ね合わせ、それぞれの中心位置の座標から中心間の距離を求めて同心度とすることができる。
本発明のガラス基板においては、CFエッジ11の真円度が2μm以下である。CFエッジの円周方向のうねり最大値P−Vmaxが0.1μm以下が好ましい。また、内周端面の最内周20の真円度が5μm以下が好ましい。更に、同心度は5μm以下が好ましい。
ガラス基板に磁性膜を設けて磁気ディスクとしてハードディスク駆動装置に組み込む場合、CFエッジ11を基準にして磁気ディスクをスピンドルモータの回転軸(ハブ)に取り付ける場合を考える。CFエッジ11の真円度が2μm以下であるため、磁気ディスクのCFエッジ11の径方向の振れを2μm以下とすることができる。よって、LUL方式のハードディスク駆動装置の場合、ランプと磁気ディスクのCFエッジ11との間隔変動を2μm以下とすることができる。従って、LUL動作時に磁気ヘッドの離陸・着陸位置を一定の範囲内にすることができ、LUL動作を安定して行うことができる。また、LUL時に要する時間変動が抑えられ磁気ヘッドの高速駆動時の信頼性も向上させることが出来る。更に、CFエッジの円周方向のうねり最大値P−Vmaxが0.1μm以下とすることで、上記のLUL動作を安定や磁気ヘッドの高速駆動時の信頼性をより良好とすることができる。
また、ガラス基板1の内周端面の最内周20の真円度を5μm以下とするのが好ましく、更に、ガラス基板1のCFエッジ11の中心と内周端面の最内周20の中心との距離である同心度を5μm以下とするのが好ましい。このようにすると、CFエッジ11を基準にガラス基板1をSPMのハブに固定する際、内周端面の最内周20がハブの外周と大きく偏ることなく適度な間隔を持ってバランス良く配置することができる。このため、ガラス基板をハブに容易に安定した状態で取り付け、固定することができる。
(磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程)
磁気記録媒体用ガラス基板の製造について説明する。図3に、磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す。まず、ガラス素材を溶融し(ガラス溶融工程)、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円盤状のガラス基板前駆体を得る(プレス成形工程)。なお、円盤状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
プレス成形されたガラス基板前駆体には、ダイヤモンド砥石で構成されているコアドリル等でドーナツ形状にする(コアリング工程)。コアリング工程において、ガラス基板前駆体に対して内周と外周とを同時に加工するコアリング装置の例を図4に示す。コアリング装置は、大きくは、一体型コアドリル50と保持シャフト59と保持台40とから構成される。また、一体型コアドリル50を刃先側から見た様子を図5に示す。
図4、図5に示す様に、一体型コアドリル50は、内周刃52と外周刃56とが一体的に構成されている。すなわち、内周刃52及び外周刃56は、それぞれ円筒形状をしており、それらの上端部分が互いに連結され、下端部分が開放状態である。内周刃52の上面部には、保持シャフト59が回転軸60の上下方向にスライド移動できる貫通穴が設けてある。内周刃52及び外周刃56の下端部分は、刃先53及び刃先57がそれぞれ形成してある。内周刃52の回転軸と外周刃56の回転軸と保持シャフト59とは、回転軸60を中心にした同心円を描いている。
保持シャフト59は、保持台40の上に積載した複数のガラス基板前駆体72の積層体70を下向きに押圧することができる。こうすることにより、コアドリルによる外周・内周加工において、ガラス基板前駆体72が保持台40に固定することができるとともに、コアドリル50の回転軸60がガラス基板前駆体72を介して保持台40で支持される。従って、コアドリル50を軸ブレすることなく安定して回転させることができる。
保持シャフト59でガラス基板前駆体72の積層体70を保持台40に保持した状態で、コアドリル50を押下することで積層体70は、外周、内周が同時に加工されドーナツ状のガラス基板を得ることができる。このように一体型コアドリル50を用いて外周、内周を同時にガラス基板前駆体を加工すると、製造工程の初期の段階で、完成品である磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面の最外周の真円度、内周端面の最内周の真円度、及び同心度を良好にすることができる。
図3に戻って、ガラス基板の両表面を例えばダイヤモンドペレットを用いた公知の両面研磨機に研削液を供給しながら研磨加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する(第1ラッピング工程)。
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面を、研削し面取りして、ガラス基板の外径寸法および真円度、穴の内径寸法、並びにガラス基板の外周端面の最外周と内周端面の最内周との同心度を微調整する(内・外径加工工程)。内・外径加工は、例えば、特開2006−55985号公報に記載されているディスク基板の周縁研削装置等を用いることができる。この装置は、ガラス基板を回転させた状態で保持し、内周研削用回転砥石、外周研削用回転砥石をNC制御により移動させて、ガラス基板の外周端面、内周端面を研削加工することができる。
この後、ガラス基板の内周端面を研磨して微細なキズ等を除去する(内周端面加工工程)。この内周端面加工工程及び後述の外周端面加工は、研磨剤を用いたブラシ研磨等で行うものであって、加工による形状変化はほとんどなく表面を鏡面化する。
次に、ガラス基板の両表面を第1ラッピング工程より目の細かいダイヤモンドペレットを用いて再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平面度および厚みを微調整する(第2ラッピング工程)。次に、ガラス基板の外周端面を研磨して微細なキズ等を除去する(外周端面加工工程)。
次に、ガラス基板を洗浄した後、耐衝撃性や耐振動性等の向上を目的として、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する(化学強化工程)。化学強化方法としては、従来より公知の化学強化法であれば特に制限されないが、例えば、ガラス転移点の観点から転移温度を超えない領域でイオン交換を行う低温型化学強化などが好ましい。化学強化に用いるアルカリ溶融塩としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、あるいは、それらを混合した硝酸塩などが挙げられる。
この後、ガラス基板の表面をパッドにウレタン発泡やスウェード等を用いた公知の両面研磨機に酸化セリウム等を研磨剤とする研磨液を供給しながら精密に仕上げる研磨加工を行う(ポリッシング工程)。ポリッシング工程は、製造効率や必要な面粗さ等によりパッドや研磨剤を変えて第1ポリッシング工程、第2ポリッシング工程のように複数の工程に分けても良い。使用するパッドや研磨液、研磨機の設定条件を調整することで面粗さをRz(最大高さ)が2nmから6nm、Ra(算術平均粗さ)が0.2nmから0.4nmの範囲とすることができる。尚、平面度は5μm以下とすることができる。そして洗浄工程及び検査工程を経て、製品としての磁気記録媒体用ガラス基板となる。
ここで、Ra(算術平均粗さ)、Rz(最大高さ)は、JIS B0601 2001で規定されている。これらは、原子間力顕微鏡(AFM)等により測定することができる。
尚、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するためのアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。また、ポリッシング工程によって、ガラス基板の表面の化学強化された領域が減少するが、ポリッシング工程の後のガラス基板の表面に化学強化された領域が残っているか否か、あるいは残っている強化された領域の厚みについては制限はない。
このようにして、磁気記録媒体用ガラス基板は製造される。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板のCFエッジの真円度、CFエッジの円周方向のうねり、内周端の最内周の真円度及び同心度は、コアリング工程、内・外径加工工程、内周端面加工工程及び外周端面加工工程での条件を適宜調整することにより得られる。
(ガラス基板の材料)
ガラス基板の材料としては、イオン交換による化学強化が可能なガラスであれば特に制限はない。例えば、SiO2、Na2O、CaOを主成分としたソーダライムガラス;SiO2、Al23、R2O(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラス;ボロシリケートガラス;Li2O−SiO2系ガラス;Li2O−Al23−SiO2系ガラス;R’O−Al23−SiO2系ガラス(R’=Mg、Ca、Sr、Ba)などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
(磁気記録媒体)
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板1は、このガラス基板1の表面に磁性膜(図示しない)を設けて磁気記録媒体(磁気ディスク)とするのが好ましい。
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Coを主成分とするCoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiOなどが挙げられる。また、磁性膜を非磁性膜(例えば、Cr、CrMo、CrVなど)で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
磁性膜として、上記のCo系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、SiO2、BNなどからなる非磁性膜中にFe、Co、CoFe、CoNiPt等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
磁気記録媒体Dには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Cr、Cr合金、C、ZrO2、SiO2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル(PFPE)等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
磁気記録媒体用ガラス基板として、図3の製造工程に沿って外径φ1=65mm、内径φ2=20mm、板厚d=0.635mmのアルミノシリケートガラス基板を製造した。
具体的には、SiO2、Al23、R2O(R=K、Na、Li)を主成分とするガラス素材を溶融し(ガラス溶融工程)、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円盤状のガラス基板前駆体を得た(プレス成形工程)。
プレス成形したガラス基板前駆体に対して、図4に示すコアリング装置を用いて内周と外周とを同時に加工してドーナツ形状とした。(コアリング工程)。次に、ガラス基板の両表面をダイヤモンドペレットを備えた公知の両面研磨機にて研削液を供給しながら研磨加工し、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整した(第1ラッピング工程)。
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面を鼓状のダイヤモンド砥石を備えた周縁研削装置にて研削し約0.1mmの面取りをした。(内・外径加工工程)。
次に、ガラス基板の内周端面を研磨液を供給しながらブラシ研磨を行い微細なキズ等を除去した(内周端面加工工程)。
次に、ガラス基板の両表面を第1ラッピング工程より目が細かいダイヤモンドペレットを備えた公知の両面研磨機にて研削液を供給しながら再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整した(第2ラッピング工程)。そして、ガラス基板の外周端面を研磨液を供給しながらブラシ研磨を行い微細なキズ等を除去した(外周端面加工工程)。外周端面加工工程は、上記の内周端面加工工程と同じく、端面及び面取り部をより精密に研磨して鏡面状態に仕上げるためであるので、CFエッジの形状への影響はない。
次に、ガラス基板を洗浄した後、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成した(化学強化工程)。化学強化液は、NaNO3とKNO3とを質量比1:9の割合とした化学強化剤を化学強化槽に投入し330℃に加熱したものとした。
この後、ガラス基板の表面をパッドを備えた公知の両面研磨機にて研磨液を供給しながら精密に仕上げる研磨加工を行った(ポリッシング工程)。そして洗浄及び検査が行われ、磁気記録媒体用ガラス基板を完成させた。
加工したガラス基板の全てにおいて、平面度は、4μm以下、面粗さはRzが2nmから6nm、Raが0.2nmから0.4nmの範囲であった。
コアリング工程における加工条件は、内周刃及び外周刃のダイヤモンド砥石の粗さを#600と細かい目に設定し加工装置の精度を損なわない様に回転数を設定し、加工状態を観察しながら切り込み量を調整して加工を行った。
内・外径加工工程では周縁研削装置を用い、条件式(1)に沿って条件を変えて加工を行った。
(L×Y)/X (1)
但し、
X:ダイヤモンド砥石の粗さ
外径砥石に設定する粗さXの範囲:300番から500番
内径砥石に設定する粗さXの範囲:250番から400番
L:砥石の直径L
外径砥石の直径L:99mm
内径砥石の直径L:16.2mm
Y:砥石の回転速度
外径砥石に設定する回転数Yの範囲:3000rpmから5000rpm
内径砥石に設定する回転数Yの範囲:10000rpmから15000rpm
従って、外径加工条件及び内径加工条件における条件式(1)を満たす範囲は次の通りとなる。尚、数値の単位は「mm・rpm/番」となるが省略する。
外径加工条件範囲:594から1650
内径加工条件範囲:405から972
上記の外径加工条件範囲及び内径加工条件範囲は、これまでの発明者らの経験から良好な生産性を保ち且つ良好なうねり、真円度が達成出来ると予想される範囲であって、この条件範囲で条件値を変えて加工を行った結果、以下の結果が得られた。
(1)外周加工条件を594から1100の範囲でCFエッジの真円度を2μm以下とすることができる。
(2)外周加工条件を594から900の範囲で、CFエッジの真円度を2μm以下、且つ、うねりを0.1μm以下とすることができる。
(3)内周加工条件を405から700の範囲で内周端面の最内周の真円度を5μm以下とすることができる。
(4)外周加工条件を594から1100の範囲、且つ、内周加工条件を405から550の範囲で、同心度5μm以下とすることができる。
真円度、同心度は、フィゾー型レーザ干渉計型式WYKO−400G(WYKO社、画像解析ソフトウエアを含む)、ラウンドテスト型式RA−H1500A(ミツトヨ(株))を用いて測定した。またうねり最大値P−Vmaxは、WYKO−400G(画像解析ソフトウエア含む)を用いて測定した。
上記の加工条件を踏まえて、外径加工条件、内径加工条件を組み合わせてサンプルNo.1からNo.8の加工を行った。この加工結果を表1に示す。
Figure 2008310842
この後、ガラス基板を洗浄した後、このガラス基板に磁性膜を設けて磁気記録媒体とした。磁性膜は、ガラス基板側から、Ni−Alからなる下地層(厚み約100nm)、Co−Cr−Ptからなる記録層(厚み20nm)、DLC(Diamond Like Carbon)からなる保護膜(厚み5nm)を順次積層した。
ここで、ガラス基板の表面に磁性膜を設けて磁気記録媒体としているが、積層されている膜厚は上記の通り約0.125μmと薄く、ガラス基板の状態で測定した上記の真円度、同心度の測定値は、磁性膜を設けることによる影響をほとんど受けることはないため、磁気記録媒体においても同じ値として扱うことができる。
完成したサンプルNo.1からNo.9の磁気記録媒体をSPMのハブに固定し磁気ディスク記録装置に組み込み、LUL動作を繰り返し行うLUL耐久試験をした。この結果、を表1の判定でLUL動作の欄に示し、この欄の記号は以下を示している。
◎:良好なLUL動作の繰り返し回数が70万回以上であった。
○:良好なLUL動作の繰り返し回数が50万回以上であった。
×:良好なLUL動作の繰り返し回数が50万回未満であった。
また、磁気記録媒体の内周端面の最内周がハブにバランス良く配置できるか否かを、CFエッジを基準に磁気記録媒体をハブに挿入して固定することが容易であったか否かにて判定した。この結果を表1の判定で取り付けの欄に示し、この欄の記号は以下を示している。
○:容易であった。
×:容易でなかった。
磁気記録媒体用ガラス基板のCFエッジの真円度、内周端面の最内周の真円度及び同心度を説明する図である。 (a)は磁気記録媒体用ガラス基板の厚み方向から見た図を示し、(b)は(a)に示すA−A’における断面を示す図である。 記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す図である。 コアリング工程で使用するコアリング装置を説明する図である。 コアリング装置で使用する内周刃と外周刃とが一体となっている一体型コアドリルを説明する図である。
符号の説明
1 磁気記録媒体用ガラス基板(ガラス基板)
5 穴
7 主表面
10 外周端面の最外周
10t 外周端面
11 CFエッジ
12 CFエッジに外接する円
14 CFエッジに内接する円
16 CFエッジの中心
20 内周端面の最内周
20t 内周端面
22 内周端面に外接する円
24 内周端面に内接する円
26 内周端面の中心

Claims (5)

  1. 内周端面と外周端面とを面取り部を介して接続される表裏2つの主表面とでドーナツ状の円板を構成し、
    前記内周端面が成す穴に、情報記録装置を構成するスピンドルモータの回転自在なハブが嵌合して挿通され、該ハブに固定されるLUL方式で使用される磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板において、
    前記外周端面と接続される前記面取り部と前記主表面との境界であるCFエッジの真円度が2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
  2. 前記境界の円周方向のうねりは、5μm乃至500μmの周期範囲で、最大値P−Vmaxが0.1μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
  3. 前記内周端面の最内周の真円度が5μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
  4. 前記境界の中心と前記内周端面の最内周の中心との距離である同心度が5μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
  5. 請求項1乃至4の何れか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
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